JPH05325291A - 光磁気記録媒体及びその作製方法 - Google Patents
光磁気記録媒体及びその作製方法Info
- Publication number
- JPH05325291A JPH05325291A JP15453392A JP15453392A JPH05325291A JP H05325291 A JPH05325291 A JP H05325291A JP 15453392 A JP15453392 A JP 15453392A JP 15453392 A JP15453392 A JP 15453392A JP H05325291 A JPH05325291 A JP H05325291A
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- Japan
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- magneto
- optical recording
- film
- recording medium
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 レーザ光を用いて情報の記録、再生、消去を
行う光磁気記録媒体においてオーバーライトを可能とし
た光磁気記録媒体に関する。 【構成】 光磁気記録媒体の垂直磁化膜に光を照射して
記録を行なう際に、記録を行なおうとする磁化の方向が
媒体面に対して下向きから上向き、もしくは、上向きか
ら下向きに切り替えるときに、照射光のスポット径、パ
スル幅、照射パワー、単パルスか連続パルスか等の光の
照射方法を他の時とは変えることにより信号を記録する
光磁気記録方法において、前記垂直磁化膜中に含有され
る不純物濃度を５％以下にする光磁気記録媒体及びその
作製法。
行う光磁気記録媒体においてオーバーライトを可能とし
た光磁気記録媒体に関する。 【構成】 光磁気記録媒体の垂直磁化膜に光を照射して
記録を行なう際に、記録を行なおうとする磁化の方向が
媒体面に対して下向きから上向き、もしくは、上向きか
ら下向きに切り替えるときに、照射光のスポット径、パ
スル幅、照射パワー、単パルスか連続パルスか等の光の
照射方法を他の時とは変えることにより信号を記録する
光磁気記録方法において、前記垂直磁化膜中に含有され
る不純物濃度を５％以下にする光磁気記録媒体及びその
作製法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ光を用いて情報の
記録、再生、消去を行う光磁気記録媒体に関わり、殊に
オーバーライトを可能とした光磁気記録媒体に関する。
記録、再生、消去を行う光磁気記録媒体に関わり、殊に
オーバーライトを可能とした光磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録は従来の磁気記録に比べて大
容量であり、しかも、情報の書き換えが可能であること
から活発な開発がなされており、一部では既に市販もさ
れている。しかしながら、現在市販されている光磁気記
録装置の多くは、情報を書き換える際に元の情報を予め
消去し、その後に情報を書くという工程を含む必要があ
るため、消去操作に時間がかかり時間的なロスとなって
いる。また、オーバーライトを可能とする光磁気記録方
法も種々提案されているが問題点が多く実用化には至っ
ていない。
容量であり、しかも、情報の書き換えが可能であること
から活発な開発がなされており、一部では既に市販もさ
れている。しかしながら、現在市販されている光磁気記
録装置の多くは、情報を書き換える際に元の情報を予め
消去し、その後に情報を書くという工程を含む必要があ
るため、消去操作に時間がかかり時間的なロスとなって
いる。また、オーバーライトを可能とする光磁気記録方
法も種々提案されているが問題点が多く実用化には至っ
ていない。
【０００３】ここで従来の光磁気記録方法としては以下
のものが知られている。 一般的光変調方式〔例えば応用磁気学会誌 8 No.5 (1
