JPH05299404A - 板状体の洗浄装置 - Google Patents
板状体の洗浄装置Info
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- JPH05299404A JPH05299404A JP9838492A JP9838492A JPH05299404A JP H05299404 A JPH05299404 A JP H05299404A JP 9838492 A JP9838492 A JP 9838492A JP 9838492 A JP9838492 A JP 9838492A JP H05299404 A JPH05299404 A JP H05299404A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】洗浄槽の中に渦流れや淀みのない整流された一
方向の洗浄液の流れを維持してパーティクルを速やかに
流出させる。 【構成】開口部１ａを持つ洗浄槽１の中に、保持具２で
保持される複数の半導体ウェハ３を、その面を垂直にし
て、多数の給水小穴５を持つすのこ６の上に載せる。す
のこ６と底の間に多数の細孔７ａを持つ複数の給水管７
を配置して給水管７から純水を供給し、すのこ６から洗
浄槽１の水平断面の全領域にわたる垂直上方に向かう純
水の流れ９を起こす。洗浄槽１の開口部１ａに開閉可能
に設けられる排水蓋１３の全領域にほぼ均一に配置され
る多数の排水小穴１４を設け、排水小穴１４は複数の支
管１５と枝管１６を介して排水管１７に接続される。渦
流れや淀みがないからパーティクル８は漂うことなく流
出する。
方向の洗浄液の流れを維持してパーティクルを速やかに
流出させる。 【構成】開口部１ａを持つ洗浄槽１の中に、保持具２で
保持される複数の半導体ウェハ３を、その面を垂直にし
て、多数の給水小穴５を持つすのこ６の上に載せる。す
のこ６と底の間に多数の細孔７ａを持つ複数の給水管７
を配置して給水管７から純水を供給し、すのこ６から洗
浄槽１の水平断面の全領域にわたる垂直上方に向かう純
水の流れ９を起こす。洗浄槽１の開口部１ａに開閉可能
に設けられる排水蓋１３の全領域にほぼ均一に配置され
る多数の排水小穴１４を設け、排水小穴１４は複数の支
管１５と枝管１６を介して排水管１７に接続される。渦
流れや淀みがないからパーティクル８は漂うことなく流
出する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、純水などの洗浄液に
よって半導体ウェハなどの板状体を洗浄する洗浄装置に
関する。
よって半導体ウェハなどの板状体を洗浄する洗浄装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェハを洗浄するには、８０℃前
後の薬液で煮沸し、その後、純水で水洗する。この水洗
方法には、図２に示す従来例１のＱＤＲ（クイックダン
プリンス）洗浄槽を使用するもの、又は図３に示す従来
例２のオーバフロー（アップフロー）洗浄槽を使用する
ものがある。
後の薬液で煮沸し、その後、純水で水洗する。この水洗
方法には、図２に示す従来例１のＱＤＲ（クイックダン
プリンス）洗浄槽を使用するもの、又は図３に示す従来
例２のオーバフロー（アップフロー）洗浄槽を使用する
ものがある。
【０００３】図２において、上部に開口部２１ａを持つ
有底筒状の洗浄槽２１の中には、保持具２に保持される
複数の半導体ウェハ３などの板状体がその面を垂直にし
て収納可能であり、洗浄槽２１の下部にドレインバルブ
２４ａを持つ排水管２４が接続される。保持具２は多数
の給水小穴５を持つすのこ６の上に載せられ、すのこ６
と洗浄槽２１の底との空間に多数の細孔７ａを持つ複数
の給水管７が配置され、開口部２１ａの上方にシャワー
２５が配置される。薬液の付いた半導体ウェハ３を洗浄
