JPH0527564B2 - - Google Patents
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- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 118
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 42
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 39
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 13
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims description 11
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 10
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 9
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 8
- 229910020175 SiOH Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 claims description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 21
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 13
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 6
- -1 fluorine ions Chemical class 0.000 description 4
- CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N fluoro(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)F CTIKAHQFRQTTAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N Chlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)Cl VOPWNXZWBYDODV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CC DCFKHNIGBAHNSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- LFMIQNJMJJKICW-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloro-2-fluoroethene Chemical group FC(Cl)=C(Cl)Cl LFMIQNJMJJKICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005499 carbon tetrachloride Drugs 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 1
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- IOANYFLVSWZRND-UHFFFAOYSA-N hydroxy(tripropyl)silane Chemical compound CCC[Si](O)(CCC)CCC IOANYFLVSWZRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B7/00—Halogens; Halogen acids
- C01B7/01—Chlorine; Hydrogen chloride
- C01B7/07—Purification ; Separation
- C01B7/0706—Purification ; Separation of hydrogen chloride
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、塩酸の精製法、詳しくはフツ化水素
含有塩酸をケイ素化合物により処理することを含
んで成る塩酸の精製法に関する。 〔従来の技術〕 一般に、ハロゲン化炭化水素をフツ素化して、
例えばフツ化塩素化炭化水素を製造する場合、反
応に寄与したフツ化水素と等モルの塩化水素が副
生する。また、クロロジフルオロメタンを熱分解
してテトラフルオロエチレンを製造する場合、反
応に寄与したクロロジフルオロメタンと等モルの
塩化水素が副生する。これらの塩化水素は副生塩
酸として利用されるが、これにはフツ化水素、フ
ツ化ケイ素などが含まれていることはよく知られ
ている。これらの混入したフツ化物は、副生塩酸
の有効利用にとつて大きな害を及ぼすため、その
除去方法は極めて重要な問題であり、従来から多
くの方法が提案されている。 例えば、アメリカ合衆国特許第3411879号およ
び特開昭50−110999号公報にはシリカゲルを用い
てフツ素イオンを除去する方法が記載されてい
る。しかし、これらの方法は、フツ化水素を高濃
度で含有する塩酸を効果的に精製するには不適当
である。 また、特開昭58−223604号公報にはフツ化水素
含有塩酸にケイ素化合物を接触させることによる
塩酸の精製法が記載されている。この方法におい
ては、ケイ素化合物として高価なトリアルキルク
