JPH05282722A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH05282722A JPH05282722A JP10864792A JP10864792A JPH05282722A JP H05282722 A JPH05282722 A JP H05282722A JP 10864792 A JP10864792 A JP 10864792A JP 10864792 A JP10864792 A JP 10864792A JP H05282722 A JPH05282722 A JP H05282722A
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- JP
- Japan
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- optical recording
- recording medium
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録時の光の照射方法のみを他の時とは代え
ることにより信号を記録する方法によるオーバーライト
をより安定かつ再現性のよいものとする。 【構成】 基板１と磁性層３との間に設けられる下地層
２の表面の面積１ｍｍ2内の中心線平均粗さを５０Å以
下に規定する。これにより、下地層２の凹凸の影響が磁
性層３に及ぶのが防止され、保磁力や磁壁エネルギー等
の特性の変動を押えることができ、上記方法におけるオ
ーバーライトがより良好なものとなる。
ることにより信号を記録する方法によるオーバーライト
をより安定かつ再現性のよいものとする。 【構成】 基板１と磁性層３との間に設けられる下地層
２の表面の面積１ｍｍ2内の中心線平均粗さを５０Å以
下に規定する。これにより、下地層２の凹凸の影響が磁
性層３に及ぶのが防止され、保磁力や磁壁エネルギー等
の特性の変動を押えることができ、上記方法におけるオ
ーバーライトがより良好なものとなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はオーバーライトを可能と
した光磁気記録媒体に関する。
した光磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録は従来の磁気記録に比べて大
容量であり、しかも情報の書き換えが可能であることか
ら活発な開発がなされており、一部では既に市販されて
もいる。
容量であり、しかも情報の書き換えが可能であることか
ら活発な開発がなされており、一部では既に市販されて
もいる。
【０００３】しかしながら、現在市販されている光磁気
記録装置の多くは、情報を書き換える際に元の情報を予
め消去し、その後に新しい情報を書くという工程を踏む
必要があるため、消去操作に時間がかかり時間的なロス
となっている。
記録装置の多くは、情報を書き換える際に元の情報を予
め消去し、その後に新しい情報を書くという工程を踏む
必要があるため、消去操作に時間がかかり時間的なロス
となっている。
【０００４】また、オーバーライトを可能とする光磁気
記録方法も種々提案されているが問題点が多く実用化に
は至っていない。
記録方法も種々提案されているが問題点が多く実用化に
は至っていない。
【０００５】ここで従来の光磁気記録方法としては以下
のものが知られている。 一般的光変調方式（例えば応用磁気学会誌Vol.8、No.
5(1984)等）。 ２層膜を使用した光強度変化によるオーバーライト方
式（応用磁気研究会資料53-15(1988)等）。 固定磁石による磁界変調方式（電気学会マグネティッ
クス研究会資料 MAG-86-95(1986)等）。 浮上ヘッドによる磁界変調方式（電気学会マグネティ
ックス研究会資料 MAG-87-178(1987)、特開昭６３−２
０４５３２号公報、特開昭６３−２１７５４８号公報
等）。 共振回路を持つ磁気ヘッド及びパルス状レーザーを使
用したオーバーライト方式（IEEE Trans. Magn.24,P.66
6(1988)、特開昭６３−３７８４２号公報）。 反磁界を利用する方式（Han-Ping D. Shieh and Mark
H. Kryder;Appl.Phys.Lett. 49(1986)473、Han-Ping
D. Shieh and Mark H. Kryder;IEEE Trans. Magn.Vol.M
AG-23(1987)171、M. D. Schultz, H-P D. Shieh, and
M. H. Kryder;J.Appl.Phys. 63(1988)3844)。
のものが知られている。 一般的光変調方式（例えば応用磁気学会誌Vol.8、No.
