JPH05274620A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH05274620A JPH05274620A JP9714992A JP9714992A JPH05274620A JP H05274620 A JPH05274620 A JP H05274620A JP 9714992 A JP9714992 A JP 9714992A JP 9714992 A JP9714992 A JP 9714992A JP H05274620 A JPH05274620 A JP H05274620A
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- film
- magnetic
- magnetic head
- alloy
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、多層膜のメンタルイン・ギャップ型
の磁気ヘッドに関し、多層膜を安価に形成することを目
的とする。 【構成】コア半体２１，２２の突き合わせ面２９、３０
に、強磁性合金膜２５，２６を多層膜状に形成するとと
もに、この強磁性合金膜２５，２６の各膜層間に、多層
膜を形成する強磁性合金膜の酸化物若しくは窒化物から
なる中間絶縁膜２７，２８を設けて積層膜を形成する構
成としてなる。
の磁気ヘッドに関し、多層膜を安価に形成することを目
的とする。 【構成】コア半体２１，２２の突き合わせ面２９、３０
に、強磁性合金膜２５，２６を多層膜状に形成するとと
もに、この強磁性合金膜２５，２６の各膜層間に、多層
膜を形成する強磁性合金膜の酸化物若しくは窒化物から
なる中間絶縁膜２７，２８を設けて積層膜を形成する構
成としてなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、メタルインギャップ型
の磁気ヘッドに関し、金属磁性膜を多層に積層した磁気
ヘッドに関する。
の磁気ヘッドに関し、金属磁性膜を多層に積層した磁気
ヘッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、金属磁性膜を多層に積層した磁気
ヘッドとしては図３から図７に示す形態の磁気ヘッド１
〜５があり、これについて説明する。
ヘッドとしては図３から図７に示す形態の磁気ヘッド１
〜５があり、これについて説明する。
【０００３】従来の金属多層膜を形成した磁気ヘッド１
〜５は、主コア基板として磁性酸化物又は非磁性酸化物
等で形成したコア半体６，７の磁路形成部に、それぞれ
強磁性体金属合金として例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉの合金
膜８，９が設けられている。
〜５は、主コア基板として磁性酸化物又は非磁性酸化物
等で形成したコア半体６，７の磁路形成部に、それぞれ
強磁性体金属合金として例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉの合金
膜８，９が設けられている。
【０００４】そして、これら合金膜８，９は図８で示す
ように合金膜の間にそれぞれ中間絶縁膜１０が設けられ
て、合金膜８，９が積層状に多層形成された構成とさ
れ、合金膜８，９を中間絶縁膜１０で多層状に形成する
ことより、磁気ヘッド１〜５の磁路における渦電流の発
生を防止し、高周波特性の向上を図ることを目的として
いるものである。
ように合金膜の間にそれぞれ中間絶縁膜１０が設けられ
て、合金膜８，９が積層状に多層形成された構成とさ
れ、合金膜８，９を中間絶縁膜１０で多層状に形成する
ことより、磁気ヘッド１〜５の磁路における渦電流の発
生を防止し、高周波特性の向上を図ることを目的として
いるものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の磁気ヘッド１〜５にあってその磁性金属合金膜
８，９及び中間絶縁膜１０の形成は、主基材であるコア
半体６，７にスパッタリングや蒸着等の手段によって、
先ず合金膜８，９を製膜装置内で製膜する。
た従来の磁気ヘッド１〜５にあってその磁性金属合金膜
８，９及び中間絶縁膜１０の形成は、主基材であるコア
半体６，７にスパッタリングや蒸着等の手段によって、
先ず合金膜８，９を製膜装置内で製膜する。
【０００６】次に合金膜８，９を製膜したコア半体８，
９にＳＯ２ ，ＣＮ，Ｔａ２ Ｏ５，Ｂ等の非磁性材の
中間絶縁膜１０が合金膜８，９の上に積層製膜され、こ
の工程が交互に繰り返されることにより多層の合金膜
８，９が積層形成され、合金膜８，９の膜厚は各々の一
層が数百 〜数万 で、中間膜１０の膜厚は数十 〜数
千 の厚さとなっている。
９にＳＯ２ ，ＣＮ，Ｔａ２ Ｏ５，Ｂ等の非磁性材の
中間絶縁膜１０が合金膜８，９の上に積層製膜され、こ
の工程が交互に繰り返されることにより多層の合金膜
８，９が積層形成され、合金膜８，９の膜厚は各々の一
層が数百 〜数万 で、中間膜１０の膜厚は数十 〜数
千 の厚さとなっている。
【０００７】ここで製膜に際し、その工程において、合