ロロシラン化合物を多量に使用する必要があり、
また、回収された副ヘキサアルキルジシロキサン
化合物を主成分とするケイ素化合物を再使用する
場合には高温で精製を行つても相当時間を要する
という欠点がある。 本願発明者らの検討では、例えばこの回収され
た副生ヘキサアルキルジシロキサン化合物を主成
分とするケイ素化合物によりフツ化水素含有塩酸
を精製する場合、常温下、無攪拌では約５日間反
応させる必要があり、また、攪拌下、90℃で反応
させても150分も必要であることが判つている。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明の課題は、上述のような問題点を克服し
て、フツ化水素含有塩酸の更に効率的な精製法を
提供することである。 〔課題を解決するための手段〕 上記課題は、フツ化水素を含む塩酸に、式： R1R2R3SiX (1) 〔式中、Ｘは塩酸、水酸基またはOSiR4R5R6で
示される基、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は同
一または異なつて、それぞれ炭素数１〜４のアル
キル基を表す。〕 で示されるケイ素化合物またはその混合物を接触
させる工程、ならびに 前記接触工程において生じた、式： R1R2R3SiF (2) 〔式中、R1、R2およびR3は前記と同意義。〕 で示されるトリアルキルフルオロシラン化合物を
回収する工程を含んで成り、 当該回収工程は、生成したトリアルキルフルオ
ロシラン化合物を回収した後に加水分解し、式： R1R2R3SiOH (3) 〔式中、R1、R2およびR3は前記と同意義。〕 で示されるトリアルキルシラノール化合物に変換
する工程、および 次いで、トリアルキルシラノール化合物(3)を縮
合して、式： R1R2R3SiOSiR4R5R6 (4) 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記
と同意義。〕 で示されるヘキサアルキルジシロキサン化合物に
変換する工程から成り、 前段接触工程および後段回収工程に付した後に
存在するヘキサアルキルジシロキサンを主成分と
するケイ素化合物を前段接触工程へ供給して再使
用するフツ化水素含有塩酸の精製法であつて、 前段接触工程および後段回収工程に付した後に
存在するヘキサアルキルジシロキサンを主成分と
するケイ素化合物を前段接触工程に供給するに際
し、予めこのヘキサアルキルジシロキサン化合物
を主成分とするケイ素化合物の少なくとも一部を
塩素化してトリアルキルクロロシラン化合物とす
ることを特徴とする塩酸の精製法により解決され
ることが見出された。 即ち、本発明の方法によれば、前記従来法の欠
点が解消され、高価なトリアルキルクロロシラン
化合物をフツ化水素の除去に効果的に使用でき、
更に、副生ヘキサアルキルジシロキサン化合物を
主成分とするケイ素化合物を再使用する場合の反
応時間もはやめることができる。 本発明で用いるケイ素化合物(1)の中でも最も好
ましい化合物は、R1、R2、R3、R4、R5およびR6
がそれぞれメチル基、エチル基またはｎ−プロピ
ル基であり、特に好ましいケイ素化合物(1)は、ト
リメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラ
ン、トリ−ｎ−プロピルシラノールおよびヘキサ
メチルジシロキサンである。特に、トリメチルク
ロロシランは、フツ化水素と反応して沸点16℃の
トリメチルフルオロシランに変換されるので塩酸
との分離が非常に容易である。 本発明の方法に使用するケイ素化合物(1)は、除
去すべきフツ化水素に対して少なくとも当量用い
ればよく、使用量に上限はないが、あまり多量に
使用すると分離などに不必要な手間を要するた
め、好ましくは１〜10倍当量、より好ましくは１
〜５倍当量が工業的には好ましい。 ケイ素化合物(1)は混合物であつてもよく、その
組成は特に限定されるものではないが、トリアル
キルクロロシラン化合物の濃度が高過ぎる場合
（即ち、トリアルキルシラノール化合物および／
またはヘキサアルキルジシロキサン化合物の濃度
が低い場合）は、トリアルキルクロロシラン化合
物が塩酸中の水と反応してトリアルキルシラノー
ル化合物を生成する反応： R1R2R3SiCl＋H2O→R1R2R3SiOH＋HCl （） が、本発明の精製法に利用する主反応である塩酸
中のフツ化水素と反応してトリアルキルフルオロ
シラン化合物を生成する反応： R1R2R3SiCl＋HF→R1R2R3SiF＋HCl （） より優先して反応し、反応（）は反応（）よ
り約３〜４倍速く反応することが判つている。 従つて、トリアルキルクロロシラン化合物の濃
度を高くしても、そのコストに見合う程の顕著な
フツ化水素除去効果は期待できず、本発明の方法
に使用するケイ素化合物混合物中のトリアルキル
クロロシラン化合物は必ずしも高濃度である必要
はない。 フツ化水素含有塩酸の工業的製精法として経済
性を含めて考察した場合、ケイ素化合物混合物中
のトリアルキルクロロシラン化合物の濃度は、50
重量％以下、好ましくは１〜30重量％、特に約20
重量％である。かかる濃度とすることによる利点
の１つは高価なトリアルキルクロロシラン化合物
の効率的な使用がなされることである。本発明の
方法においては、例えばヘキサアルキルジシロキ
サン化合物を主成分とするケイ素化合物の少なく
とも一部の塩素化で足り、塩素化を必ずしも完全
に行う必要はない。また、塩素化の程度を適宜調
整することにより上記濃度を容易に維持すること
ができる。 また、本発明において、必要に応じ、ケイ素化
合物またはその混合物の溶媒として例えばテトラ
クロロメタン、トリクロロフルオロエチレンなど
のハロゲン化炭化水素を用いることも可能であ