984) 等〕。 ２層膜を使用した光強度変化によるオーバーライト方
式〔応用磁気研究会資料53-15 (1988) 等〕。 固定磁石による磁界変調方式〔電気学会マグネティッ
ク研究会資料 MAG-86-95 (1986) 等〕。 浮上ヘッドによる磁界変調方式〔電気学会マグネティ
ック研究会資料 MAG-87-178 (1987)、特開昭63-204532
号公報、特開昭63-217548号公報等〕。 共振回路を持つ磁気ヘッド及びパルス状レーザーを使
用したオーバーライト方式。〔IEEE Trans. Magn. 24,
P.666 (1988)、特開昭63-37842号公報〕。 反磁界を利用する方式〔Han-Ping D.Shieh and Mark
H.Kryder ; Appl. Phys.Lctt. 49 (1986) 473、Han-Pin
g D.Shieh and Mark H.Kryder ; IEEE Trans.Magn. vo
l. MAG-23, (1987) 171, M.D.Schultz, H.D.Shieh and
M.H.Kryder ;J. Appl. Phys. 63 (1988) 3844〕。
のものが知られている。 一般的光変調方式〔例えば応用磁気学会誌 8 No.5 (1
984) 等〕。 ２層膜を使用した光強度変化によるオーバーライト方
式〔応用磁気研究会資料53-15 (1988) 等〕。 固定磁石による磁界変調方式〔電気学会マグネティッ
ク研究会資料 MAG-86-95 (1986) 等〕。 浮上ヘッドによる磁界変調方式〔電気学会マグネティ
ック研究会資料 MAG-87-178 (1987)、特開昭63-204532
号公報、特開昭63-217548号公報等〕。 共振回路を持つ磁気ヘッド及びパルス状レーザーを使
用したオーバーライト方式。〔IEEE Trans. Magn. 24,
P.666 (1988)、特開昭63-37842号公報〕。 反磁界を利用する方式〔Han-Ping D.Shieh and Mark
H.Kryder ; Appl. Phys.Lctt. 49 (1986) 473、Han-Pin
g D.Shieh and Mark H.Kryder ; IEEE Trans.Magn. vo
l. MAG-23, (1987) 171, M.D.Schultz, H.D.Shieh and
M.H.Kryder ;J. Appl. Phys. 63 (1988) 3844〕。
【０００４】上記従来の光磁気記録方法のうち、の光
変調法は一般にオーバーライトができないために消去動
作を必要とし、書き換えに時間がかかるという欠点があ
る。従って、ハードディスクの代替などの使用は不可能
である。また、の２層膜を使用した光強度変化による
オーバーライト方式では記録層が２層または３層以上と
なり、さらに２層間の交換結合の調整が微妙で難しくな
る。また、大きな初期化磁界を必要とし、初期化用磁石
のコスト高、装置の大型化などの問題がある。また、記
録時の“１”、“０”間の光パワーの差が小さく、それ
ぞれの許容差が限定され記録の確実性に不安がある。
変調法は一般にオーバーライトができないために消去動
作を必要とし、書き換えに時間がかかるという欠点があ
る。従って、ハードディスクの代替などの使用は不可能
である。また、の２層膜を使用した光強度変化による
オーバーライト方式では記録層が２層または３層以上と
なり、さらに２層間の交換結合の調整が微妙で難しくな
る。また、大きな初期化磁界を必要とし、初期化用磁石
のコスト高、装置の大型化などの問題がある。また、記
録時の“１”、“０”間の光パワーの差が小さく、それ
ぞれの許容差が限定され記録の確実性に不安がある。
【０００５】また、の固定磁石による磁界変調方式で
は、磁石にある程度の大きさのものが必要となり消費電
力が大きくなる。また、高速化が非常に困難で１ＭＨz
程度のデジタル記録が限界と思われる。の浮上磁気ヘ
ッドによる磁界変調方式では、磁気ヘッドを媒体にほぼ
接触させる形となり、光ディスクの非接触というメリッ
