JPH05275161A - ライン型加熱体 - Google Patents

ライン型加熱体

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Publication number
JPH05275161A
JPH05275161A JP4068822A JP6882292A JPH05275161A JP H05275161 A JPH05275161 A JP H05275161A JP 4068822 A JP4068822 A JP 4068822A JP 6882292 A JP6882292 A JP 6882292A JP H05275161 A JPH05275161 A JP H05275161A
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JP
Japan
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electric resistance
film
resistance film
oversurface
insulating substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP4068822A
Other languages
English (en)
Inventor
Shingo Oyama
真吾 大山
Shigeo Ota
茂雄 太田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP4068822A priority Critical patent/JPH05275161A/ja
Priority to US08/035,038 priority patent/US5321234A/en
Publication of JPH05275161A publication Critical patent/JPH05275161A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/10Heater elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor
    • H05B3/12Heater elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor characterised by the composition or nature of the conductive material
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/20Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
    • G03G15/2003Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/20Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater
    • H05B3/22Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible
    • H05B3/26Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor mounted on insulating base
    • H05B3/265Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater non-flexible heating conductor mounted on insulating base the insulating base being an inorganic material, e.g. ceramic

Abstract

(57)【要約】 【目的】 絶縁基板の上面に、帯状電気抵抗膜を形成す
ると共に、この電気抵抗膜を覆う保護膜を形成して成る
加熱体において、この加熱体における熱効率を、前記保
護膜における電気絶縁特性を低下することなく向上す
る。 【構成】 保護膜8で覆われる電気抵抗膜Cを、絶縁基
板1の上面に形成した第1電気抵抗膜3と、この第1電
気抵抗膜3の上面のうち略中央部の部分に狭い幅で且つ
薄い膜厚さにして形成した第2電気抵抗膜5との二層構
造にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、複写機におけ
る定着部の加熱ヒータとか、或いは、合成樹脂フィルム
のラミネータにおける加熱ヒータ等に使用されるライン
型加熱体の構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のライン型加熱体は、例え
ば、特開平2−65086号公報及び特開平2−129
883号公報等に記載され、且つ、図6及び図7に示す
ように、細長い形状の絶縁基板A1 の上面に、帯状の電
気抵抗膜A2 を、前記絶縁基板A1 の長手方向に沿って
一直線状に延びるように形成すると共に、絶縁基板A1
の両端部上面に、前記電気抵抗膜A2 の両端に対する通
電端子部A3 ,A4 を形成し、更に、前記絶縁基板A1
の上面に、ガラス等の耐熱性を有する保護膜A5を、当
該保護膜A5 によって前記電気抵抗膜A2 を覆うように
形成し、前記電気抵抗膜A2 を、その両端の通電端子部
3 ,A4 からの電流の印加によって発熱するように構
成している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このライン
型加熱体における帯状の電気抵抗膜A2 は、絶縁基板A
1 の上面に、当該電気抵抗膜の材料であるペーストを、
スクリーン印刷法によって塗着したのち、加熱焼成する
ことによって形成するものであり、この電気抵抗膜A2
の形成に際して、当該電気抵抗膜A2 における長手方向
の左右両側縁には、ペーストが乾燥するまでの間におけ
る表面張力、及び加熱焼成中において溶融したときにお
ける表面張力等によって、盛り上がり部A2 ′,A2
が発生することになり、しかも、この盛り上がり部
2 ′,A2 ″の高さは、電気抵抗膜A 2 の膜厚さに比
例して高くなる傾向を呈するのである。
【0004】従って、絶縁基板A1の上面に、ガスラ等
の保護膜A5 を、前記電気抵抗膜A 2 を覆うように形成
した場合、この保護膜A5 における膜厚さは、前記電気
抵抗膜A2 の中央の部分ではT1 であるが、電気抵抗膜
2 の左右両側縁における盛り上がり部A2 ′,A2
の部分ではT2 と局部的に薄くなることにより、この保
護膜A5 における電気絶縁特性は、当該保護膜A5 にお
ける膜厚さが前記両盛り上がり部A2 ′,A2 ″の箇所
でT2 と薄くなる部分において低下することになる。
【0005】そこで、従来は、前記保護膜A5 における