5(1984)等）。 ２層膜を使用した光強度変化によるオーバーライト方
式（応用磁気研究会資料53-15(1988)等）。 固定磁石による磁界変調方式（電気学会マグネティッ
クス研究会資料 MAG-86-95(1986)等）。 浮上ヘッドによる磁界変調方式（電気学会マグネティ
ックス研究会資料 MAG-87-178(1987)、特開昭６３−２
０４５３２号公報、特開昭６３−２１７５４８号公報
等）。 共振回路を持つ磁気ヘッド及びパルス状レーザーを使
用したオーバーライト方式（IEEE Trans. Magn.24,P.66
6(1988)、特開昭６３−３７８４２号公報）。 反磁界を利用する方式（Han-Ping D. Shieh and Mark
H. Kryder;Appl.Phys.Lett. 49(1986)473、Han-Ping
D. Shieh and Mark H. Kryder;IEEE Trans. Magn.Vol.M
AG-23(1987)171、M. D. Schultz, H-P D. Shieh, and
M. H. Kryder;J.Appl.Phys. 63(1988)3844)。
【０００６】上記従来の光磁気記録方法のうち、の光
変調方式は一般にオーバーライトができないために消去
動作を必要とし、書き換えに時間がかかるという欠点が
ある。従って、ハードディスクの代替などの使用は不可
能である。
変調方式は一般にオーバーライトができないために消去
動作を必要とし、書き換えに時間がかかるという欠点が
ある。従って、ハードディスクの代替などの使用は不可
能である。
【０００７】また、の２層膜を使用した光強度変化に
よるオーバーライト方式では記録層が２層または３層以
上となり、また２層間の交換結合の調整が微妙で難しく
なる。また、大きな初期化磁界を必要とし、初期化用磁
石のコスト高、装置の大型化などの問題がある。また、
記録時の“１”、“０”間の光パワーの差が小さく、そ
れぞれの許容差が限定され記録の確実性に不安がある。
よるオーバーライト方式では記録層が２層または３層以
上となり、また２層間の交換結合の調整が微妙で難しく
なる。また、大きな初期化磁界を必要とし、初期化用磁
石のコスト高、装置の大型化などの問題がある。また、
記録時の“１”、“０”間の光パワーの差が小さく、そ
れぞれの許容差が限定され記録の確実性に不安がある。
【０００８】また、の固定磁石による磁界変調方式で
は、磁石にある程度の大きさのものが必要となり消費電
力が大きくなる。また、高速化が非常に困難で１ＭＨｚ
程度のデジタル記録が限界と思われる。
は、磁石にある程度の大きさのものが必要となり消費電
力が大きくなる。また、高速化が非常に困難で１ＭＨｚ
程度のデジタル記録が限界と思われる。
【０００９】また、の浮上磁気ヘッドによる磁界変調
方式では、磁気ヘッドを媒体にほぼ接触させる形とな
り、光ディスクの非接触というメリットがなくなる。ま
た、単板にする必要があり、記憶容量、基板の反り反び
磁性膜の保護の点で問題がある。
方式では、磁気ヘッドを媒体にほぼ接触させる形とな
り、光ディスクの非接触というメリットがなくなる。ま
た、単板にする必要があり、記憶容量、基板の反り反び
磁性膜の保護の点で問題がある。
【００１０】また、の共振回路を持つ磁気ヘッド及び
パルス状レーザーを使用する方式では、上記の方式よ
りは良いが同じ課題を持つ。
パルス状レーザーを使用する方式では、上記の方式よ
りは良いが同じ課題を持つ。
【００１１】また、の反磁界を利用する方法では、以
前に記録されていたビットと同じ場所にレーザーパルス
を照射する必要があるためレーザーパルス照射位置の制
御が困難であり、またピットポジション記録しかできな
い等の問題がある。
前に記録されていたビットと同じ場所にレーザーパルス
を照射する必要があるためレーザーパルス照射位置の制
御が困難であり、またピットポジション記録しかできな
い等の問題がある。
【００１２】一方、特願平２−６４９５９号明細書にお
いて上記問題を解決すべく新規な光磁気記録方法が提案
されている。即ち、光磁気記録媒体の垂直磁化膜に光を
照射することによって磁気記録パターンを形成する光磁
気記録方法であって、光を照射して記録行う際に、記録
を行おうとする磁化の方向を媒体面に対して下向きから
上向き、若しくは、上向きから下向きに切替えるとき
に、照射光のスポット径、パルス幅、照射パワー、単パ
ルスか連続パルスか等の光の照射方法を他の時とは変え
