JPH06223316A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH06223316A JPH06223316A JP2745193A JP2745193A JPH06223316A JP H06223316 A JPH06223316 A JP H06223316A JP 2745193 A JP2745193 A JP 2745193A JP 2745193 A JP2745193 A JP 2745193A JP H06223316 A JPH06223316 A JP H06223316A
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- JP
- Japan
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- magnetic
- magnetic film
- film
- multilayer
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ラミネート型磁気ヘッドの剥離強度を向上さ
せ、耐久性及び信頼性をの向上を図る。 【構成】 多層磁性膜３に接合する非磁性基板２，５
を、多層磁性膜３の金属磁性膜３ａを構成する材質であ
るＳi 及びＡl を主成分として構成し、多層磁性膜３に
対する非磁性基板２，５の付着接合強度を向上させたも
の。
せ、耐久性及び信頼性をの向上を図る。 【構成】 多層磁性膜３に接合する非磁性基板２，５
を、多層磁性膜３の金属磁性膜３ａを構成する材質であ
るＳi 及びＡl を主成分として構成し、多層磁性膜３に
対する非磁性基板２，５の付着接合強度を向上させたも
の。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁性膜を用いた磁気ヘ
ッドに関する。
ッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から特開平４−１２５８０６号公報
等において、磁性膜を膜付けした一対のコアどうしを対
向配置することによって、所定のギャップを形成するよ
うにした磁気ヘッドが知られている。このような磁性膜
を用いた磁気ヘッドにおいて、近年、磁性膜をトラック
巾方向に積層してなる、いわゆるラミネート型の磁気ヘ
ッドが開発されている。
等において、磁性膜を膜付けした一対のコアどうしを対
向配置することによって、所定のギャップを形成するよ
うにした磁気ヘッドが知られている。このような磁性膜
を用いた磁気ヘッドにおいて、近年、磁性膜をトラック
巾方向に積層してなる、いわゆるラミネート型の磁気ヘ
ッドが開発されている。
【０００３】このラミネート型の磁気ヘッドでは、所定
のギャップを形成するように一対のコアどうしが対向す
るように配置されており、例えば図２に示された構成を
有している。なお図２は、本発明の一実施例にかかるも
のであるが、基本的な構成は従来のものと同様であるの
で当該図２に基づいて説明する。
のギャップを形成するように一対のコアどうしが対向す
るように配置されており、例えば図２に示された構成を
有している。なお図２は、本発明の一実施例にかかるも
のであるが、基本的な構成は従来のものと同様であるの
で当該図２に基づいて説明する。
【０００４】図２に示されているように、各コア１にお
ける一方の非磁性基板２上に膜付けされた多層磁性膜３
は、金属磁性膜と絶縁層とを重ね合わせた組を、トラッ
ク巾方向に複数組積層してなるものであり、その積層方
向における最外側に、接着用ガラス４を介して他方の非
磁性基板５が溶着にて接合されている。
ける一方の非磁性基板２上に膜付けされた多層磁性膜３
は、金属磁性膜と絶縁層とを重ね合わせた組を、トラッ
ク巾方向に複数組積層してなるものであり、その積層方
向における最外側に、接着用ガラス４を介して他方の非
磁性基板５が溶着にて接合されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが従来のラミネ
ート型の磁気ヘッドでは、多層磁性膜３に対して非磁性
基板５を接合した場合に、金属膜からなる多層磁性膜３
と、ガラス材或いはセラミック等からなる非磁性基板５
との間の接着力が弱く、ヘッドの機械加工時等において
付与された内部応力により、上記多層磁性膜３と非磁性
基板５との間の接着部分に剥離を生じ易いという問題が
ある。
ート型の磁気ヘッドでは、多層磁性膜３に対して非磁性
基板５を接合した場合に、金属膜からなる多層磁性膜３
と、ガラス材或いはセラミック等からなる非磁性基板５
との間の接着力が弱く、ヘッドの機械加工時等において
付与された内部応力により、上記多層磁性膜３と非磁性
基板５との間の接着部分に剥離を生じ易いという問題が
ある。
