JPS58223604A - 塩酸の精製法 - Google Patents
塩酸の精製法Info
- Publication number
- JPS58223604A JPS58223604A JP10483182A JP10483182A JPS58223604A JP S58223604 A JPS58223604 A JP S58223604A JP 10483182 A JP10483182 A JP 10483182A JP 10483182 A JP10483182 A JP 10483182A JP S58223604 A JPS58223604 A JP S58223604A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrochloric acid
- formula
- purification method
- hydrogen
- silicon compound
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
７ツ化水素を含む塩酸に特定のシラン化合物を接触させ
ることから成る塩酸の精製法に関する。
ることから成る塩酸の精製法に関する。
一般に、ハロゲン化炭化水素を７ツ素化して、たとえは
７フ化塩素化炭化水素を製造する場合、反応に寄与した
７ツ化水素と等モルの塩化水素が副生される。この塩化
水素は副生塩酸として利用されるか、これには７ツ化水
素、７ツ化ケイ素などが混入されてくることはよく知ら
れーＣいる。これら混入した７ツ化物は、副生塩酸の有
効利用にとつ一Ｃ大きな害を・及ぼすため、その除去方
法はきわめて重要な問題であり、従来から多くの方法が
提案されている。たとえは、米国特許第３，４１ １。
７フ化塩素化炭化水素を製造する場合、反応に寄与した
７ツ化水素と等モルの塩化水素が副生される。この塩化
水素は副生塩酸として利用されるか、これには７ツ化水
素、７ツ化ケイ素などが混入されてくることはよく知ら
れーＣいる。これら混入した７ツ化物は、副生塩酸の有
効利用にとつ一Ｃ大きな害を・及ぼすため、その除去方
法はきわめて重要な問題であり、従来から多くの方法が
提案されている。たとえは、米国特許第３，４１ １。
８７９号や特開昭５０−］ １０９９９号公報にはシリ
カゲルを用いて７ン素イオンを除去する方法か記載され
一〇いる。しかし、シリカゲルを用いるこれらの方法で
は、°７ツ化水素を高濃度で含有する塩酸を効果的に精
製するには不適当である。
カゲルを用いて７ン素イオンを除去する方法か記載され
一〇いる。しかし、シリカゲルを用いるこれらの方法で
は、°７ツ化水素を高濃度で含有する塩酸を効果的に精
製するには不適当である。
本発明者らは、塩酸の精製法について研究を重ねた結果
、特定のケイ素化合物が７フ化水素と反応して効果的に
クツ化水素が除去されうろことを見い出し本発明を完成
するに至った。
、特定のケイ素化合物が７フ化水素と反応して効果的に
クツ化水素が除去されうろことを見い出し本発明を完成
するに至った。
すなわら、本発明の一要旨は、７ツ化水素を含有する塩
酸に式： ％式％（１） Ｕ式中、Ｘは塩素、水酸基またはＯＳ ｉＲ’ Ｒ５Ｒ
６で示される基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５および
Ｒ６はそれぞれ炭素数１〜４のアルキル基またはフェニ
ル基を表わす。〕 で示されるケイ素化合物を接触させて７ツ化水素を除去
することを特徴とする塩酸の精製法に存する。
酸に式： ％式％（１） Ｕ式中、Ｘは塩素、水酸基またはＯＳ ｉＲ’ Ｒ５Ｒ
６で示される基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５および
Ｒ６はそれぞれ炭素数１〜４のアルキル基またはフェニ
ル基を表わす。〕 で示されるケイ素化合物を接触させて７ツ化水素を除去
することを特徴とする塩酸の精製法に存する。
本発明で用いるケイ素化合物（Ｊ）の中でも好ましいも
のは、技１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ およびＲ６かそ
れぞれメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基またはフェ
ニル基である化合物であり、特に好ましいものは、トリ
メチルクロロ７ラン、トリエチルクロロ７ラン、メチル
ジフェニルクロロフラン、トリーｎ−プロビルシラノー
ルおよびヘキ→ノーメチルジノロキサンである。特にト
リエチルクロロ７ランは°７ツ化水素と反応して沸点１
６℃のトリメチルフルオロ７ランに変換されるので塩酸
との分離か非常に容易である。
のは、技１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５ およびＲ６かそ
れぞれメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基またはフェ
ニル基である化合物であり、特に好ましいものは、トリ
メチルクロロ７ラン、トリエチルクロロ７ラン、メチル
ジフェニルクロロフラン、トリーｎ−プロビルシラノー