するとき、槽内の純水をすばやく置換するため、排水管
２４のドレインバルブ２４ａを開いて一気にドレイン
し、同時に半導体ウェハ３が乾燥しないようにし，あわ
せてパーティクル８を洗い流すためにシャワー２５から
純水をシャワーする。保持具２は実開平３−１０６５７
４公報などに詳しく示され、一対の側板の間を少なくと
も３本の溝付棒で接続し、各半導体ウェハ３を３点の溝
で前記側板と平行に支持するものを使用してもよい。
有底筒状の洗浄槽２１の中には、保持具２に保持される
複数の半導体ウェハ３などの板状体がその面を垂直にし
て収納可能であり、洗浄槽２１の下部にドレインバルブ
２４ａを持つ排水管２４が接続される。保持具２は多数
の給水小穴５を持つすのこ６の上に載せられ、すのこ６
と洗浄槽２１の底との空間に多数の細孔７ａを持つ複数
の給水管７が配置され、開口部２１ａの上方にシャワー
２５が配置される。薬液の付いた半導体ウェハ３を洗浄
するとき、槽内の純水をすばやく置換するため、排水管
２４のドレインバルブ２４ａを開いて一気にドレイン
し、同時に半導体ウェハ３が乾燥しないようにし，あわ
せてパーティクル８を洗い流すためにシャワー２５から
純水をシャワーする。保持具２は実開平３−１０６５７
４公報などに詳しく示され、一対の側板の間を少なくと
も３本の溝付棒で接続し、各半導体ウェハ３を３点の溝
で前記側板と平行に支持するものを使用してもよい。
【０００４】図３に示すオーバフロー洗浄槽において、
上部に開口部１ａを持つ有底筒状の洗浄槽１の中には、
保持具２に保持される複数の半導体ウェハ３などの板状
体がその面を垂直にして収納可能である。保持具２は、
多数の給水小穴５を持つすのこ６の上に載せられ、すの
こ６と洗浄槽１の底との空間に多数の斜め上方に向く細
孔７ａを持つ複数の給水管７が配置される。給水管７か
ら純水を供給すれば、細孔７ａは斜め上方を向き、多数
の給水小穴５を持つすのこ６は多少の流体抵抗を持つの
で、給水管７からの動圧が給水小穴５に直接に不均一に
到達することを防ぎ、すのこ６からは洗浄槽１の水平断
面の全領域にわたる垂直上方に向かう純水の流れ９が生
じる。このため、多数の給水小穴５を持つすのこ６と、
多数の斜め上方に向く細孔７ａを持つ複数の給水管７と
は均一給水手段１１を構成するとともに、動圧防止手段
１２を構成するといえる。純水はパーティクル８ととも
に洗浄槽１内を上昇し開口部１ａからオーバフローす
る。
上部に開口部１ａを持つ有底筒状の洗浄槽１の中には、
保持具２に保持される複数の半導体ウェハ３などの板状
体がその面を垂直にして収納可能である。保持具２は、
多数の給水小穴５を持つすのこ６の上に載せられ、すの
こ６と洗浄槽１の底との空間に多数の斜め上方に向く細
孔７ａを持つ複数の給水管７が配置される。給水管７か
ら純水を供給すれば、細孔７ａは斜め上方を向き、多数
の給水小穴５を持つすのこ６は多少の流体抵抗を持つの
で、給水管７からの動圧が給水小穴５に直接に不均一に
到達することを防ぎ、すのこ６からは洗浄槽１の水平断
面の全領域にわたる垂直上方に向かう純水の流れ９が生
じる。このため、多数の給水小穴５を持つすのこ６と、
多数の斜め上方に向く細孔７ａを持つ複数の給水管７と
は均一給水手段１１を構成するとともに、動圧防止手段
１２を構成するといえる。純水はパーティクル８ととも
に洗浄槽１内を上昇し開口部１ａからオーバフローす
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来例１のＱＤ
Ｒ洗浄槽においては、洗浄中の給水管７からの乱水流が
洗浄槽２１の中で渦流れを生じてパーティクル８が洗浄
槽２１内にいつまでも漂って洗い流すことができず、ま
たドレインのときに、水面近傍に漂っているパーティク
ル８が半導体ウェハ３の表面に再付着したりする。ま
た、従来例２のオーバフロー洗浄槽１においては、すの