ることにより信号を記録する光磁気記録方法である。こ
の方式によれば、基本的に光磁気記録媒体の垂直磁化膜
が単層でよく、２層膜記録媒体と比べ低レーザーパワー
にて書き込めるようになる。しかも前述の反磁界を利用
した方式とは異なり、以前書き込まれていた信号とは無
関係に新しい信号を書き込むことができるので装置構成
が複雑化することもなく、有利である。
いて上記問題を解決すべく新規な光磁気記録方法が提案
されている。即ち、光磁気記録媒体の垂直磁化膜に光を
照射することによって磁気記録パターンを形成する光磁
気記録方法であって、光を照射して記録行う際に、記録
を行おうとする磁化の方向を媒体面に対して下向きから
上向き、若しくは、上向きから下向きに切替えるとき
に、照射光のスポット径、パルス幅、照射パワー、単パ
ルスか連続パルスか等の光の照射方法を他の時とは変え
ることにより信号を記録する光磁気記録方法である。こ
の方式によれば、基本的に光磁気記録媒体の垂直磁化膜
が単層でよく、２層膜記録媒体と比べ低レーザーパワー
にて書き込めるようになる。しかも前述の反磁界を利用
した方式とは異なり、以前書き込まれていた信号とは無
関係に新しい信号を書き込むことができるので装置構成
が複雑化することもなく、有利である。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】上記特許明細書に記載
の光磁気記録は、光磁気記録媒体の反磁界、保磁力、磁
壁エネルギー、外部からの磁界等の要因が複雑に作用し
て行われる。従って、上記光磁気記録を実現するために
はこれらの要因の安定性や再現性が必要となる。その場
合、特に垂直磁化膜の磁気特性が最も重要であるが、一
般に光磁気記録媒体の層構成としては、垂直磁化膜を下
地層と保護層とで挾む構成がよく用いられている。そし
て、この下地層が上述した要因に与える影響も必ずしも
小さくない。そこで、媒体面での検討は、上記光磁気記
録をより安定かつ再現性の良いものとするために重要で
ある。
の光磁気記録は、光磁気記録媒体の反磁界、保磁力、磁
壁エネルギー、外部からの磁界等の要因が複雑に作用し
て行われる。従って、上記光磁気記録を実現するために
はこれらの要因の安定性や再現性が必要となる。その場
合、特に垂直磁化膜の磁気特性が最も重要であるが、一
般に光磁気記録媒体の層構成としては、垂直磁化膜を下
地層と保護層とで挾む構成がよく用いられている。そし
て、この下地層が上述した要因に与える影響も必ずしも
小さくない。そこで、媒体面での検討は、上記光磁気記
録をより安定かつ再現性の良いものとするために重要で
ある。
【００１４】従って、本発明は、上記光磁気記録をより
安定かつ再現性の良いものとする光磁気記録媒体を提供
することを目的とする。
安定かつ再現性の良いものとする光磁気記録媒体を提供
することを目的とする。
【００１５】上記目的を達成すべく、本発明者らは、光
磁気記録媒体の垂直磁化膜の下方に付設される下地層
と、上記光磁気記録との関係を鋭意研究、検討した結
果、下地層の表面形状を特定化することにより、上記光
磁気記録方法において重要な要因である反磁界、保磁
力、磁壁エネルギー等の特性を安定化することができ、
オーバーライトの安定化、再現性の向上が行えることを
見出し、本発明を完成するに至った。
磁気記録媒体の垂直磁化膜の下方に付設される下地層
と、上記光磁気記録との関係を鋭意研究、検討した結
果、下地層の表面形状を特定化することにより、上記光
磁気記録方法において重要な要因である反磁界、保磁
力、磁壁エネルギー等の特性を安定化することができ、
オーバーライトの安定化、再現性の向上が行えることを
見出し、本発明を完成するに至った。
【００１６】即ち、本発明によれば、光磁気記録媒体の
垂直磁化膜に光を照射することによって磁気記録パター
ンを形成して記録を行う際に、記録を行おうとする磁化
の方向を媒体面に対して下向きから上向き、若しくは、
上向きから下向きに切り替えるときに、照射光のスポッ
ト径、パルス幅、照射パワー、単パルスか連続パルスか
等の光の照射方法を他の時とは変えることにより信号を
記録する光磁気記録方法に使用される光磁気記録媒体で
あって、基板と垂直磁化膜の間に設けられる下地層の表
面の面積１ｍｍ2内の中心線平均粗さが５０Å以下であ
ることを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
垂直磁化膜に光を照射することによって磁気記録パター