トが無くなる。また、単板にする必要があり、記憶容
量、基板の反り及び磁性膜の保護の点で問題がある。ま
た、の共振回路を持つ磁気ヘッド及びパルス状レーザ
ーを使用する方式では、上記の方式よりは良いが同じ
課題を持つ。の反磁界を利用する方法では、以前に記
録されていたビットと同じ場所にレーザーパルスを照射
する必要があるためレーザーパルス照射位置の制御が困
難であり、またピットポジション記録しかできない等の
問題がある。
は、磁石にある程度の大きさのものが必要となり消費電
力が大きくなる。また、高速化が非常に困難で１ＭＨz
程度のデジタル記録が限界と思われる。の浮上磁気ヘ
ッドによる磁界変調方式では、磁気ヘッドを媒体にほぼ
接触させる形となり、光ディスクの非接触というメリッ
トが無くなる。また、単板にする必要があり、記憶容
量、基板の反り及び磁性膜の保護の点で問題がある。ま
た、の共振回路を持つ磁気ヘッド及びパルス状レーザ
ーを使用する方式では、上記の方式よりは良いが同じ
課題を持つ。の反磁界を利用する方法では、以前に記
録されていたビットと同じ場所にレーザーパルスを照射
する必要があるためレーザーパルス照射位置の制御が困
難であり、またピットポジション記録しかできない等の
問題がある。
【０００６】一方、本発明者らは、特開平3-266243号公
報において上記問題を解決すべく新規の光磁気記録方法
を提供した。即ち、光磁気記録媒体の垂直磁化膜に光を
照射することによって磁気記録パターンを形成する光磁
気記録方法において、光を照射して記録を行なう際に、
記録を行なおうとする磁化の方向が媒体面に対して下向
きから上向き、もしくは、上向きから下向きに切り替え
るときに、照射光のスポット径、パルス幅、照射パワ
ー、単パルスか連続パルスか等の光の照射方法を他の時
とは変えることにより信号を記録する方法でオーバーラ
イトを可能にした光磁気記録方法を提案した。
報において上記問題を解決すべく新規の光磁気記録方法
を提供した。即ち、光磁気記録媒体の垂直磁化膜に光を
照射することによって磁気記録パターンを形成する光磁
気記録方法において、光を照射して記録を行なう際に、
記録を行なおうとする磁化の方向が媒体面に対して下向
きから上向き、もしくは、上向きから下向きに切り替え
るときに、照射光のスポット径、パルス幅、照射パワ
ー、単パルスか連続パルスか等の光の照射方法を他の時
とは変えることにより信号を記録する方法でオーバーラ
イトを可能にした光磁気記録方法を提案した。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記光磁気記録方法
は、光磁気記録媒体の反磁界、保持力、磁壁エネルギ
ー、外部からの磁界等の要因が複雑に作用して行われ
る。従って、上記光磁気記録を実現するためにはこれら
の要因の安定性や再現性が重要となるが、その場合、特
に光磁気記録媒体の垂直磁化膜中に含まれる不純物の影
響は非常に大きいことが考えられる。
は、光磁気記録媒体の反磁界、保持力、磁壁エネルギ
ー、外部からの磁界等の要因が複雑に作用して行われ
る。従って、上記光磁気記録を実現するためにはこれら
の要因の安定性や再現性が重要となるが、その場合、特
に光磁気記録媒体の垂直磁化膜中に含まれる不純物の影
響は非常に大きいことが考えられる。
【０００８】垂直磁化膜中に不純物が含まれている場
合、垂直磁化膜材料と反応したりして反磁界や磁壁エネ
ルギー、そて保持力などが変わる。特に、垂直磁化膜材
料に希土類−遷移金属アモルファス合金系を用いた時、
不純物元素が酸素の場合には希土類元素が酸素と反応
し、その分希土類と遷移金属との組成比がずれた磁気特
性となることが知られている。また垂直磁化膜材料と反
応しなくても、不純物が含まれていることで膜内にスト
レスが発生しやすくなる。その結果磁区の動きにも影響
を与え、特開平3-266243号公報で提供されている光磁気
記録方法を困難にする。しかし前記特開平3-266243号公
報においては、上記不純物の問題については言及されて
なかった。