こ６からは洗浄槽１の水平断面の全領域にわたる垂直上
方に向かう純水の流れ９が生じるようにしても、オーバ
フローによる洗浄槽１の開口部１ａのエッジによる渦流
れ３９ａがパーティクル８をいつまでも槽内に漂わせ、
洗浄槽１の中央部の純水表面の渦流れ３９ｂにパーティ
クル８が淀んでなかなかオーバフローしない。このよう
にして、いずれの従来例も渦流れや淀みのために洗浄槽
からの流出を逃れたパーティクル８が半導体ウェハ３に
再付着し、半導体ウェハプロセスにおける不良率に影響
する。
Ｒ洗浄槽においては、洗浄中の給水管７からの乱水流が
洗浄槽２１の中で渦流れを生じてパーティクル８が洗浄
槽２１内にいつまでも漂って洗い流すことができず、ま
たドレインのときに、水面近傍に漂っているパーティク
ル８が半導体ウェハ３の表面に再付着したりする。ま
た、従来例２のオーバフロー洗浄槽１においては、すの
こ６からは洗浄槽１の水平断面の全領域にわたる垂直上
方に向かう純水の流れ９が生じるようにしても、オーバ
フローによる洗浄槽１の開口部１ａのエッジによる渦流
れ３９ａがパーティクル８をいつまでも槽内に漂わせ、
洗浄槽１の中央部の純水表面の渦流れ３９ｂにパーティ
クル８が淀んでなかなかオーバフローしない。このよう
にして、いずれの従来例も渦流れや淀みのために洗浄槽
からの流出を逃れたパーティクル８が半導体ウェハ３に
再付着し、半導体ウェハプロセスにおける不良率に影響
する。
【０００６】この発明の目的は、洗浄槽の中に渦流れや
淀みのない整流された一方向の洗浄液の流れを維持して
パーティクルを速やかに流出させることができる板状体
の洗浄装置を提供することにある。
淀みのない整流された一方向の洗浄液の流れを維持して
パーティクルを速やかに流出させることができる板状体
の洗浄装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】発明１の板状体の洗浄装
置は、保持具に保持される複数の板状体の面を垂直にし
て収納可能であって、上部に開口部を持つ有底筒状の洗
浄槽と、この洗浄槽の下部に接続する給水管とからなる
板状体の洗浄装置において、前記開口部に開閉可能に設
けられる排水蓋と、前記給水管と前記板状体との間に設
けられる均一給水手段とを備え、前記排水蓋は、前記洗
浄槽の上部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置される
多数の排水小穴を備え、前記均一給水手段は、前記洗浄
槽の下部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置され前記
給水管に連通する多数の給水小穴と、前記給水管からの
動圧が前記給水小穴に直接に不均一に到達することを防
ぐ動圧防止手段とを備えるものである。このとき、発明
２で前記排水小穴を複数の支管を介して排水管に接続し
たり、発明３で前記排水小穴を前記排水蓋の上面に設け
られる空洞を介して排水管に接続したりできる。
置は、保持具に保持される複数の板状体の面を垂直にし
て収納可能であって、上部に開口部を持つ有底筒状の洗
浄槽と、この洗浄槽の下部に接続する給水管とからなる
板状体の洗浄装置において、前記開口部に開閉可能に設
けられる排水蓋と、前記給水管と前記板状体との間に設
けられる均一給水手段とを備え、前記排水蓋は、前記洗
浄槽の上部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置される
多数の排水小穴を備え、前記均一給水手段は、前記洗浄
槽の下部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置され前記
給水管に連通する多数の給水小穴と、前記給水管からの
動圧が前記給水小穴に直接に不均一に到達することを防
ぐ動圧防止手段とを備えるものである。このとき、発明
２で前記排水小穴を複数の支管を介して排水管に接続し