ンを形成して記録を行う際に、記録を行おうとする磁化
の方向を媒体面に対して下向きから上向き、若しくは、
上向きから下向きに切り替えるときに、照射光のスポッ
ト径、パルス幅、照射パワー、単パルスか連続パルスか
等の光の照射方法を他の時とは変えることにより信号を
記録する光磁気記録方法に使用される光磁気記録媒体で
あって、基板と垂直磁化膜の間に設けられる下地層の表
面の面積１ｍｍ2内の中心線平均粗さが５０Å以下であ
ることを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
【００１７】また、本発明によれば、上記構成におい
て、下地層の表面の最大凹凸が１５０Å以下であること
を特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
て、下地層の表面の最大凹凸が１５０Å以下であること
を特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
【００１８】また、本発明によれば、上記構成におい
て、下地層の表面の凹凸が下地層の膜厚に対して１５％
以下であることを特徴とする光磁気記録媒体が提供され
る。
て、下地層の表面の凹凸が下地層の膜厚に対して１５％
以下であることを特徴とする光磁気記録媒体が提供され
る。
【００１９】さらに、本発明によれば、上記構成におい
て、下地層の膜厚が３００Å以上２０００Å以下である
ことを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
て、下地層の膜厚が３００Å以上２０００Å以下である
ことを特徴とする光磁気記録媒体が提供される。
【００２０】下地層の凹凸が激しい場合、その影響は直
接垂直磁化膜に及び、その凹凸によって保磁力や磁壁エ
ネルギー等が変動し、記録条件の変動を招く。本発明者
らは下地層の表面形状について種々検討を行った結果、
下地層の表面の面積１ｍｍ2内の中心線平均粗さが５０
Å以下である場合には凹凸による影響は殆どなく、記録
条件が安定することを確認した。また、上記平均粗さの
条件を満足しかつ下地層の表面の最大凹凸が１５０Å以
下の場合にはさらに記録条件が安定することを確認し
た。この場合において、下地層の表面の凹凸が下地層の
膜厚に対して１５％以下であるのが好ましい。なぜなら
ば、凹凸が膜圧の１５％以上の場合、上部との密着性が
著しく悪く、界面部分からの劣化がみられる。下地層の
表面性は材料の種類、作製方法等によって大きく変化す
るが、膜厚については３００Å以上でなければ上記平均
粗さの条件を満足することが困難となる。また、基板と
の整合性や内部応力による膜歪みやクラックなどを考慮
すると２０００Å以下が望ましい。より好適な膜厚は５
００Åから１０００Åの間である。
接垂直磁化膜に及び、その凹凸によって保磁力や磁壁エ
ネルギー等が変動し、記録条件の変動を招く。本発明者
らは下地層の表面形状について種々検討を行った結果、
下地層の表面の面積１ｍｍ2内の中心線平均粗さが５０
Å以下である場合には凹凸による影響は殆どなく、記録
条件が安定することを確認した。また、上記平均粗さの
条件を満足しかつ下地層の表面の最大凹凸が１５０Å以
下の場合にはさらに記録条件が安定することを確認し
た。この場合において、下地層の表面の凹凸が下地層の
膜厚に対して１５％以下であるのが好ましい。なぜなら
ば、凹凸が膜圧の１５％以上の場合、上部との密着性が
著しく悪く、界面部分からの劣化がみられる。下地層の
表面性は材料の種類、作製方法等によって大きく変化す
るが、膜厚については３００Å以上でなければ上記平均
粗さの条件を満足することが困難となる。また、基板と
の整合性や内部応力による膜歪みやクラックなどを考慮
すると２０００Å以下が望ましい。より好適な膜厚は５
００Åから１０００Åの間である。
【００２１】一方、再生時のＳＮ比を決定しているカー
回転角を高めるために光の多重干渉効果が利用される
が、このため下地層の屈折率は１．９０〜２．０５の範
囲であるのが望ましい。また、垂直磁化膜として希土類
−遷移金属アモルファス合金を用いる場合、この合金膜
は酸化されやすいことから、下地層の構成元素に酸素が
含まれていないことが望ましい。
回転角を高めるために光の多重干渉効果が利用される
が、このため下地層の屈折率は１．９０〜２．０５の範
囲であるのが望ましい。また、垂直磁化膜として希土類
−遷移金属アモルファス合金を用いる場合、この合金膜
は酸化されやすいことから、下地層の構成元素に酸素が