る。 フツ化水素含有塩酸とケイ素化合物(1)との接触
を０〜110℃、特に室温〜50℃で行つてフツ化水
素を除去するのが好ましい。通常使用される液々
接触装置を使用して接触させることができ、例え
ば撹拌槽または塔型液々向流接触装置を使用でき
る。接触時間および接触方法などの他の操作条件
は、使用するケイ素化合物(1)の組成、使用量およ
び温度などの条件に応じて適当に選択できる。 上記接触により、ケイ素化合物(1)とフツ化水素
が反応してトリアルキルフルオロシラン化合物(2)
が生成し、塩酸からフツ化水素が除去される。 次に、生成したトリアルキルフルオロシラン化
合物を回収する。 接触操作後、反応液は精製塩酸の下層とトリア
ルキルフルオロシラン化合物が溶解したヘキサア
ルキルジシロキサン化合物を主成分とするケイ素
化合物の上層との２層に分離し、適当な液々分離
装置を使用して上層および下層をそれぞれ回収す
る。下層は精製塩酸として回収されるか、更に必
要に応じ、後述のような微量フツ化水素の除去処
理を行つて更に精製してもよい。 回収した上層をそのまま加水分解に付し、主成
分であるヘキサアルキルジシロキサン化合物中に
含まれているトリアルキルフルオロシラン化合物
をトリアルキルシラノール化合物(2)に変換し、そ
の後、更に縮合してヘキサアルキルジシロキサン
化合物とし、上層の主成分である上記ヘキサアル
キルジシロキサン化合物と共に回収する。 上記トリアルキルフルオロシラン化合物の加水
分解は、例えば０〜90℃の中性またはアルカリ性
条件下で、その後の縮合は、０〜90℃の条件下で
行うことができる。 また、生成するトリアルキルフルオロシラン化
合物の沸点が低い場合は、その一部分が接触操作
中に気体として発生するので、これを捕集して前
述したトリアルキルフルオロシラン化合物の加水
分解およびその後の縮合の工程に付してヘキサア
ルキルジシロキサン化合物として回収する。 次に、上述のようにして回収したヘキサアルキ
ルジシロキサン化合物を主成分とするケイ素化合
物の少なくとも一部を塩素化してトリアルキルク
ロロシラン化合物とした後に、先の接触工程に供
給して塩酸精製に再利用する。 この塩素化を好ましくは25重量％以上、特に30
重量％以上の塩酸を使用して効果的に行うことが
できることが本発明者等の検討の結果見出され
た。即ち、後述の実施例５で説明するように、20
重量％以下の塩酸を使用した場合では実質的に塩
素化できないが、25重量％以上の塩酸を使用した
場合は、全く意外にもその７倍以上の塩素化が可
能であることが判つた。 また、塩化水素を単独で使用するのも有用であ
り、高濃度のトリアルキルクロロシランを得るこ
とができる。更に、塩酸に加えて塩化水素を併用
するのも好ましい態様である。 精製すべき塩酸、特にその量および含有するフ
ツ化水素の濃度に応じてトリアルキルクロロシラ
ンの濃度を適当に選択し、前述当該濃度になるよ
うに塩素化の程度を調整し、要すればトリアルキ
ルクロロシランを外部から添加してよい。通常、
塩素化を常温〜60℃で行うのが好ましい。 更に、精製塩酸中に残留するフツ化水素を除去
して純度を高めるために、要すれば接触工程で得
られた精製塩酸に空気、窒素ガス、酸素ガスなど
の不活性気体を吹き込んだり、または、当該精製
塩酸を加熱することができる。 本発明の方法は、回分式または連続式のいずれ
の方法によつても実施することが可能である。 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 １ (1) フツ化水素1870ppmを含有する20.3重量％塩
酸300ｇを１のポリエチレン製反応容器に入
れ、トリメチルクロロシランを20重量％含むヘ
キサメチルジシロキサン60ｇを添加した後、室
温で５分間攪拌混合して反応させた。 (2) 反応途中、気体として生成するトリメチルフ
ルオロシランを10重量％水酸化ナトリウム溶液
中にバブリングさせて加水分解し、トリメチル
シラノールを得、次いでこれを縮合させてトリ
メチルシラノールを一部含むヘキサメチルジシ
ロキサンを得た。 (3) 反応後、分液ロートにより反応液を分液し、
精製塩酸296ｇを下層として得た。精製塩酸中
のフツ化水素濃度は23ppmであり、フツ化水素
の除去率は98.8％であつた。 また、上層として反応生成したトリメチルフ
ルオロシラン及び少量の未反応トリメチルクロ
ロシランを含むヘキサメチルジシロキサンを
得、これを前記10重量％水酸化ナトリウム溶液
中に混合し、トリメチルフルオロシランおよび
トリメチルクロロシランをそれぞれ加水分解
し、トリメチルシラノールを得、次いでこれを
縮合させてトリメチルシラノールを一部含むヘ
キサメチルジシロキサンを得、前記(2)で回収し
たトリメチルシラノールを一部含むヘキサメチ
ルジシロキサンと合わせて56.0ｇのトリメチル
シラノールを一部含むヘキサメチルジシロキサ
ンを得た。ヘキサメチルジシロキサンの回収率
はSi換算で98.0％であつた。 (4) この回収したトリメチルシラノールを一部含
むヘキサメチルジシロキサン56.0ｇと35重量％
塩酸15ｇを200mlの反応器に入れ、１分間当た
り塩化水素3.0ｇをゆつくり吹き込んで25℃で
20分間反応させた。 SE−30のカラムを用いてガスクロマトグラ
フイーで分析したところ、ヘキサメチルジシロ
キサン中にトリメチルクロロシランが23重量％
生成していた。なお、トリメチルシラノールは
検出されなかつた。 (5) 次に、このトリメチルクロロシランを含むヘ
キサメチルジシロキサン全量を使用して、フツ
化水素1870ppmを含有する20.3％塩酸300ｇを
先と同様に第２回目の処理をしたところ、精製
塩酸中のフツ化水素濃度は15ppmであつた。同
様に回収したトリメチルシラノールを一部含む