たり、発明３で前記排水小穴を前記排水蓋の上面に設け
られる空洞を介して排水管に接続したりできる。
【０００８】発明４の板状体の洗浄装置は、保持具に保
持される複数の板状体の面を垂直にして収納可能であっ
て、上部に開口部を持つ有底筒状の洗浄槽を備える板状
体の洗浄装置において、前記開口部と前記洗浄槽の下部
との間に存在し、前記洗浄槽の水平断面の全領域にわた
り、実質的に渦流れがなく整流され垂直方向に向かう洗
浄液の流れを備えるものである。
持される複数の板状体の面を垂直にして収納可能であっ
て、上部に開口部を持つ有底筒状の洗浄槽を備える板状
体の洗浄装置において、前記開口部と前記洗浄槽の下部
との間に存在し、前記洗浄槽の水平断面の全領域にわた
り、実質的に渦流れがなく整流され垂直方向に向かう洗
浄液の流れを備えるものである。
【０００９】発明５の板状体の洗浄装置は、保持具に保
持される複数の板状体の面を垂直にして収納可能であっ
て、上部に開口部を持つ有底筒状の洗浄槽を備える板状
体の洗浄装置において、洗浄液の給水側と排水側との間
に存在して前記板状体の面に沿い、前記洗浄槽内の流れ
と直角な全領域にわたり、実質的に渦流れがなく整流さ
れた洗浄液の流れを備えるものである。
持される複数の板状体の面を垂直にして収納可能であっ
て、上部に開口部を持つ有底筒状の洗浄槽を備える板状
体の洗浄装置において、洗浄液の給水側と排水側との間
に存在して前記板状体の面に沿い、前記洗浄槽内の流れ
と直角な全領域にわたり、実質的に渦流れがなく整流さ
れた洗浄液の流れを備えるものである。
【００１０】
【作用】発明１において、図１を参照する。均一給水手
段１１と動圧防止手段１２とにより、すのこ６からは洗
浄槽１の水平断面の全領域にわたる垂直上方に向かう純
水の流れ９が生じ、この垂直な純水の流れ９は洗浄槽１
の上部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置される多数
の排水小穴１４を持つ排水蓋１３に捕捉され排水され
る。このため、洗浄槽１の水平断面の全領域にわたり、
実質上に渦流れや淀みがない整流され垂直方向に向かう
洗浄液の流れが生じ、排水蓋１３の上面から均一にオー
バフローする。パーティクル８は洗浄槽１内に漂うこと
なくストレートに排出される。このとき、排水小穴１４
を支管１５や空間を介して排水管１７に接続すれば、排
水の回収が便利である。
段１１と動圧防止手段１２とにより、すのこ６からは洗
浄槽１の水平断面の全領域にわたる垂直上方に向かう純
水の流れ９が生じ、この垂直な純水の流れ９は洗浄槽１
の上部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置される多数
の排水小穴１４を持つ排水蓋１３に捕捉され排水され
る。このため、洗浄槽１の水平断面の全領域にわたり、
実質上に渦流れや淀みがない整流され垂直方向に向かう
洗浄液の流れが生じ、排水蓋１３の上面から均一にオー
バフローする。パーティクル８は洗浄槽１内に漂うこと
なくストレートに排出される。このとき、排水小穴１４
を支管１５や空間を介して排水管１７に接続すれば、排
水の回収が便利である。
【００１１】発明４は、発明１の構造や洗浄槽１を上方
に延長するものやテーパ形細まり管を使用するものなど
により、洗浄液の給水側から排水側との間に存在して前
記板状体の面に沿い、前記洗浄槽内の流れと直角な全領
域にわたり、実質的に渦流れがなく整流された洗浄液の
流れを備えるものであるから、パーティクル８は洗浄槽
１内に漂うことなくストレートに排出されることとな
る。発明５は発明４において、更に洗浄液の水平流れを
含む構成であり、パーティクル８は洗浄槽１内に漂うこ
となくストレートに排出されることとなる。
に延長するものやテーパ形細まり管を使用するものなど
により、洗浄液の給水側から排水側との間に存在して前