合、垂直磁化膜材料と反応したりして反磁界や磁壁エネ
ルギー、そて保持力などが変わる。特に、垂直磁化膜材
料に希土類−遷移金属アモルファス合金系を用いた時、
不純物元素が酸素の場合には希土類元素が酸素と反応
し、その分希土類と遷移金属との組成比がずれた磁気特
性となることが知られている。また垂直磁化膜材料と反
応しなくても、不純物が含まれていることで膜内にスト
レスが発生しやすくなる。その結果磁区の動きにも影響
を与え、特開平3-266243号公報で提供されている光磁気
記録方法を困難にする。しかし前記特開平3-266243号公
報においては、上記不純物の問題については言及されて
なかった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、光磁気記録媒
体の垂直磁化膜に光を照射して記録を行なう際に、記録
を行なおうとする磁化の方向が媒体面に対して下向きか
ら上向き、もしくは、上向きから下向きに切り替えると
きに、照射光のスポット径、パスル幅、照射パワー、単
パルスか連続パルスか等の光の照射方法を他の時とは変
えることにより信号を記録する光磁気記録方法におい
て、前記垂直磁化膜中に含有される不純物濃度を５％以
下にすることを特徴とする光磁気記録媒体を提案する。
体の垂直磁化膜に光を照射して記録を行なう際に、記録
を行なおうとする磁化の方向が媒体面に対して下向きか
ら上向き、もしくは、上向きから下向きに切り替えると
きに、照射光のスポット径、パスル幅、照射パワー、単
パルスか連続パルスか等の光の照射方法を他の時とは変
えることにより信号を記録する光磁気記録方法におい
て、前記垂直磁化膜中に含有される不純物濃度を５％以
下にすることを特徴とする光磁気記録媒体を提案する。
【００１０】また、本発明は前記垂直磁化膜中に含有さ
れる不純物濃度を５％以下にする方法として蒸着法を用
いることを特徴とする垂直磁化膜の作製方法を提案す
る。
れる不純物濃度を５％以下にする方法として蒸着法を用
いることを特徴とする垂直磁化膜の作製方法を提案す
る。
【００１１】また、本発明は前記垂直磁化膜中に含有さ
れる不純物濃度を５％以下にする方法として、ヘリウム
もしくはネオンをスパッタ雰囲気ガスの主成分としたス
パッタ法を用いることを特徴とする垂直磁化膜の作製方
法を提案する。
れる不純物濃度を５％以下にする方法として、ヘリウム
もしくはネオンをスパッタ雰囲気ガスの主成分としたス
パッタ法を用いることを特徴とする垂直磁化膜の作製方
法を提案する。
【００１２】従来、光磁気記録媒体の垂直磁化膜の作製
方法としてはスパッタ法がよく用いられてきた。しか
し、スパッタ法では膜作製中にスパッタ雰囲気ガスが膜
中に多く取り込まれることが知られており、これらが不
純物として上記光磁気記録方法において重要な要因であ
る種々の特性に悪影響を及ぼす。そのため、本発明では
垂直磁化膜中に含有される不純物濃度を５％以下にする
蒸着法による膜作製法を用いることで上記問題を解決す
ることができた。
方法としてはスパッタ法がよく用いられてきた。しか
し、スパッタ法では膜作製中にスパッタ雰囲気ガスが膜
中に多く取り込まれることが知られており、これらが不
純物として上記光磁気記録方法において重要な要因であ
る種々の特性に悪影響を及ぼす。そのため、本発明では
垂直磁化膜中に含有される不純物濃度を５％以下にする
蒸着法による膜作製法を用いることで上記問題を解決す
ることができた。
【００１３】本発明の光磁気記録媒体は蒸着法による方
式を採用するために材料面に特に制限はないが、垂直磁
化膜材料が多元材料、例えば希土類−遷移金属アモルフ
ァス合金のような場合は複数の蒸発源を用いた多元蒸着
法が望ましい。
式を採用するために材料面に特に制限はないが、垂直磁
化膜材料が多元材料、例えば希土類−遷移金属アモルフ
ァス合金のような場合は複数の蒸発源を用いた多元蒸着
法が望ましい。
【００１４】一方、スパッタ法においても原子半径の小
さなヘリウムもしくはネオンを主成分としたスパッタ雰
囲気ガスを用いることで、膜中へのスパッタ雰囲気ガス