【０００６】そこで本発明は、多層磁性膜と非磁性基板
との間の接合強度に優れたラミネート型の磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
との間の接合強度に優れたラミネート型の磁気ヘッドを
提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、ギャップを形成するようにコアを対向配置し
てなる磁気ヘッドにおいて、上記コアは、金属磁性膜と
絶縁層とを重ね合わせた組をトラック巾方向に複数組積
層した多層磁性膜と、この多層磁性膜の積層方向両側に
接合した非磁性基板とを有し、上記多層磁性膜の金属磁
性膜は、Ｆe −Ｓi −Ａl 合金から構成されているとと
もに、前記非磁性基板が、Ｓi Ｏ2 とＡl2Ｏ3 とを主成
分とする材料から構成されている。
本発明は、ギャップを形成するようにコアを対向配置し
てなる磁気ヘッドにおいて、上記コアは、金属磁性膜と
絶縁層とを重ね合わせた組をトラック巾方向に複数組積
層した多層磁性膜と、この多層磁性膜の積層方向両側に
接合した非磁性基板とを有し、上記多層磁性膜の金属磁
性膜は、Ｆe −Ｓi −Ａl 合金から構成されているとと
もに、前記非磁性基板が、Ｓi Ｏ2 とＡl2Ｏ3 とを主成
分とする材料から構成されている。
【０００８】
【作用】このような構成を有する手段においては、多層
磁性膜に接合される非磁性基板が、多層磁性膜の金属磁
性膜と共通の材質を多く含んだ材料から構成されている
ため、多層磁性膜に対する非磁性基板の付着強度が向上
されるとともに、熱処理（アニール）や、スパッタリン
グ中の成分混入等における上記共通成分の拡散によって
接合強度が向上されるようになっている。
磁性膜に接合される非磁性基板が、多層磁性膜の金属磁
性膜と共通の材質を多く含んだ材料から構成されている
ため、多層磁性膜に対する非磁性基板の付着強度が向上
されるとともに、熱処理（アニール）や、スパッタリン
グ中の成分混入等における上記共通成分の拡散によって
接合強度が向上されるようになっている。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図１及び図２に示されているように、ギャ
ップＧを形成するように対向配置された一対のコア１，
１のそれぞれには、トラック巾方向に多層磁性膜３，３
が積層により膜付けされている。またこれらの各多層磁
性膜３のトラック巾方向における両側には、当該多層磁
性膜３を挟み込むようにして一対の非磁性基板２，５が
それぞれ接合配設されている。このとき図２右側の非磁
性基板２に対しては、多層磁性膜３が積層により接合さ
れているとともに、積層後の多層磁性膜３に対して、図
２左側の非磁性基板５が接着用ガラス４を介して接着接
合されている。そしてこれら多層磁性膜３及び非磁性基
板２，５によるギャップＧ形成表面上をテープ走行が行
われるように構成されている。
に説明する。図１及び図２に示されているように、ギャ
ップＧを形成するように対向配置された一対のコア１，
１のそれぞれには、トラック巾方向に多層磁性膜３，３
が積層により膜付けされている。またこれらの各多層磁
性膜３のトラック巾方向における両側には、当該多層磁
性膜３を挟み込むようにして一対の非磁性基板２，５が
それぞれ接合配設されている。このとき図２右側の非磁
性基板２に対しては、多層磁性膜３が積層により接合さ
れているとともに、積層後の多層磁性膜３に対して、図
２左側の非磁性基板５が接着用ガラス４を介して接着接
合されている。そしてこれら多層磁性膜３及び非磁性基
板２，５によるギャップＧ形成表面上をテープ走行が行
われるように構成されている。
【００１０】また上記各コア１，１どうしの対向部分に
は、コイル窓６が形成されており、このコイル窓６を通
すようにして、記録・再生信号を入出力させるためのコ
イル（図示省略）がコア１に巻回されている。
は、コイル窓６が形成されており、このコイル窓６を通
すようにして、記録・再生信号を入出力させるためのコ
イル（図示省略）がコア１に巻回されている。
【００１１】上記多層磁性膜３は、金属磁性膜３ａと絶
縁層３ｂとを重ね合わせた組を、トラック巾方向に複数
組積層してなるものであり、そのうち金属磁性膜３ａに
は、Ｆe −Ｓi −Ａl 合金（センダスト合金）が用いら
れているとともに、絶縁層３ｂとしては、Ｓi Ｏ2 、Ａ
l2Ｏ3 或いはＳi Ｏ2 −Ａl2Ｏ3 等からなるガラス材料
が用いられている。これら金属磁性膜３ａ及び絶縁層３
ｂは、公知の薄膜形成技術、例えばスパッタリングやイ
オンプビームスパッターあるいは蒸着等により均一な膜
厚となるように形成されたものであって、磁気飽和を回
避するために全体として十分な膜厚に形成されている。
縁層３ｂとを重ね合わせた組を、トラック巾方向に複数
組積層してなるものであり、そのうち金属磁性膜３ａに