金膜８，９の製膜の次に、中間絶縁膜１０を製膜する
際、製膜装置内でそれぞれ合金膜８，９用のターゲット
と中間絶縁膜１０のターゲットをそのつど製膜工程ごと
に交換する必要があり、この交換作業が多層になればな
るほど工程が多くなり連続作業が困難となる。また製膜
作業が繁雑となり、これを解消するために連続的な作業
を行わせるようにするためには設備が複雑で高価とな
り、コスト上昇となるという課題が生じていた。
金膜８，９の製膜の次に、中間絶縁膜１０を製膜する
際、製膜装置内でそれぞれ合金膜８，９用のターゲット
と中間絶縁膜１０のターゲットをそのつど製膜工程ごと
に交換する必要があり、この交換作業が多層になればな
るほど工程が多くなり連続作業が困難となる。また製膜
作業が繁雑となり、これを解消するために連続的な作業
を行わせるようにするためには設備が複雑で高価とな
り、コスト上昇となるという課題が生じていた。
【０００８】本発明は上記した課題に鑑みて発明された
もので、多層膜の製膜を連続的に、そして安価に出来る
磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
もので、多層膜の製膜を連続的に、そして安価に出来る
磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】そこで、上記した課題を
解決するための手段として、本発明は金属磁性膜を多層
に積層して磁路を形成した磁気ヘッドにおいて、この金
属磁性膜層間の中間絶縁膜を金属磁性膜の酸化物若しく
は窒化物で形成する構成及び製造方法としたものであ
る。
解決するための手段として、本発明は金属磁性膜を多層
に積層して磁路を形成した磁気ヘッドにおいて、この金
属磁性膜層間の中間絶縁膜を金属磁性膜の酸化物若しく
は窒化物で形成する構成及び製造方法としたものであ
る。
【００１０】
【作用】本発明によれば、中間絶縁膜を磁性合金膜の酸
化物若しくは窒化物で形成するようにしたため、各々の
製膜に際し、製膜条件の変更のみで連続的に対応するこ
とが可能となるとともに、製膜装置も簡便で安価な装置
とすることができる。
化物若しくは窒化物で形成するようにしたため、各々の
製膜に際し、製膜条件の変更のみで連続的に対応するこ
とが可能となるとともに、製膜装置も簡便で安価な装置
とすることができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
すると、図１は本発明の一実施例になるメタル・イン・
ギャップ型磁気ヘッド２０の正面図であり、図２はその
一部を示す要部の拡大図である。
すると、図１は本発明の一実施例になるメタル・イン・
ギャップ型磁気ヘッド２０の正面図であり、図２はその
一部を示す要部の拡大図である。
【００１２】図示するように、２１，２２は本発明の磁
気ヘッド２０を構成するコア半体であり、単一の単結晶
フェライト等の磁性材よりなるコア本体２３，２４より
形成されている。
気ヘッド２０を構成するコア半体であり、単一の単結晶
フェライト等の磁性材よりなるコア本体２３，２４より
形成されている。
【００１３】２５，２６はそれぞれ例えばＦｅ−Ａｌ−
Ｓｉの強磁性合金の多層膜で、このそれぞれの層間及び
コア半体との境界部に中間絶縁膜２７，２８が配設され
ている。本発明の実施例では、この多層膜２５，２６は
それぞれコア半体２１，２２（コア本体２３，２４）の
突き合わせ面２９，３０上に形成され、これら多層膜２
５，２６が互いに突き合わされて、ギャップ３１が形成
される。ここで３２，３３は磁気ヘッド２０の巻線であ
る。
Ｓｉの強磁性合金の多層膜で、このそれぞれの層間及び
コア半体との境界部に中間絶縁膜２７，２８が配設され
ている。本発明の実施例では、この多層膜２５，２６は
それぞれコア半体２１，２２（コア本体２３，２４）の
突き合わせ面２９，３０上に形成され、これら多層膜２
５，２６が互いに突き合わされて、ギャップ３１が形成
される。ここで３２，３３は磁気ヘッド２０の巻線であ
る。
【００１４】尚、ギャップ３１に対する多層膜２５，２
６とコア半体２１，２２との境界部３５，３６との関係
は、従来構成で説明したように、擬似ギャップが形成さ
れないように、互いに非平行状態となるように配設され
る。
６とコア半体２１，２２との境界部３５，３６との関係
は、従来構成で説明したように、擬似ギャップが形成さ
れないように、互いに非平行状態となるように配設され
る。
【００１５】次に、この多層膜２５，２６の形成につい
て説明すると、コア半体２１，２２の突き合わせ面（ギ
ャップ部形成面）２９，３０に先ず製膜装置内の製膜条
件を酸素若しくは窒素雰囲気中で行ない、製膜時のガス
中のＯ２ 濃度若しくはＮ２濃度を制御しコア半体２
１，２２（コア本体２３，２４）の突き合わせ面２９，
３０にコア本体２３，２４を形成するフェライトの酸化
物層又は窒化物層を数十 〜数千 の厚みに形成する。
て説明すると、コア半体２１，２２の突き合わせ面（ギ
ャップ部形成面）２９，３０に先ず製膜装置内の製膜条
件を酸素若しくは窒素雰囲気中で行ない、製膜時のガス
中のＯ２ 濃度若しくはＮ２濃度を制御しコア半体２