膜厚さを、前記電気抵抗膜A2 における両盛り上がり部
2 ′,A2 ″の箇所においても所定の電気絶縁特性を
有するように、全体にわたって厚くするようにしている
から、この保護膜A5 における熱の遮断特性が高くな
り、加熱体における熱効率が低下すると言う問題があっ
た。
【0006】本発明は、この問題を解消できるようにし
た加熱体を提供することを技術的課題とするものであ
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、絶縁基板の上面に、帯状の電気抵抗膜
と、該電気抵抗膜の両端に対する通電端子部とを形成
し、更に、ガラス等の耐熱性の保護膜を、当該保護膜に
よって前記電気抵抗膜を覆うように形成して成る加熱体
において、前記電気抵抗膜を、前記絶縁基板の上面に形
成した第1電気抵抗膜と、この第1電気抵抗膜より薄い
膜厚さの第2電気抵抗膜との二層構造にする一方、前記
第2電気抵抗膜を、前記第1電気抵抗膜よりも狭い幅に
して、これを、前記第1電気抵抗膜の上面のうち略中央
部に形成する構成にした。
【0008】
【作 用】このように構成すると、膜厚さの厚い第1
電気抵抗膜における上面のうち、その左右両側縁に発生
する盛り上がり部の間における谷の部分に、薄い膜厚さ
の第2電気抵抗膜を形成することができる。この場合に
おいて前記第2電気抵抗膜は、薄い膜厚さであることに
より、その左右両側縁に盛り上がり部が殆ど発生するこ
とはないから、この第2電気抵抗膜によって、前記第1
電気抵抗膜における上面のうちその左右両側縁における
両盛り上がり部の間の谷の部分を埋めることができて、
左右両側縁における盛り上がり部を略完全に消去できる
か、或いは、左右両側縁における盛り上がり部の高さを
低くできるのである。
【0009】
【発明の効果】その結果、本発明によると、電気抵抗膜
を覆う保護膜を形成する場合において、この保護膜にお
ける膜厚さが前記電気抵抗膜を形成するときに発生する
盛り上がり部の箇所において局部的に薄くなることを解
消でき、当該保護膜における膜厚さを、所定の電気絶縁
特性を有する厚さに均一化することができるから、加熱
体における熱効率を、前記保護膜における電気絶縁特性
を低下することなく向上できる効果を有する。
【0010】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面(図1〜図4)
について説明する。この図において符号1は、セラミッ
ク等の耐熱性絶縁材料にて細い長い形状に形成した絶縁
基板を示し、この絶縁基板1の上面に、幅寸法W1 のス
リット状抜き窓2aを備えたスクリーン板2を重ね、次
いで、このスクリーン板2における抜き窓2a内に、電
気抵抗膜の材料であるAg−Pd又は酸化ルテニウムの
ペーストを充填したのち、前記スクリーン板2を除去す
ると言うスクリーン印刷を行を行ったのち、加熱炉に入
れて加熱・焼成することにより、前記絶縁基板1の上面
に、幅寸法がW1 で、膜厚さがS1 である帯状の第1電
気抵抗膜3を形成する。
【0011】この第1電気抵抗膜3の形成に際して、当
該第1電気抵抗膜3における長手方向の左右両側縁に
は、図4に示すように、盛り上がり部3′,3″が形成
される。そこで、前記第1電気抵抗膜3における上面の
うち中央部には、図2に示すように、狭い幅寸法W2
スリット状抜き窓4aを備えたスクリーン体4を使用し
て、Ag−Pdペーストを薄い膜状にスクリーン印刷し
たのち、加熱炉に入れて加熱・焼成することにより、狭
い幅寸法W2 で且つ薄い膜厚さS2 の第2電気抵抗膜5
を形成するのであり、これら第1電気抵抗膜3と第2電
気抵抗膜5との両方にて、幅寸法がWで膜厚さがSであ
る二層構造の電気抵抗膜Cを形成するのである。
【0012】この場合において、第2電気抵抗膜5は、
薄い膜厚さであることにより、その左右両側縁に盛り上
がり部が殆ど発生することはないから、図4に示すよう
に、この第2電気抵抗膜5によって、前記第1電気抵抗
膜3における上面のうちその左右両側縁における両盛り
上がり部3′,3″の間の谷の部分を埋めることができ
て、左右両側縁における盛り上がり部3′,3″を略完
全に消去できるか、或いは、左右両側縁における盛り上
がり部3′,3″の高さを低くできる。
【0013】従って、以後は、図3に示すように、絶縁
基板1の上面における両端部に、通電端子部6,7を形
成したのち、ガラス等の耐熱性の保護膜8を、当該保護
膜8によって前記電気抵抗膜3,5の全体を覆うように
形成すれば良いのである。なお、前記実施例は、一枚の
絶縁基板1に対して一本の電気抵抗膜を形成する場合に
ついて説明したが、本発明は、これに限らず、図5に示
すように、一枚の絶縁基板1aに対して、複数本の帯状
電気抵抗膜C1 ,C2 ,C3 を並列状に形成する場合に
も適用できることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】絶縁基板の上面に対して第1電気抵抗膜を形成
している状態を示す斜視図である。
【図2】前記第1電気抵抗膜の上面に対して第2電気抵
抗膜を形成している状態を示す斜視図である。
【図3】前記絶縁基板の上面に対して通電端子部と保護
膜とを形成した状態の斜視図である。
【図4】図3のIV−IV視拡大断面図である。
【図5】本発明の別の実施例を示す斜視図である。
【図6】従来における加熱体を示す斜視図である。
【図7】図6のVII −VII 視拡大断面図である。
【符号の説明】
1 絶縁基板 C 電気抵抗膜 3 第1電気抵抗膜 5 第2電気抵抗膜 6,7 通電端子部 8 保護膜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁基板の上面に、帯状の電気抵抗膜と、
    該電気抵抗膜の両端に対する通電端子部とを形成し、更
    に、ガラス等の耐熱性の保護膜を、当該保護膜によって
    前記電気抵抗膜を覆うように形成して成る加熱体におい
    て、前記電気抵抗膜を、前記絶縁基板の上面に形成した
    第1電気抵抗膜と、この第1電気抵抗膜より薄い膜厚さ
    の第2電気抵抗膜との二層構造にする一方、前記第2電
    気抵抗膜を、前記第1電気抵抗膜よりも狭い幅にして、
    これを、前記第1電気抵抗膜の上面のうち略中央部に形
    成したことを特徴とするライン型加熱体。
JP4068822A 1992-03-26 1992-03-26 ライン型加熱体 Pending JPH05275161A (ja)

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JP4068822A JPH05275161A (ja) 1992-03-26 1992-03-26 ライン型加熱体
US08/035,038 US5321234A (en) 1992-03-26 1993-03-22 Linear heater

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