記板状体の面に沿い、前記洗浄槽内の流れと直角な全領
域にわたり、実質的に渦流れがなく整流された洗浄液の
流れを備えるものであるから、パーティクル８は洗浄槽
１内に漂うことなくストレートに排出されることとな
る。発明５は発明４において、更に洗浄液の水平流れを
含む構成であり、パーティクル８は洗浄槽１内に漂うこ
となくストレートに排出されることとなる。
【００１２】なお、ここで洗浄液の流れは渦流れがなけ
ればよく、流れと直角な面における速度分布が同一であ
ることを要しない。
ればよく、流れと直角な面における速度分布が同一であ
ることを要しない。
【００１３】
【実施例】図１は実施例の洗浄装置の縦断面図であり、
従来例２と同一符号をつけるものはおよそ同一機能を持
ち、始めに重複する構造部分を説明する。図において、
上部に開口部１ａを持つ有底筒状の洗浄槽１の中には、
保持具２に保持される複数の半導体ウェハ３などの板状
体がその面を垂直にして収納可能である。保持具２は多
数の給水小穴５を持つすのこ６の上に載せられ、すのこ
６と洗浄槽１の底との空間に多数の斜め上方に向く細孔
７ａを持つ複数の給水管７が配置される。給水管７から
純水を供給すれば、細孔７ａは斜め上方を向き、多数の
給水小穴５を持つすのこ６は多少の流体抵抗を持つの
で、給水管７からの動圧が給水小穴５に直接に不均一に
到達することを防ぎ、すのこ６からは洗浄槽１の水平断
面の全領域にわたる垂直上方に向かい流速が均一化され
た純水の流れ９が生じる。このため、多数の給水小穴５
を持つすのこ６と、多数の斜め上方に向く細孔７ａを持
つ複数の給水管７とは均一給水手段１１を構成するとと
もに、動圧防止手段１２を構成するといえる。
従来例２と同一符号をつけるものはおよそ同一機能を持
ち、始めに重複する構造部分を説明する。図において、
上部に開口部１ａを持つ有底筒状の洗浄槽１の中には、
保持具２に保持される複数の半導体ウェハ３などの板状
体がその面を垂直にして収納可能である。保持具２は多
数の給水小穴５を持つすのこ６の上に載せられ、すのこ
６と洗浄槽１の底との空間に多数の斜め上方に向く細孔
７ａを持つ複数の給水管７が配置される。給水管７から
純水を供給すれば、細孔７ａは斜め上方を向き、多数の
給水小穴５を持つすのこ６は多少の流体抵抗を持つの
で、給水管７からの動圧が給水小穴５に直接に不均一に
到達することを防ぎ、すのこ６からは洗浄槽１の水平断
面の全領域にわたる垂直上方に向かい流速が均一化され
た純水の流れ９が生じる。このため、多数の給水小穴５
を持つすのこ６と、多数の斜め上方に向く細孔７ａを持
つ複数の給水管７とは均一給水手段１１を構成するとと
もに、動圧防止手段１２を構成するといえる。
【００１４】実施例の特徴的な構造として、前記洗浄槽
１の開口部１ａに排水蓋１３が開閉可能に設けられる。
排水蓋１３は、洗浄槽１の上部の水平断面の全領域にほ
ぼ均一に配置される多数の排水小穴１４を備え、排水小
穴１４は複数の支管１５と枝管１６を介して排水管１７
に接続される。支管１５と枝管１６と排水管１７とを設
けないで、排水小穴１４を直接に排水蓋１３の上面に開
放してオーバフローさせてもよいし、支管１５と枝管１
６に代わり、排水蓋１３の上面に設けた空間を介して排
水管１７に接続してもよい。給水側は動圧防止手段１２
を必要とすが、排水側はこれを必要としない。これは、
水を溜めた水槽の下部に設けたノズルから放出される水
は一方向の噴流となってその流線は束となるが、槽内の
流線はほぼ槽全体に広がる性質があることと同一な原理
に基づく。もっとも、前記空間を介して排水管１７に接
続するものでは、空洞は垂直方向に適宜な距離が必要で
あり、排水管１７の先端も一部の排水小穴１４に接近し
過ぎてはいけない。
１の開口部１ａに排水蓋１３が開閉可能に設けられる。
排水蓋１３は、洗浄槽１の上部の水平断面の全領域にほ