の混入の影響を小さくすることができる。
さなヘリウムもしくはネオンを主成分としたスパッタ雰
囲気ガスを用いることで、膜中へのスパッタ雰囲気ガス
の混入の影響を小さくすることができる。
【００１５】
【実施例】以下、本発明の実施例について示す。 〔実施例１〕図１に、本実施例に用いた光磁気記録媒体
の概略図を示す。深さ700Å、トラックピッチ１.６μ
ｍ、直径３.５インチのガラスディスク上１に保護層２
として窒化シリコン膜を500Å、ＲＦマグネトロンスパ
ッタ法により形成した。更に、多元蒸着法により磁性層
３であるＴｂＦｅＣｏ膜を2000Å形成した。そして最後
に500Åの保護層ＳｉＮx層４をＲＦマグネトロンスパッ
タ法により形成した。このようにして作製した光磁気記
録媒体と比較するために、同様な構成で従来用いられて
きた作製方法であるアルゴンガスをスパッタ雰囲気ガス
としたＲＦマグネトロンスパッタ法により磁性層を作製
した光磁気記録媒体についても作製した。これらの光磁
気記録媒体のオーバーライト特性について比較したとこ
ろ、本発明による媒体の方が良好なオーバーライト特性
を示した。次にガラス基板上に、上述した作製方法によ
り同様な磁性層をそれぞれ形成した。これらをエレクト
ロンマイクロプローブ法（ＥＰＭＡ）を用いて組成分析
を行った。その結果、従来技術であるスパッタ法で作製
した膜は、アルゴン原子の混入が多くみられ、不純物濃
度は約８％であった。一方、本発明により作製した膜の
不純物濃度は１％未満であった。
の概略図を示す。深さ700Å、トラックピッチ１.６μ
ｍ、直径３.５インチのガラスディスク上１に保護層２
として窒化シリコン膜を500Å、ＲＦマグネトロンスパ
ッタ法により形成した。更に、多元蒸着法により磁性層
３であるＴｂＦｅＣｏ膜を2000Å形成した。そして最後
に500Åの保護層ＳｉＮx層４をＲＦマグネトロンスパッ
タ法により形成した。このようにして作製した光磁気記
録媒体と比較するために、同様な構成で従来用いられて
きた作製方法であるアルゴンガスをスパッタ雰囲気ガス
としたＲＦマグネトロンスパッタ法により磁性層を作製
した光磁気記録媒体についても作製した。これらの光磁
気記録媒体のオーバーライト特性について比較したとこ
ろ、本発明による媒体の方が良好なオーバーライト特性
を示した。次にガラス基板上に、上述した作製方法によ
り同様な磁性層をそれぞれ形成した。これらをエレクト
ロンマイクロプローブ法（ＥＰＭＡ）を用いて組成分析
を行った。その結果、従来技術であるスパッタ法で作製
した膜は、アルゴン原子の混入が多くみられ、不純物濃
度は約８％であった。一方、本発明により作製した膜の
不純物濃度は１％未満であった。
【００１６】〔実施例２〕ここでは、実施例１と同様な
構成を有する光磁気記録媒体を用いた。但し、磁性層に
ついては、ヘリウムガスをスパッタ雰囲気ガスとしたＲ
Ｆマグネトロンスパッタ法を用いて作製した。このよう
にして作製した光磁気記録媒体と比較するために、同様
な構成で従来用いられてきた作製方法であるアルゴンガ
スをスパッタ雰囲気ガスとしたＲＦマグネトロンスパッ
タ法により磁性層を作製した光磁気記録媒体も作製し
た。これらの光磁気記録媒体のオーバーライト特性につ
いて比較したところ、本発明による媒体の方が良好なオ
ーバーライト特性を示した。なお、ヘリウムガスをネオ
ンガス、もしくはそれらの混合ガスとしても同様な結果
が得られた。
構成を有する光磁気記録媒体を用いた。但し、磁性層に
ついては、ヘリウムガスをスパッタ雰囲気ガスとしたＲ
Ｆマグネトロンスパッタ法を用いて作製した。このよう
にして作製した光磁気記録媒体と比較するために、同様
な構成で従来用いられてきた作製方法であるアルゴンガ
スをスパッタ雰囲気ガスとしたＲＦマグネトロンスパッ
タ法により磁性層を作製した光磁気記録媒体も作製し
た。これらの光磁気記録媒体のオーバーライト特性につ
いて比較したところ、本発明による媒体の方が良好なオ
ーバーライト特性を示した。なお、ヘリウムガスをネオ
ンガス、もしくはそれらの混合ガスとしても同様な結果