含まれていないことが望ましい。
【００２２】上記のような条件を満足するためには、下
地層の材料としてはＳｉＮ，ＡｌＮ，ＴｉＮ，ＢＮ等が
好ましく、成膜方法としては、スパッタ法やＣＶＤ法等
が好ましい。
地層の材料としてはＳｉＮ，ＡｌＮ，ＴｉＮ，ＢＮ等が
好ましく、成膜方法としては、スパッタ法やＣＶＤ法等
が好ましい。
【００２３】
【実施例】以下本発明の実施例を述べるが、本発明はこ
れら実施例に限定されるものではない。
れら実施例に限定されるものではない。
【００２４】実施例１ 深さ７００Å、トラックピッチ１．６μｍの案内溝付き
ガラス基板（直径３．５インチ（約８９ｍｍ））１上に
下地層２としてＳｉＮ膜を５００Å形成し、その上に磁
性層（垂直磁化膜）３としてＴｂＦｅＣｏ膜を２０００
Å形成し、さらにその上に保護層４としてＳｉＮ膜を５
００Å形成し、図１に示す構成の本発明による光磁気デ
ィスクを作製した。成膜方法としては下地層２及び保護
層４の形成には反応性スパッタ法を用い、磁性層３の形
成にはＲＦマグネトロンスパッタ法を用いた。下地層２
の成膜の際には、基板側にＤＣバイアス電圧を印加する
ことにより種々の表面粗さの下地層とし、それぞれ光磁
気ディスクＡ〜Ｉとした。以上のようにして作製した各
光磁気ディスクについてオーバーライト特性を評価し
た。その結果を表１に示す。
ガラス基板（直径３．５インチ（約８９ｍｍ））１上に
下地層２としてＳｉＮ膜を５００Å形成し、その上に磁
性層（垂直磁化膜）３としてＴｂＦｅＣｏ膜を２０００
Å形成し、さらにその上に保護層４としてＳｉＮ膜を５
００Å形成し、図１に示す構成の本発明による光磁気デ
ィスクを作製した。成膜方法としては下地層２及び保護
層４の形成には反応性スパッタ法を用い、磁性層３の形
成にはＲＦマグネトロンスパッタ法を用いた。下地層２
の成膜の際には、基板側にＤＣバイアス電圧を印加する
ことにより種々の表面粗さの下地層とし、それぞれ光磁
気ディスクＡ〜Ｉとした。以上のようにして作製した各
光磁気ディスクについてオーバーライト特性を評価し
た。その結果を表１に示す。
【００２５】
【表１】
【００２６】表１から明らかなように、本発明の構成を
用いた媒体Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈの方がその他の媒体に比
べオーバーライト特性が良好であることが分かる。
用いた媒体Ｄ、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈの方がその他の媒体に比
べオーバーライト特性が良好であることが分かる。
【００２７】実施例２ 下地層の表面形状及び膜厚を表２に示すものとしたこと
以外は実施例１と同様にして光磁気ディスクＪ〜Ｓを作
製した。これらの光磁気ディスクについて上記と同様に
オーバーライト特性を評価した。その結果を表２に示
す。
以外は実施例１と同様にして光磁気ディスクＪ〜Ｓを作
製した。これらの光磁気ディスクについて上記と同様に
オーバーライト特性を評価した。その結果を表２に示
す。
【００２８】
【表２】
【００２９】表２から明らかなように、下地層が本発明
で規定する表面形状を有し、かつ膜厚が３００Å〜２０
００Åの範囲にある媒体は、オーバーライト特性がより
良好であることが分かる。
で規定する表面形状を有し、かつ膜厚が３００Å〜２０
００Åの範囲にある媒体は、オーバーライト特性がより
良好であることが分かる。
【００３０】実施例３ 下地層の表面形状及び屈折率を表３に示すものとしたこ
と以外は実施例１と同様にして光磁気ディスクＴ〜Ｒを
作製した。これらの光磁気ディスクについて上記と同様
にオーバーライト特性を評価した。その結果を表３に示
す。
と以外は実施例１と同様にして光磁気ディスクＴ〜Ｒを
作製した。これらの光磁気ディスクについて上記と同様
にオーバーライト特性を評価した。その結果を表３に示
す。
【００３１】
【表３】
【００３２】表３から明らかなように、下地層が本発明
で規定する表面形状を有し、かつ下地層の屈折率が１．
９０〜２．０５の範囲にある媒体は、カー回転角が大き
くオーバーライト特性がさらに良好であることが分か
る。
で規定する表面形状を有し、かつ下地層の屈折率が１．
９０〜２．０５の範囲にある媒体は、カー回転角が大き
くオーバーライト特性がさらに良好であることが分か
る。
【００３３】実施例４ 下地層の材料をＳｉＯ2 に代えたこと以外は実施例１で