ぼ均一に配置される多数の排水小穴１４を備え、排水小
穴１４は複数の支管１５と枝管１６を介して排水管１７
に接続される。支管１５と枝管１６と排水管１７とを設
けないで、排水小穴１４を直接に排水蓋１３の上面に開
放してオーバフローさせてもよいし、支管１５と枝管１
６に代わり、排水蓋１３の上面に設けた空間を介して排
水管１７に接続してもよい。給水側は動圧防止手段１２
を必要とすが、排水側はこれを必要としない。これは、
水を溜めた水槽の下部に設けたノズルから放出される水
は一方向の噴流となってその流線は束となるが、槽内の
流線はほぼ槽全体に広がる性質があることと同一な原理
に基づく。もっとも、前記空間を介して排水管１７に接
続するものでは、空洞は垂直方向に適宜な距離が必要で
あり、排水管１７の先端も一部の排水小穴１４に接近し
過ぎてはいけない。
【００１５】このような構造によれば、均一給水手段１
１と動圧防止手段１２とにより、すのこ６からは洗浄槽
１の水平断面の全領域にわたる垂直上方に向かい流速が
均一化された純水の流れ９が生じ、この垂直で流速が均
一な純水の流れ９は洗浄槽１の上部の水平断面の全領域
にほぼ均一に配置される多数の排水小穴１４に捕捉され
排水される。このため、洗浄槽１の水平断面の全領域に
わたり、実質上に渦流れや淀みがない整流され垂直方向
に向かう洗浄液の流れが生じ、パーティクル８は洗浄槽
１内に漂うことなくストレートに排出される。もつと
も、保持具２などの後流に渦流れが生じることはしかた
がなく、このため、保持具２などをいわゆる流線形にす
るとよい。
１と動圧防止手段１２とにより、すのこ６からは洗浄槽
１の水平断面の全領域にわたる垂直上方に向かい流速が
均一化された純水の流れ９が生じ、この垂直で流速が均
一な純水の流れ９は洗浄槽１の上部の水平断面の全領域
にほぼ均一に配置される多数の排水小穴１４に捕捉され
排水される。このため、洗浄槽１の水平断面の全領域に
わたり、実質上に渦流れや淀みがない整流され垂直方向
に向かう洗浄液の流れが生じ、パーティクル８は洗浄槽
１内に漂うことなくストレートに排出される。もつと
も、保持具２などの後流に渦流れが生じることはしかた
がなく、このため、保持具２などをいわゆる流線形にす
るとよい。
【００１６】前記実施例の変形を説明する。排水蓋１３
を設けないで、洗浄槽１を半導体ウェハ３の上方に延長
すれば、その開口部１ａに生じる渦流れは上流である半
導体ウェハ３の領域に及ばないので、場所は取るが構造
が簡単であって渦流れや淀みがなく整流され垂直方向に
向かう洗浄液の流れが得られる。洗浄液の表面中央の淀
みは、洗浄の最後に給水を一気に増加すればパーティク
ル８は槽外に流出し、半導体ウェハ３を引き上げるとき
に再付着しない。多数の排水小穴１４を備える排水蓋１
３に代わってテーパ形の細まり管を使用すれば、場所は
取るが構造が簡単であって渦流れや淀みがなく整流され
垂直方向に向かう洗浄液の流れが得られる。給水側もテ
ーパ形の広がり管を使用できる。給水側と排水側を逆に
して垂直下方に流したり、洗浄槽１の側面に対向して設
けてもよい。いずれの場合も、流れが板状体の面に沿
い、洗浄槽１内の流れと直角な全領域にわたり、実質的
に渦流れがなく整流された洗浄液の流れを備えるとい
う、この発明の本質的な構成要件を持つこととなり、パ
ーティクル８は洗浄槽１内に漂うことなくストレートに
排出される。なお給水側の動圧防止手段１２を備える均
一給水手段１１は、給水小穴５を持つすのこ６と細孔７
ａを持つ給水管７に限らない。例えば図示の排水側の構
造がそのまま使用できるし、給水小穴５を持つすのこ６
を多段に配置したり、すのこ６と１本の給水管の間に適
宜な空間を設け、給水管の開放端の少し先に適宜の広さ
の板を配置したりするなど、慣用の構造が採用できる。
また、すのこ６は流れを制御する他、保持具２を載せる
のにも兼用されるが、保持具２は他の治具で吊るすなど