が得られた。
【００１７】
【発明の効果】本発明により、光磁気記録媒体の垂直磁
化膜に光を照射して記録を行なう際に、記録を行なおう
とする磁化の方向が媒体面に対して下向きから上向き、
もしくは、上向きから下向きに切り替えるときに、照射
光のスポット径、パスル幅、照射パワー、単パルスか連
続パルスか等の光の照射方法を他の時とは変えることに
より信号を記録するオーバーライト可能な光磁気記録方
法を安定で再現性のよいものにすることができる。
化膜に光を照射して記録を行なう際に、記録を行なおう
とする磁化の方向が媒体面に対して下向きから上向き、
もしくは、上向きから下向きに切り替えるときに、照射
光のスポット径、パスル幅、照射パワー、単パルスか連
続パルスか等の光の照射方法を他の時とは変えることに
より信号を記録するオーバーライト可能な光磁気記録方
法を安定で再現性のよいものにすることができる。
図１ 図１は本実施例の光磁気記録媒体の概略図である。
１ ガラスディスク ２ 保護膜 ３ 磁性層 ４ 保護膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鴇田 才明 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 黒沢 美子 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 高橋 正悦 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内
Claims (3)
- 【請求項１】 光磁気記録媒体の垂直磁化膜に光を照射
して記録を行なう際に、記録を行なおうとする磁化の方
向が媒体面に対して下向きから上向き、もしくは、上向
きから下向きに切り替えるときに、照射光のスポット
径、パスル幅、照射パワー、単パルスか連続パルスか等
の光の照射方法を他の時とは変えることにより信号を記
録する光磁気記録方法において、前記垂直磁化膜中に含
有される不純物濃度を５％以下にすることを特徴とする
光磁気記録媒体。 - 【請求項２】 前記垂直磁化膜中に含有される不純物濃
度を５％以下にする方法として蒸着法を用いることを特
徴とする垂直磁化膜の作製方法。 - 【請求項３】 前記垂直磁化膜中に含有される不純物濃
度を５％以下にする方法として、ヘリウムもしくはネオ
ンをスパッタ雰囲気ガスの主成分のとしたスパッタ法を
用いることを特徴とする請求項２に記載の垂直磁化膜の
作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15453392A JPH05325291A (ja) | 1992-05-21 | 1992-05-21 | 光磁気記録媒体及びその作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15453392A JPH05325291A (ja) | 1992-05-21 | 1992-05-21 | 光磁気記録媒体及びその作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05325291A true JPH05325291A (ja) | 1993-12-10 |
Family
ID=15586342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15453392A Pending JPH05325291A (ja) | 1992-05-21 | 1992-05-21 | 光磁気記録媒体及びその作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05325291A (ja) |
-
1992
- 1992-05-21 JP JP15453392A patent/JPH05325291A/ja active Pending
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