ヘキサメチルジシロキサンは53.1ｇ（使用した
ヘキサメチルジシロキサンに対する回収率はSi
換算で94.8％）であつた。 (6) 同様にして３回目の処理を行つたところ、フ
ツ化水素濃度17ppmの精製塩酸を得た。また、
ヘキサメチルジシロキサン50.7ｇを回収した。 実施例 ２ 実施例１(1)〜(3)において精製した20.3重量％塩
酸296ｇを１の反応容器に入れ、25℃で窒素を
４／分で吹き込んだ。 10分後、精製塩酸中のフツ化水素濃度は1ppm
以下になつた。 実施例 ３ 実施例１と同様に35重量％塩酸と塩化水素で処
理した25重量％トリメチルクロロシランを含むヘ
キサメチルジシロキサン10ｇを使用して、フツ化
水素濃度245ppmを含む20.7重量％塩酸300ｇを実
施例１(1)〜(3)と同様の条件下で処理したところ、
精製塩酸中のフツ化水素濃度は7ppmであつた。 実施例 ４ 20℃、ヘキサメチルジシロキサン150ｇを35重
量％塩酸100ｇで10分間処理したところ、トリメ
チルクロロシラン濃度が4.6％のヘキサメチルジ
シロキサン152ｇを得た。 このトリメチルクロロシランを含むヘキサメチ
ルジシロキサン30ｇを使用して、実施例１(1)〜(3)
と同じ条件下、フツ化水素濃度245ppmを含む
20.7％塩酸300ｇを処理した。精製塩酸中のフツ
化水素濃度を4ppmであつた。 実施例 ５ 使用する塩酸の濃度を変えてヘキサメチルジシ
ロキサンの塩素化を行つた。ヘキサメチルジシロ
キサン５ｇに下記の各濃度の塩酸40gを加えて25
℃で５分間反応させた。 反応後、分液ロートにより反応液を上層のヘキ
サメチルジシロキサンと下層の塩酸層とを分液し
てヘキサメチルジシロキサン層中のトリメチルク
ロロシランの濃度を測定した。 測定は、SE−30のカラムを用いてガスクロマ
トグラフイーで行つた。この結果を以下の表に示
す。
含有塩酸をケイ素化合物により処理することを含
んで成る塩酸の精製法に関する。 〔従来の技術〕 一般に、ハロゲン化炭化水素をフツ素化して、
例えばフツ化塩素化炭化水素を製造する場合、反
応に寄与したフツ化水素と等モルの塩化水素が副
生する。また、クロロジフルオロメタンを熱分解
してテトラフルオロエチレンを製造する場合、反
応に寄与したクロロジフルオロメタンと等モルの
塩化水素が副生する。これらの塩化水素は副生塩
酸として利用されるが、これにはフツ化水素、フ
ツ化ケイ素などが含まれていることはよく知られ
ている。これらの混入したフツ化物は、副生塩酸
の有効利用にとつて大きな害を及ぼすため、その
除去方法は極めて重要な問題であり、従来から多
くの方法が提案されている。 例えば、アメリカ合衆国特許第3411879号およ
び特開昭50−110999号公報にはシリカゲルを用い
てフツ素イオンを除去する方法が記載されてい
る。しかし、これらの方法は、フツ化水素を高濃
度で含有する塩酸を効果的に精製するには不適当
である。 また、特開昭58−223604号公報にはフツ化水素
含有塩酸にケイ素化合物を接触させることによる
塩酸の精製法が記載されている。この方法におい
ては、ケイ素化合物として高価なトリアルキルク
ロロシラン化合物を多量に使用する必要があり、
また、回収された副ヘキサアルキルジシロキサン
化合物を主成分とするケイ素化合物を再使用する
場合には高温で精製を行つても相当時間を要する
という欠点がある。 本願発明者らの検討では、例えばこの回収され
た副生ヘキサアルキルジシロキサン化合物を主成
分とするケイ素化合物によりフツ化水素含有塩酸
を精製する場合、常温下、無攪拌では約５日間反
応させる必要があり、また、攪拌下、90℃で反応
させても150分も必要であることが判つている。 〔発明が解決しようとする課題〕 本発明の課題は、上述のような問題点を克服し
て、フツ化水素含有塩酸の更に効率的な精製法を
提供することである。 〔課題を解決するための手段〕 上記課題は、フツ化水素を含む塩酸に、式： R1R2R3SiX (1) 〔式中、Ｘは塩酸、水酸基またはOSiR4R5R6で
示される基、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は同
一または異なつて、それぞれ炭素数１〜４のアル
キル基を表す。〕 で示されるケイ素化合物またはその混合物を接触
させる工程、ならびに 前記接触工程において生じた、式： R1R2R3SiF (2) 〔式中、R1、R2およびR3は前記と同意義。〕 で示されるトリアルキルフルオロシラン化合物を
回収する工程を含んで成り、 当該回収工程は、生成したトリアルキルフルオ
ロシラン化合物を回収した後に加水分解し、式： R1R2R3SiOH (3) 〔式中、R1、R2およびR3は前記と同意義。〕 で示されるトリアルキルシラノール化合物に変換
する工程、および 次いで、トリアルキルシラノール化合物(3)を縮
合して、式： R1R2R3SiOSiR4R5R6 (4) 〔式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記
と同意義。〕 で示されるヘキサアルキルジシロキサン化合物に
変換する工程から成り、 前段接触工程および後段回収工程に付した後に
存在するヘキサアルキルジシロキサンを主成分と
するケイ素化合物を前段接触工程へ供給して再使
用するフツ化水素含有塩酸の精製法であつて、 前段接触工程および後段回収工程に付した後に
存在するヘキサアルキルジシロキサンを主成分と
するケイ素化合物を前段接触工程に供給するに際
し、予めこのヘキサアルキルジシロキサン化合物
を主成分とするケイ素化合物の少なくとも一部を
塩素化してトリアルキルクロロシラン化合物とす
ることを特徴とする塩酸の精製法により解決され
ることが見出された。 即ち、本発明の方法によれば、前記従来法の欠