してもよい。
を設けないで、洗浄槽１を半導体ウェハ３の上方に延長
すれば、その開口部１ａに生じる渦流れは上流である半
導体ウェハ３の領域に及ばないので、場所は取るが構造
が簡単であって渦流れや淀みがなく整流され垂直方向に
向かう洗浄液の流れが得られる。洗浄液の表面中央の淀
みは、洗浄の最後に給水を一気に増加すればパーティク
ル８は槽外に流出し、半導体ウェハ３を引き上げるとき
に再付着しない。多数の排水小穴１４を備える排水蓋１
３に代わってテーパ形の細まり管を使用すれば、場所は
取るが構造が簡単であって渦流れや淀みがなく整流され
垂直方向に向かう洗浄液の流れが得られる。給水側もテ
ーパ形の広がり管を使用できる。給水側と排水側を逆に
して垂直下方に流したり、洗浄槽１の側面に対向して設
けてもよい。いずれの場合も、流れが板状体の面に沿
い、洗浄槽１内の流れと直角な全領域にわたり、実質的
に渦流れがなく整流された洗浄液の流れを備えるとい
う、この発明の本質的な構成要件を持つこととなり、パ
ーティクル８は洗浄槽１内に漂うことなくストレートに
排出される。なお給水側の動圧防止手段１２を備える均
一給水手段１１は、給水小穴５を持つすのこ６と細孔７
ａを持つ給水管７に限らない。例えば図示の排水側の構
造がそのまま使用できるし、給水小穴５を持つすのこ６
を多段に配置したり、すのこ６と１本の給水管の間に適
宜な空間を設け、給水管の開放端の少し先に適宜の広さ
の板を配置したりするなど、慣用の構造が採用できる。
また、すのこ６は流れを制御する他、保持具２を載せる
のにも兼用されるが、保持具２は他の治具で吊るすなど
してもよい。
【００１７】
【発明の効果】この発明の板状体の洗浄装置によれば、
洗浄液の給水側と排水側との間に存在して前記板状体の
面に沿い、前記洗浄槽内の流れと直角な全領域にわた
り、実質的に渦流れがなく整流された洗浄液の流れを備
えるようにしたで、洗浄槽の中に渦流れや淀みのない整
流された一方向の洗浄液の流れが維持されてパーティク
ルは漂うことなく速やかに流出され、半導体装置などの
不良率が低下するという効果がある。
洗浄液の給水側と排水側との間に存在して前記板状体の
面に沿い、前記洗浄槽内の流れと直角な全領域にわた
り、実質的に渦流れがなく整流された洗浄液の流れを備
えるようにしたで、洗浄槽の中に渦流れや淀みのない整
流された一方向の洗浄液の流れが維持されてパーティク
ルは漂うことなく速やかに流出され、半導体装置などの
不良率が低下するという効果がある。
【図１】実施例の洗浄装置の縦断面図
【図２】従来例１の洗浄装置の縦断面図
【図３】従来例２の洗浄装置の縦断面図
１ 洗浄槽 １ａ 開口部 ２ 保持具 ３ 半導体ウェハ ５ 給水小穴 ６ すのこ ７ 給水管 ７ａ 細孔 ８ パーティクル ９ 流れ １１ 均一給水手段 １２ 動圧防止手段 １３ 排水蓋 １４ 排水小穴 １７ 排水管 ３９ａ 渦流れ ３９ｂ 渦流れ
Claims (5)
- 【請求項１】保持具に保持される複数の板状体の面を垂
直にして収納可能であって、上部に開口部を持つ有底筒
状の洗浄槽と、この洗浄槽の下部に接続する給水管とか
らなる板状体の洗浄装置において、前記開口部に開閉可
能に設けられる排水蓋と、前記給水管と前記板状体との
間に設けられる均一給水手段とを備え、前記排水蓋は、
前記洗浄槽の上部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置
される多数の排水小穴を備え、前記均一給水手段は、前
記洗浄槽の下部の水平断面の全領域にほぼ均一に配置さ
れ前記給水管に連通する多数の給水小穴と、前記給水管
からの動圧が前記給水小穴に直接に不均一に到達するこ
とを防ぐ動圧防止手段とを備えることを特徴とする板状
体の洗浄装置。 - 【請求項２】請求項１記載の板状体の洗浄装置におい
て、前記排水小穴を複数の支管を介して排水管に接続す