ルおよびヘキ→ノーメチルジノロキサンである。特にト
リエチルクロロ７ランは°７ツ化水素と反応して沸点１
６℃のトリメチルフルオロ７ランに変換されるので塩酸
との分離か非常に容易である。
ゲイ素化合物（ １． ＞は、７ツ化水素に対して少な
くとも当用用いれはよく、使用量に」二限はないがあま
り多量に用いると分離などに不必要な手間がかかるから
、１〜１０倍当量、より好ましくは１〜５倍当附、特に
１〜２倍当量が工業的には好ましい。
くとも当用用いれはよく、使用量に」二限はないがあま
り多量に用いると分離などに不必要な手間がかかるから
、１〜１０倍当量、より好ましくは１〜５倍当附、特に
１〜２倍当量が工業的には好ましい。
接触は０〜１１０℃で行われる。接触時間はケイ素化合
物（１）の使用量、温度などの他の条件に応して定めれ
ばよい。
物（１）の使用量、温度などの他の条件に応して定めれ
ばよい。
ケイ素化合物（Ｉ）は、７ツ化水素と反応して式：％式
％（） 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は前
記と同意義。〕 で示される化合物を生ずる。
％（） 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は前
記と同意義。〕 で示される化合物を生ずる。
かくして、７ツ化水素が除去された塩酸は、生成した°
フルオロ７ラン（ＩＩ）および存在するならば未反応ケ
イ素化合物と分離される。この分割，は、後者を蒸発さ
せることにより、あるいは液液分割により行うことがで
きる。
フルオロ７ラン（ＩＩ）および存在するならば未反応ケ
イ素化合物と分離される。この分割，は、後者を蒸発さ
せることにより、あるいは液液分割により行うことがで
きる。
一方、゛フルオロシラン（旧の再利用について述べると
、生成したフルオロシラン（ＩＩ）は、沸点の低いもの
であれば７ツ化水素除去操作中に自然に蒸発するので、
これを回収して再利用することかできる。沸点の高いも
のであれば、存在することがある未反応ケイ素化合物（
１）と共に塩酸から液液分離する。フルオロ７ラン（Ｉ
Ｉ）とケイ素化合物との混合物は、さらに蒸留により分
離し一Ｃ再利用するか、またはそのまま後述の加水分解
および要すれば縮合に付して再利用することができる。
、生成したフルオロシラン（ＩＩ）は、沸点の低いもの
であれば７ツ化水素除去操作中に自然に蒸発するので、
これを回収して再利用することかできる。沸点の高いも
のであれば、存在することがある未反応ケイ素化合物（
１）と共に塩酸から液液分離する。フルオロ７ラン（Ｉ
Ｉ）とケイ素化合物との混合物は、さらに蒸留により分
離し一Ｃ再利用するか、またはそのまま後述の加水分解
および要すれば縮合に付して再利用することができる。
市なわら、フルオロ７ラン（旧は、加水分解して式：
％式％（）
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は前
記と同意義。］ て示されるシラノールに変換することかでき、これをフ
ッ化水素の除去のために再利用できる。加水分解は、０
〜９０℃で、中性またはアルカリ性の条件下で加水分解
により行うことができる。
記と同意義。］ て示されるシラノールに変換することかでき、これをフ
ッ化水素の除去のために再利用できる。加水分解は、０
〜９０℃で、中性またはアルカリ性の条件下で加水分解
により行うことができる。
／ラノル（ＩＩＩ ）は一般に不安定であるので、これ
をさらに酸（たとえば、塩酸）て処理しＣ縮合させて式
： ％式％ ） 〔式中、ｋｌ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は１
）ｆＩ記と同意義。〕 て示されるジシロキサンに変換して回収することもてき
る。これをフッ化水素の除去のために再利用することか
てきる。縮合は、酸性の条件下で０〜９０℃の温度で行
うことができる。
をさらに酸（たとえば、塩酸）て処理しＣ縮合させて式
： ％式％ ） 〔式中、ｋｌ、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は１
）ｆＩ記と同意義。〕 て示されるジシロキサンに変換して回収することもてき
る。これをフッ化水素の除去のために再利用することか
てきる。縮合は、酸性の条件下で０〜９０℃の温度で行
うことができる。
本発明の精製法によれば、比較的多量の７フ化水素を含
有す°る塩酸でも効果的に精製でき、９９％以上の゛７
ツ化水素を除去できる。除去剤による塩酸の汚染も少な
く、精製した塩酸中には除去剤はＩ ＯＰＰｍ 以下し
か含まれていない。また本発明では除去剤を再生使用す
ることか可能である。
有す°る塩酸でも効果的に精製でき、９９％以上の゛７
ツ化水素を除去できる。除去剤による塩酸の汚染も少な
く、精製した塩酸中には除去剤はＩ ＯＰＰｍ 以下し
か含まれていない。また本発明では除去剤を再生使用す
ることか可能である。
次に実施例を示し、本発明の詳細な説明する。
実施例１
フッ化水素２６５０ ＰＰｍ を含有する２０，７％塩
酸５００ｇをポリエチレン製の１１反応容器に入れ、攪
拌下にトリメチルクロロシラン１０ｇを添加し、続いて
２５℃で１時間攪拌挿を続けた。