点が解消され、高価なトリアルキルクロロシラン
化合物をフツ化水素の除去に効果的に使用でき、
更に、副生ヘキサアルキルジシロキサン化合物を
主成分とするケイ素化合物を再使用する場合の反
応時間もはやめることができる。 本発明で用いるケイ素化合物(1)の中でも最も好
ましい化合物は、R1、R2、R3、R4、R5およびR6
がそれぞれメチル基、エチル基またはｎ−プロピ
ル基であり、特に好ましいケイ素化合物(1)は、ト
リメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラ
ン、トリ−ｎ−プロピルシラノールおよびヘキサ
メチルジシロキサンである。特に、トリメチルク
ロロシランは、フツ化水素と反応して沸点16℃の
トリメチルフルオロシランに変換されるので塩酸
との分離が非常に容易である。 本発明の方法に使用するケイ素化合物(1)は、除
去すべきフツ化水素に対して少なくとも当量用い
ればよく、使用量に上限はないが、あまり多量に
使用すると分離などに不必要な手間を要するた
め、好ましくは１〜10倍当量、より好ましくは１
〜５倍当量が工業的には好ましい。 ケイ素化合物(1)は混合物であつてもよく、その
組成は特に限定されるものではないが、トリアル
キルクロロシラン化合物の濃度が高過ぎる場合
（即ち、トリアルキルシラノール化合物および／
またはヘキサアルキルジシロキサン化合物の濃度
が低い場合）は、トリアルキルクロロシラン化合
物が塩酸中の水と反応してトリアルキルシラノー
ル化合物を生成する反応： R1R2R3SiCl＋H2O→R1R2R3SiOH＋HCl （） が、本発明の精製法に利用する主反応である塩酸
中のフツ化水素と反応してトリアルキルフルオロ
シラン化合物を生成する反応： R1R2R3SiCl＋HF→R1R2R3SiF＋HCl （） より優先して反応し、反応（）は反応（）よ
り約３〜４倍速く反応することが判つている。 従つて、トリアルキルクロロシラン化合物の濃
度を高くしても、そのコストに見合う程の顕著な
フツ化水素除去効果は期待できず、本発明の方法
に使用するケイ素化合物混合物中のトリアルキル
クロロシラン化合物は必ずしも高濃度である必要
はない。 フツ化水素含有塩酸の工業的製精法として経済
性を含めて考察した場合、ケイ素化合物混合物中
のトリアルキルクロロシラン化合物の濃度は、50
重量％以下、好ましくは１〜30重量％、特に約20
重量％である。かかる濃度とすることによる利点
の１つは高価なトリアルキルクロロシラン化合物
の効率的な使用がなされることである。本発明の
方法においては、例えばヘキサアルキルジシロキ
サン化合物を主成分とするケイ素化合物の少なく
とも一部の塩素化で足り、塩素化を必ずしも完全
に行う必要はない。また、塩素化の程度を適宜調
整することにより上記濃度を容易に維持すること
ができる。 また、本発明において、必要に応じ、ケイ素化
合物またはその混合物の溶媒として例えばテトラ
クロロメタン、トリクロロフルオロエチレンなど
のハロゲン化炭化水素を用いることも可能であ
る。 フツ化水素含有塩酸とケイ素化合物(1)との接触
を０〜110℃、特に室温〜50℃で行つてフツ化水
素を除去するのが好ましい。通常使用される液々
接触装置を使用して接触させることができ、例え
ば撹拌槽または塔型液々向流接触装置を使用でき
る。接触時間および接触方法などの他の操作条件
は、使用するケイ素化合物(1)の組成、使用量およ
び温度などの条件に応じて適当に選択できる。 上記接触により、ケイ素化合物(1)とフツ化水素
が反応してトリアルキルフルオロシラン化合物(2)
が生成し、塩酸からフツ化水素が除去される。 次に、生成したトリアルキルフルオロシラン化
合物を回収する。 接触操作後、反応液は精製塩酸の下層とトリア
ルキルフルオロシラン化合物が溶解したヘキサア
ルキルジシロキサン化合物を主成分とするケイ素
化合物の上層との２層に分離し、適当な液々分離
装置を使用して上層および下層をそれぞれ回収す
る。下層は精製塩酸として回収されるか、更に必
要に応じ、後述のような微量フツ化水素の除去処
理を行つて更に精製してもよい。 回収した上層をそのまま加水分解に付し、主成
分であるヘキサアルキルジシロキサン化合物中に
含まれているトリアルキルフルオロシラン化合物
をトリアルキルシラノール化合物(2)に変換し、そ
の後、更に縮合してヘキサアルキルジシロキサン
化合物とし、上層の主成分である上記ヘキサアル
キルジシロキサン化合物と共に回収する。 上記トリアルキルフルオロシラン化合物の加水
分解は、例えば０〜90℃の中性またはアルカリ性
条件下で、その後の縮合は、０〜90℃の条件下で
行うことができる。 また、生成するトリアルキルフルオロシラン化
合物の沸点が低い場合は、その一部分が接触操作
中に気体として発生するので、これを捕集して前
述したトリアルキルフルオロシラン化合物の加水
分解およびその後の縮合の工程に付してヘキサア
ルキルジシロキサン化合物として回収する。 次に、上述のようにして回収したヘキサアルキ
ルジシロキサン化合物を主成分とするケイ素化合
物の少なくとも一部を塩素化してトリアルキルク
ロロシラン化合物とした後に、先の接触工程に供
給して塩酸精製に再利用する。 この塩素化を好ましくは25重量％以上、特に30
重量％以上の塩酸を使用して効果的に行うことが
できることが本発明者等の検討の結果見出され
た。即ち、後述の実施例５で説明するように、20
重量％以下の塩酸を使用した場合では実質的に塩
素化できないが、25重量％以上の塩酸を使用した
場合は、全く意外にもその７倍以上の塩素化が可
能であることが判つた。 また、塩化水素を単独で使用するのも有用であ
り、高濃度のトリアルキルクロロシランを得るこ
とができる。更に、塩酸に加えて塩化水素を併用