１，２２（コア本体２３，２４）の突き合わせ面２９，
３０にコア本体２３，２４を形成するフェライトの酸化
物層又は窒化物層を数十 〜数千 の厚みに形成する。
【００１６】次に、同一の製膜装置内でターゲットとし
てＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の強磁性合金を使用して、製膜条
件を強磁性合金の製膜条件として製膜を数百 〜数万
の厚さで行ない、多層膜２５，２６の一層となる合金磁
性膜２５ａ，２６ａを形成する。
てＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ等の強磁性合金を使用して、製膜条
件を強磁性合金の製膜条件として製膜を数百 〜数万
の厚さで行ない、多層膜２５，２６の一層となる合金磁
性膜２５ａ，２６ａを形成する。
【００１７】続いて、上記した合金磁性膜２５ａ，２６
ａの形成後、ターゲットを取り出し製膜装置内の製膜条
件としてガス中におけるＯ２ 濃度若しくはＮ２ 濃度
を変化させて合金磁性膜２５ａ，２６ａの表面に合金磁
性膜２５ｂ，２６ｂ及び２５ｃ，２６ｃの酸化物層若し
くは窒化物層からなる中間絶縁膜２７，２８を数十〜数
千 の厚みで形成し、これらの工程を繰り返すことによ
り各層間に、強磁性合金膜の酸化物若しくは窒化物の中
間絶縁膜２７，２８を備えた多層膜２５，２６が形成さ
れることとなる。
ａの形成後、ターゲットを取り出し製膜装置内の製膜条
件としてガス中におけるＯ２ 濃度若しくはＮ２ 濃度
を変化させて合金磁性膜２５ａ，２６ａの表面に合金磁
性膜２５ｂ，２６ｂ及び２５ｃ，２６ｃの酸化物層若し
くは窒化物層からなる中間絶縁膜２７，２８を数十〜数
千 の厚みで形成し、これらの工程を繰り返すことによ
り各層間に、強磁性合金膜の酸化物若しくは窒化物の中
間絶縁膜２７，２８を備えた多層膜２５，２６が形成さ
れることとなる。
【００１８】
【発明の効果】従って、上記した構成及び方法からなる
磁気ヘッドによれば、磁気ヘッドの磁路を形成する面に
強磁性合金膜を中間絶縁膜を介して多層膜状に形成する
積層磁性膜の形成が製膜装置の製膜条件を若干変更する
ことで容易に行うことができ、設備面及び製品形成の面
で安価でかつ連続的な積層磁性膜の形成を提供すること
ができるという効果が得られる。
磁気ヘッドによれば、磁気ヘッドの磁路を形成する面に
強磁性合金膜を中間絶縁膜を介して多層膜状に形成する
積層磁性膜の形成が製膜装置の製膜条件を若干変更する
ことで容易に行うことができ、設備面及び製品形成の面
で安価でかつ連続的な積層磁性膜の形成を提供すること
ができるという効果が得られる。
【図１】本発明の磁気ヘッドの一実施例の正面図であ
る。
る。
【図２】本発明の磁気ヘッドの一部を示す要部の拡大図
である。
である。
【図３〜７】従来の磁気ヘッドの多層面を示すギッャプ
部の平面図である。
部の平面図である。
【図８】従来の磁気ヘッドの多層膜状態を示す図５のＡ
部拡大図である。
部拡大図である。
２０ 磁気ヘッド ２１，２２ コア半体 ２３，２４ コア本体 ２５，２６ 強磁性合金の多層膜 ２７，２８ 中間絶縁膜 ２９，３０ 突き合わせ面 ３１ ギャップ ３２，３３ 巻線
Claims (2)
- 【請求項１】 金属磁性膜を多層に積層して磁路を形成
した磁気ヘッドにおいて、該金属磁性膜層間の中間絶縁
膜を該金属磁性膜の酸化物若しくは窒化物で形成したこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 金属磁性膜形成後、該金属磁性膜の成膜
条件を該金属磁性膜の酸化物形成若しくは該金属磁性膜
の窒化物形成用として中間絶縁膜を形成する工程を繰り
返すことにより、該金属磁性膜の多層膜を形成するよう
にした多層の金属磁性膜を有する磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9714992A JPH05274620A (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9714992A JPH05274620A (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05274620A true JPH05274620A (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=14184519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9714992A Pending JPH05274620A (ja) | 1992-03-24 | 1992-03-24 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05274620A (ja) |
-
1992
- 1992-03-24 JP JP9714992A patent/JPH05274620A/ja active Pending
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