酸５００ｇをポリエチレン製の１１反応容器に入れ、攪
拌下にトリメチルクロロシラン１０ｇを添加し、続いて
２５℃で１時間攪拌挿を続けた。
３０分静置後、分液ロートにより上部の有機層を分離し
て精製塩酸４９５ｇを得た。この塩酸中の７フ化水素濃
度は８ＰＰｍ であり、除去率は９９．７％であ−っだ
。
て精製塩酸４９５ｇを得た。この塩酸中の７フ化水素濃
度は８ＰＰｍ であり、除去率は９９．７％であ−っだ
。
実施例２
実施例１においてトリメチルクロロシランの代りにトリ
エチルクロロシラン１５ｇを用い、２５℃で３時間攪拌
する以外は同様の手順を繰り返し−ｒ精製塩酸を得た。
エチルクロロシラン１５ｇを用い、２５℃で３時間攪拌
する以外は同様の手順を繰り返し−ｒ精製塩酸を得た。
７ツ化水素濃度：］８ｐｐｍ０除去率：９９３％。
実施例３
実施例］においてトリメチルクロロシランの代りにジフ
ェニルメチルクロロシラン３０ｇを用い、２５℃で３時
間攪拌する以外は実施例１と同様の手順を繰り返して精
製塩酸を得た。７ツ化水素濃度： ３７ ＰＰ”ｏ除去
率：９８．６％。
ェニルメチルクロロシラン３０ｇを用い、２５℃で３時
間攪拌する以外は実施例１と同様の手順を繰り返して精
製塩酸を得た。７ツ化水素濃度： ３７ ＰＰ”ｏ除去
率：９８．６％。
実施例４
還流冷却器、滴下ロートおよびマグネチツクスターラを
備えたポリエチレン製１１反応容器に゛７ツ化水素２６
５０ ｐｐｍ を含有する２ ０．７ ％塩酸５００ｇ
を入れ、攪拌しなから湯浴により塩酸の？Ｒｔ Ｉｎを
９０℃に保ちつつ、滴下ロートからヘキサメチルジシロ
キサン１０ｇを添加した。５時間還流下に反応させた後
、３０分間静置し、室温まで冷却し、分液ロートで上部
の有機層を分離して精製塩酸４９５ｇを得た。フッ化水
素濃度はＪ Ｏｐｐｍ であり、除去率は９９．６％で
あ−った。
備えたポリエチレン製１１反応容器に゛７ツ化水素２６
５０ ｐｐｍ を含有する２ ０．７ ％塩酸５００ｇ
を入れ、攪拌しなから湯浴により塩酸の？Ｒｔ Ｉｎを
９０℃に保ちつつ、滴下ロートからヘキサメチルジシロ
キサン１０ｇを添加した。５時間還流下に反応させた後
、３０分間静置し、室温まで冷却し、分液ロートで上部
の有機層を分離して精製塩酸４９５ｇを得た。フッ化水
素濃度はＪ Ｏｐｐｍ であり、除去率は９９．６％で
あ−った。
実施例５
実施例４におい−Ｃ１反応中に還流冷却器の頂部より発
生するガスを塩化ビニルチューブを用いて各々１０％水
酸化カリウム溶液５００ｇの入ったガス洗浄塔２塔（直
列に配列）に通した。実施例４の反応を１０回繰り返し
た後、水酸化カリウム溶液上に生じた有機層を分岐し、
５％塩酸１００ｇと共に１時間攪拌した。３０分静置後
、有機層を分液してヘキサメチルジシロキサン４８．３
ｇ ’、ｉ：得た。これを用いて実施例４と同様に塩
酸を処理して同様の結果を得た。
生するガスを塩化ビニルチューブを用いて各々１０％水
酸化カリウム溶液５００ｇの入ったガス洗浄塔２塔（直
列に配列）に通した。実施例４の反応を１０回繰り返し
た後、水酸化カリウム溶液上に生じた有機層を分岐し、
５％塩酸１００ｇと共に１時間攪拌した。３０分静置後
、有機層を分液してヘキサメチルジシロキサン４８．３
ｇ ’、ｉ：得た。これを用いて実施例４と同様に塩
酸を処理して同様の結果を得た。
実施例６
実施例４において、反応中に還流冷却器の頂部より発生
するガスをアセトンドライアイスバスで冷却したコール
ドトラップに導びき捕集した。実施例４の反応を１０回
繰り返した時に捕集された液を、エチルエーテル３００
ｍｌに溶解し、食塩−氷寒剤で冷却下攪拌しなからｌ
Ｎ −Ｎ ａ ＯＨを用いフェノールノタレン中性に
保ちながら、約３０分をかけてゆっくり添加した。有機
層を分液し、水層をエーテル抽出し、両有機層を合して
ガラス精溜塔を用い−Ｃ精溜し、トリメチル７ラノール
５０．６ｇを得た。
するガスをアセトンドライアイスバスで冷却したコール
ドトラップに導びき捕集した。実施例４の反応を１０回
繰り返した時に捕集された液を、エチルエーテル３００
ｍｌに溶解し、食塩−氷寒剤で冷却下攪拌しなからｌ
Ｎ −Ｎ ａ ＯＨを用いフェノールノタレン中性に
保ちながら、約３０分をかけてゆっくり添加した。有機
層を分液し、水層をエーテル抽出し、両有機層を合して
ガラス精溜塔を用い−Ｃ精溜し、トリメチル７ラノール
５０．６ｇを得た。
実施例７
実施例１においてトリメチルクロロ７ランの代りにトリ
メチルシラノール］Ｏｇを用いる以外は同様の手順を繰
り返して精製塩酸を得た。フッ化水素濃度６ｐｐｍ０
除去率９９８％。
メチルシラノール］Ｏｇを用いる以外は同様の手順を繰
り返して精製塩酸を得た。フッ化水素濃度６ｐｐｍ０
除去率９９８％。
実施例６で得たトリメチルシラノールを用いても結果は
同様であ−っだ。
同様であ−っだ。
特ＷＩ出願人 ダイキン工業株式会社
代理人 ４を惧士青山葆（外２名）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １フツ化水素を含有する塩酸に 式・Ｒ１Ｒ２Ｒ３５ｉＸ 〔式中、Ｘは塩素、水酸基または０８ｉＲ４Ｒ５Ｒ６て
示される基、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６