するのも好ましい態様である。 精製すべき塩酸、特にその量および含有するフ
ツ化水素の濃度に応じてトリアルキルクロロシラ
ンの濃度を適当に選択し、前述当該濃度になるよ
うに塩素化の程度を調整し、要すればトリアルキ
ルクロロシランを外部から添加してよい。通常、
塩素化を常温〜60℃で行うのが好ましい。 更に、精製塩酸中に残留するフツ化水素を除去
して純度を高めるために、要すれば接触工程で得
られた精製塩酸に空気、窒素ガス、酸素ガスなど
の不活性気体を吹き込んだり、または、当該精製
塩酸を加熱することができる。 本発明の方法は、回分式または連続式のいずれ
の方法によつても実施することが可能である。 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 １ (1) フツ化水素1870ppmを含有する20.3重量％塩
酸300ｇを１のポリエチレン製反応容器に入
れ、トリメチルクロロシランを20重量％含むヘ
キサメチルジシロキサン60ｇを添加した後、室
温で５分間攪拌混合して反応させた。 (2) 反応途中、気体として生成するトリメチルフ
ルオロシランを10重量％水酸化ナトリウム溶液
中にバブリングさせて加水分解し、トリメチル
シラノールを得、次いでこれを縮合させてトリ
メチルシラノールを一部含むヘキサメチルジシ
ロキサンを得た。 (3) 反応後、分液ロートにより反応液を分液し、
精製塩酸296ｇを下層として得た。精製塩酸中
のフツ化水素濃度は23ppmであり、フツ化水素
の除去率は98.8％であつた。 また、上層として反応生成したトリメチルフ
ルオロシラン及び少量の未反応トリメチルクロ
ロシランを含むヘキサメチルジシロキサンを
得、これを前記10重量％水酸化ナトリウム溶液
中に混合し、トリメチルフルオロシランおよび
トリメチルクロロシランをそれぞれ加水分解
し、トリメチルシラノールを得、次いでこれを
縮合させてトリメチルシラノールを一部含むヘ
キサメチルジシロキサンを得、前記(2)で回収し
たトリメチルシラノールを一部含むヘキサメチ
ルジシロキサンと合わせて56.0ｇのトリメチル
シラノールを一部含むヘキサメチルジシロキサ
ンを得た。ヘキサメチルジシロキサンの回収率
はSi換算で98.0％であつた。 (4) この回収したトリメチルシラノールを一部含
むヘキサメチルジシロキサン56.0ｇと35重量％
塩酸15ｇを200mlの反応器に入れ、１分間当た
り塩化水素3.0ｇをゆつくり吹き込んで25℃で
20分間反応させた。 SE−30のカラムを用いてガスクロマトグラ
フイーで分析したところ、ヘキサメチルジシロ
キサン中にトリメチルクロロシランが23重量％
生成していた。なお、トリメチルシラノールは
検出されなかつた。 (5) 次に、このトリメチルクロロシランを含むヘ
キサメチルジシロキサン全量を使用して、フツ
化水素1870ppmを含有する20.3％塩酸300ｇを
先と同様に第２回目の処理をしたところ、精製
塩酸中のフツ化水素濃度は15ppmであつた。同
様に回収したトリメチルシラノールを一部含む
ヘキサメチルジシロキサンは53.1ｇ（使用した
ヘキサメチルジシロキサンに対する回収率はSi
換算で94.8％）であつた。 (6) 同様にして３回目の処理を行つたところ、フ
ツ化水素濃度17ppmの精製塩酸を得た。また、
ヘキサメチルジシロキサン50.7ｇを回収した。 実施例 ２ 実施例１(1)〜(3)において精製した20.3重量％塩
酸296ｇを１の反応容器に入れ、25℃で窒素を
４／分で吹き込んだ。 10分後、精製塩酸中のフツ化水素濃度は1ppm
以下になつた。 実施例 ３ 実施例１と同様に35重量％塩酸と塩化水素で処
理した25重量％トリメチルクロロシランを含むヘ
キサメチルジシロキサン10ｇを使用して、フツ化
水素濃度245ppmを含む20.7重量％塩酸300ｇを実
施例１(1)〜(3)と同様の条件下で処理したところ、
精製塩酸中のフツ化水素濃度は7ppmであつた。 実施例 ４ 20℃、ヘキサメチルジシロキサン150ｇを35重
量％塩酸100ｇで10分間処理したところ、トリメ
チルクロロシラン濃度が4.6％のヘキサメチルジ
シロキサン152ｇを得た。 このトリメチルクロロシランを含むヘキサメチ
ルジシロキサン30ｇを使用して、実施例１(1)〜(3)
と同じ条件下、フツ化水素濃度245ppmを含む
20.7％塩酸300ｇを処理した。精製塩酸中のフツ
化水素濃度を4ppmであつた。 実施例 ５ 使用する塩酸の濃度を変えてヘキサメチルジシ
ロキサンの塩素化を行つた。ヘキサメチルジシロ
キサン５ｇに下記の各濃度の塩酸40gを加えて25
℃で５分間反応させた。 反応後、分液ロートにより反応液を上層のヘキ
サメチルジシロキサンと下層の塩酸層とを分液し
てヘキサメチルジシロキサン層中のトリメチルク
ロロシランの濃度を測定した。 測定は、SE−30のカラムを用いてガスクロマ
トグラフイーで行つた。この結果を以下の表に示
す。
【表】
実施例 ６
ヘキサメチルジシロキサン25ｇを環流冷却管付
きの100mlの丸底フラスコに入れ、25℃で無水塩
酸を3.0ｇ／分で吹き込み、トリメチルクロロシ
ランを生成させた。反応中、反応液の一部を取り
出して実施例５と同様にしてトリメチルクロロシ
ランの濃度を測定した。この結果を以下の表に示
す。
きの100mlの丸底フラスコに入れ、25℃で無水塩
酸を3.0ｇ／分で吹き込み、トリメチルクロロシ
ランを生成させた。反応中、反応液の一部を取り
出して実施例５と同様にしてトリメチルクロロシ
ランの濃度を測定した。この結果を以下の表に示
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ フツ化水素を含む塩酸に、式： R1R2R3SiX (1) ［式中、Ｘは塩素、水酸基またはOSiR4R5R6