ることを特徴とする板状体の洗浄装置。 - 【請求項３】請求項１記載の板状体の洗浄装置におい
て、前記排水小穴を前記排水蓋の上面に設けられる空洞
を介して排水管に接続することを特徴とする板状体の洗
浄装置。 - 【請求項４】保持具に保持される複数の板状体の面を垂
直にして収納可能であって、上部に開口部を持つ有底筒
状の洗浄槽を備える板状体の洗浄装置において、前記開
口部と前記洗浄槽の下部との間に存在し、前記洗浄槽の
水平断面の全領域にわたり、実質的に渦流れがなく整流
され垂直方向に向かう洗浄液の流れを備えることを特徴
とする板状体の洗浄装置。 - 【請求項５】保持具に保持される複数の板状体の面を垂
直にして収納可能であって、上部に開口部を持つ有底筒
状の洗浄槽を備える板状体の洗浄装置において、洗浄液
の給水側と排水側との間に存在して前記板状体の面に沿
い、前記洗浄槽内の流れと直角な全領域にわたり、実質
的に渦流れがなく整流された洗浄液の流れを備えること
を特徴とする板状体の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9838492A JPH05299404A (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | 板状体の洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9838492A JPH05299404A (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | 板状体の洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05299404A true JPH05299404A (ja) | 1993-11-12 |
Family
ID=14218377
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9838492A Pending JPH05299404A (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | 板状体の洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05299404A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007222715A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Dai-Dan Co Ltd | フィルタ洗浄容器 |
| JP2007222716A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Dai-Dan Co Ltd | フィルタ洗浄容器 |
-
1992
- 1992-04-20 JP JP9838492A patent/JPH05299404A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007222715A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Dai-Dan Co Ltd | フィルタ洗浄容器 |
| JP2007222716A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Dai-Dan Co Ltd | フィルタ洗浄容器 |
| JP4612556B2 (ja) * | 2006-02-21 | 2011-01-12 | ダイダン株式会社 | フィルタ洗浄方法 |
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