はそれぞれ炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル基
を表わす。〕 て示されるケイ素化合物を接触させて７ツ化水素を除去
することを特徴とする塩酸の精製法。 ２、ｘか塩素である特許請求の範囲第１項記載の精製法
。 ３１ζ１、Ｒ２およびＲ３がすべてメチル基またはエチ
ル基である特許請求の範囲第２項記載の精製法。 ４、ｘか水酸基である特許請求の範囲第１項記載の精製
法。 ５、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がすべてｎ−プロピル基であ
る特許請求の範囲第４項記載の精製法。 ６、ｘが０５ｉＲ４１（５Ｒ６て示される基である特許
請求の範囲第１項記載の精製法。 ７、Ｒ１−Ｒ６のすへてがメチル基である特許請求の範
囲第６項記載の精製法。 ８．７）化水素を含有する塩酸に 式： Ｒ１Ｒ２Ｒ３５ｉＸ 〔式中、Ｘは塩素、水酸基または０８ｉＲ４Ｒ５Ｒ６で
示される基、Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ｔｔ５およびに
６はそれぞれ炭素数１〜４のアルキル基またはフェニル
基を表わす。〕 で示されるケイ素化合物を接触させる工程と、前記工程
において生じた 式： Ｒ１Ｒ２Ｒ３５ｉＦ 〔式中、ｋｌ、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義。〕で示
される化合物を加水分解して 式： Ｒ’ Ｒ２Ｒ３５ｉ ＯＨ 〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびに３は前記と同意義。〕で示
されるシラノールに変換し、要すればシラノールを縮合
させて 式・Ｒ’ Ｒ２Ｒ３Ｓ ｉｔｓ １Ｒ４Ｒ５Ｒ６〔式中
：■り１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は前記と
同意義。〕 て示されるシシロキザンに変換する工程を含み、後段工
程で得られるシラノールおよび／またはジンロキザンを
前段工程へ再給供することを特徴とする塩酸の精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10483182A JPS58223604A (ja) | 1982-06-17 | 1982-06-17 | 塩酸の精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10483182A JPS58223604A (ja) | 1982-06-17 | 1982-06-17 | 塩酸の精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58223604A true JPS58223604A (ja) | 1983-12-26 |
| JPH0210081B2 JPH0210081B2 (ja) | 1990-03-06 |
Family
ID=14391318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10483182A Granted JPS58223604A (ja) | 1982-06-17 | 1982-06-17 | 塩酸の精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58223604A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5122356A (en) * | 1988-05-31 | 1992-06-16 | Daikin Industries Ltd. | Process for purification of hydrochloric acid |
| WO2015152258A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
-
1982
- 1982-06-17 JP JP10483182A patent/JPS58223604A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5122356A (en) * | 1988-05-31 | 1992-06-16 | Daikin Industries Ltd. | Process for purification of hydrochloric acid |
| WO2015152258A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
| JP2015199067A (ja) * | 2014-03-31 | 2015-11-12 | ダイキン工業株式会社 | フッ素含有水溶液の処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0210081B2 (ja) | 1990-03-06 |
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