で示される基、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は
同一または異なつて、それぞれ炭素数１〜４のア
ルキル基を表す。］ で示されるケイ素化合物またはその混合物を接触
させる工程、ならびに 前記接触工程において生じた、式： R1R2R3SiF (2) ［式中、R1、R2およびR3は前記と同意義。］ で示されるトリアルキルフルオロシラン化合物を
回収する工程を含んで成り、 当該回収工程は、生成したトリアルキルフルオ
ロシラン化合物を回収した後に加水分解し、式： R1R2R3SiOH (3) ［式中、R1、R2およびR3は前記と同意義。］ で示されるトリアルキルシラノール化合物に変換
する工程、および 次いで、トリアルキルシラノール化合物(3)を縮
合して、式： R1R2R3SiOSiR4R5R6 (4) ［式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記
と同意義。］ で示されるヘキサアルキルジシロキサン化合物に
変換する工程から成り、 前段接触工程および後段回収工程に付した後に
存在するヘキサアルキルジシロキサン化合物を主
成分とするケイ素化合物を前段接触工程へ供給し
て再使用するフツ化水素含有塩酸の精製法であつ
て、 前段接触工程および後段回収工程に付した後に
存在するヘキサアルキルジシロキサン化合物を主
成分とするケイ素化合物を前段接触工程に供給す
るに際し、予めこのヘキサアルキルジシロキサン
化合物を主成分とするケイ素化合物の少なくとも
一部を塩素化してトリアルキルクロロシラン化合
物とすることを特徴とする塩酸の精製法。 ２ 25重量％以上の濃度の塩酸を使用して塩素化
を行う特許請求の範囲第１項記載の精製法。 ３ 塩化水素を使用して塩素化を行う特許請求の
範囲１項記載の精製法。 ４ 塩酸に加え、塩化水素を併用して塩素化する
特許請求の範囲第１項または第２項記載の精製
法。 ５ フツ化水素を含む塩酸と接触させるケイ素化
合物混合物中のトリアルキルクロロシランの濃度
が１〜30重量％である特許請求の範囲第１〜４項
のいずれかに記載の精製法。 ６ 塩素化の程度を調節することにより、ケイ素
化合物混合物中のトリアルキルクロロシランの濃
度を１〜30重量％にする特許請求の範囲第５項記
載の方法。 ７ 塩素化に加えてトリアルキルクロロシランを
添加することにより、ケイ素化合物混合物中のト
リアルキルクロロシランの濃度を１〜30重量％に
する特許請求の範囲第５項記載の精製法。 ８ 特許請求の範囲第１〜７項のいずれかに記載
の精製法により得られた精製塩酸に不活性気体を
バブリングさせるか、あるいは加熱する工程を更
に含んで成る塩酸の精製法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63135162A JPH01305803A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 塩酸の精製法 |
| EP89109792A EP0344738B1 (en) | 1988-05-31 | 1989-05-31 | Process for purification of hydrochloric acid |
| DE89109792T DE68908274T2 (de) | 1988-05-31 | 1989-05-31 | Verfahren zur Reinigung von Salzsäure. |
| US07/672,769 US5122356A (en) | 1988-05-31 | 1991-03-20 | Process for purification of hydrochloric acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63135162A JPH01305803A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 塩酸の精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01305803A JPH01305803A (ja) | 1989-12-11 |
| JPH0527564B2 true JPH0527564B2 (ja) | 1993-04-21 |
Family
ID=15145274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63135162A Granted JPH01305803A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 塩酸の精製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5122356A (ja) |
| EP (1) | EP0344738B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01305803A (ja) |
| DE (1) | DE68908274T2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015152258A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
| CN106927424A (zh) * | 2017-03-03 | 2017-07-07 | 巨化集团技术中心 | 一种酸性水溶液的除氟方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19521147C1 (de) * | 1995-06-09 | 1996-12-05 | Bock Orthopaed Ind | Gelenkloses Prothesenfußteil |