良好なオーバーライト特性が得られたものと同様にして
光磁気ディスクを作製した。この光磁気ディスクについ
てオーバーライト特性を評価したところ、作製直後では
それほど遜色のない特性を示したが、約１００ｈｒ後の
特性では下地層の材料がＳｉＮの光ディスクの方がより
安定な特性を示した。
良好なオーバーライト特性が得られたものと同様にして
光磁気ディスクを作製した。この光磁気ディスクについ
てオーバーライト特性を評価したところ、作製直後では
それほど遜色のない特性を示したが、約１００ｈｒ後の
特性では下地層の材料がＳｉＮの光ディスクの方がより
安定な特性を示した。
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、下地層を前記構成とし
たので、記録時の光の照射方法のみを他の時とは代える
ことにより信号を記録する方法におけるオーバーライト
をより安定かつ再現性のよいものとすることができる。
たので、記録時の光の照射方法のみを他の時とは代える
ことにより信号を記録する方法におけるオーバーライト
をより安定かつ再現性のよいものとすることができる。
【図１】本発明の実施例に係る光磁気ディスクの層構成
を模式的に示す断面図である。
を模式的に示す断面図である。
１ ガラス基板 ２ 下地層 ３ 磁性層（垂直磁化膜） ４ 保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鴇田 才明 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 黒沢 美子 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 野々山 治 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 高橋 正悦 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内
Claims (4)
- 【請求項１】 光磁気記録媒体の垂直磁化膜に光を照射
することによって磁気記録パターンを形成して記録を行
う際に、記録を行おうとする磁化の方向を媒体面に対し
て下向きから上向き、若しくは、上向きから下向きに切
り替えるときに、照射光のスポット径、パルス幅、照射
パワー、単パルスか連続パルスか等の光の照射方法を他
の時とは変えることにより信号を記録する光磁気記録方
法に使用される光磁気記録媒体であって、基板と垂直磁
化膜の間に設けられる下地層の表面の面積１ｍｍ2内の
中心線平均粗さが５０Å以下であることを特徴とする光
磁気記録媒体。 - 【請求項２】 下地層の表面の最大凹凸が１５０Å以下
であることを特徴とする請求項１に記載の光磁気記録媒
体。 - 【請求項３】 下地層の表面の凹凸が下地層の膜厚に対
して１５％以下であることを特徴とする請求項２に記載
の光磁気記録媒体。 - 【請求項４】 下地層の膜厚が３００Å以上２０００Å
以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一
項に記載の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10864792A JPH05282722A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10864792A JPH05282722A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05282722A true JPH05282722A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=14490111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10864792A Pending JPH05282722A (ja) | 1992-04-01 | 1992-04-01 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05282722A (ja) |
-
1992
- 1992-04-01 JP JP10864792A patent/JPH05282722A/ja active Pending
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