| CN106927423A (zh) * | 2017-03-03 | 2017-07-07 | 巨化集团技术中心 | 一种含氢氟酸酸性水溶液的脱氟方法 |
| US11919788B2 (en) * | 2021-07-19 | 2024-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Methods of removing inorganic fluoride from compositions containing fluorinated organic compounds |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2719859A (en) * | 1950-09-21 | 1955-10-04 | Wacker Chemie Gmbh | Method for the hydrolysis of organosilicon compounds |
| US2757189A (en) * | 1952-11-06 | 1956-07-31 | Metallgesellschaft Ag | Method of producing polyorganosiloxanes |
| JPS52144628A (en) * | 1976-05-24 | 1977-12-02 | Fujisawa Pharmaceut Co Ltd | Method and apparatus for preparation of trimethylsilyl choloride |
| JPS5941998B2 (ja) * | 1979-01-05 | 1984-10-11 | 富山化学工業株式会社 | トリ置換ハロゲノシランの製造法 |
| JPS58223604A (ja) * | 1982-06-17 | 1983-12-26 | Daikin Ind Ltd | 塩酸の精製法 |
| JPS62241806A (ja) * | 1986-04-15 | 1987-10-22 | Asahi Glass Co Ltd | 塩酸水溶液の精製方法 |
| US4714604A (en) * | 1986-08-13 | 1987-12-22 | The Dow Chemical Company | Method of separating HF and SiF4 from HCl |
| US4780556A (en) * | 1987-02-06 | 1988-10-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing chlorosilanes |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP63135162A patent/JPH01305803A/ja active Granted
-
1989
- 1989-05-31 DE DE89109792T patent/DE68908274T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-05-31 EP EP89109792A patent/EP0344738B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-03-20 US US07/672,769 patent/US5122356A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015152258A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
| JP2015199067A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-12 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
| CN105339310A (zh) * | 2014-03-31 | 2016-02-17 | 大金工业株式会社 | 含氟水溶液的处理方法 |
| CN105339310B (zh) * | 2014-03-31 | 2017-09-22 | 大金工业株式会社 | 含氟水溶液的处理方法 |
| US10562800B2 (en) | 2014-03-31 | 2020-02-18 | Daikin Industries, Ltd. | Method for processing fluorine-containing aqueous solution |
| CN106927424A (zh) * | 2017-03-03 | 2017-07-07 | 巨化集团技术中心 | 一种酸性水溶液的除氟方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0344738B1 (en) | 1993-08-11 |
| EP0344738A1 (en) | 1989-12-06 |
| DE68908274T2 (de) | 1993-12-16 |
| JPH01305803A (ja) | 1989-12-11 |
| US5122356A (en) | 1992-06-16 |
| DE68908274D1 (de) | 1993-09-16 |
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