は、Ｆe −Ｓi −Ａl 合金（センダスト合金）が用いら
れているとともに、絶縁層３ｂとしては、Ｓi Ｏ2 、Ａ
l2Ｏ3 或いはＳi Ｏ2 −Ａl2Ｏ3 等からなるガラス材料
が用いられている。これら金属磁性膜３ａ及び絶縁層３
ｂは、公知の薄膜形成技術、例えばスパッタリングやイ
オンプビームスパッターあるいは蒸着等により均一な膜
厚となるように形成されたものであって、磁気飽和を回
避するために全体として十分な膜厚に形成されている。
【００１２】一方前記各コア１の両非磁性基板２，５と
しては、Ｓi Ｏ2 とＡl2Ｏ3 とを主成分とした結晶化ガ
ラス材料が用いられているともに、上述した接着用ガラ
ス４としては、Ｓi Ｏ2 とＡl2Ｏ3 とを含有する一般的
な封着ガラス材料、例えば、Ｓi Ｏ2 −Ａl2Ｏ3 −Ｐd
Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 が用いられている。
しては、Ｓi Ｏ2 とＡl2Ｏ3 とを主成分とした結晶化ガ
ラス材料が用いられているともに、上述した接着用ガラ
ス４としては、Ｓi Ｏ2 とＡl2Ｏ3 とを含有する一般的
な封着ガラス材料、例えば、Ｓi Ｏ2 −Ａl2Ｏ3 −Ｐd
Ｏ−Ｂ2 Ｏ3 が用いられている。
【００１３】このような実施例では、多層磁性膜３に接
合される非磁性基板２，５が、多層磁性膜３の金属磁性
膜３ａに含まれる共通の材質Ｓi 及びＡl を主成分とし
て多く含有している。そのため上記多層磁性膜３に対す
る非磁性基板２，５の付着強度が向上されるようになっ
ている。
合される非磁性基板２，５が、多層磁性膜３の金属磁性
膜３ａに含まれる共通の材質Ｓi 及びＡl を主成分とし
て多く含有している。そのため上記多層磁性膜３に対す
る非磁性基板２，５の付着強度が向上されるようになっ
ている。
【００１４】また上記Ｓi 及びＡl は、多層磁性膜３及
び非磁性基板２，５の共通構成要素となっているため、
熱処理（アニール）や、スパッタリング中の成分混入等
におけるＳi 及びＡl の拡散により、多層磁性膜３と非
磁性基板２，５との接合強度がさらに向上されるように
なっている。
び非磁性基板２，５の共通構成要素となっているため、
熱処理（アニール）や、スパッタリング中の成分混入等
におけるＳi 及びＡl の拡散により、多層磁性膜３と非
磁性基板２，５との接合強度がさらに向上されるように
なっている。
【００１５】さらに上述した拡散は、多層磁性膜３及び
非磁性基板２，５の共通成分であるＳi 及びＡl により
行われるため、多層磁性膜３の特性劣化を最小限に抑え
ることができる。
非磁性基板２，５の共通成分であるＳi 及びＡl により
行われるため、多層磁性膜３の特性劣化を最小限に抑え
ることができる。
【００１６】なお本実施例では、多層磁性膜３の絶縁層
３ｂ及び接着用ガラス４に対しても、共通成分であるＳ
i 及びＡl を含有するガラス材料が用いられているの
で、多層磁性膜３と非磁性基板２，５との接合強度が一
層向上されるようになっている。
３ｂ及び接着用ガラス４に対しても、共通成分であるＳ
i 及びＡl を含有するガラス材料が用いられているの
で、多層磁性膜３と非磁性基板２，５との接合強度が一
層向上されるようになっている。
【００１７】
【発明の効果】以上述べたように本発明にかかるラミネ
ート型の磁気ヘッドは、多層磁性膜に接合する非磁性基
板を、多層磁性膜の金属磁性膜を構成する材質であるＳ
i 及びＡl を主成分として構成し、多層磁性膜に対する
非磁性基板の付着接合強度を向上させたものであるか
ら、ラミネート型磁気ヘッドの剥離強度を向上させるこ
とができ、耐久性及び信頼性を向上させることができ
る。
ート型の磁気ヘッドは、多層磁性膜に接合する非磁性基
板を、多層磁性膜の金属磁性膜を構成する材質であるＳ
i 及びＡl を主成分として構成し、多層磁性膜に対する
非磁性基板の付着接合強度を向上させたものであるか
ら、ラミネート型磁気ヘッドの剥離強度を向上させるこ
とができ、耐久性及び信頼性を向上させることができ
る。
【図１】本発明の一実施例におけるラミネート型磁気ヘ
ッドの構造を表した外観斜視説明図である。
ッドの構造を表した外観斜視説明図である。
【図２】図１に表されたラミネート型磁気ヘッドの側面
説明図である。
説明図である。
１ コア ２，５ 非磁性基板 ３ 多層磁性膜 ４ 接着用ガラス Ｇ ギャップ
Claims (1)
- 【請求項１】 ギャップを形成するようにコアを対向配
置してなる磁気ヘッドにおいて、 上記コアは、金属磁性膜と絶縁層とを重ね合わせた組を
トラック巾方向に複数組積層した多層磁性膜と、この多
層磁性膜の積層方向両側に接合した非磁性基板とを有
し、 上記多層磁性膜の金属磁性膜は、Ｆe −Ｓi −Ａl 合金
から構成されているとともに、 前記非磁性基板が、Ｓi Ｏ2 とＡl2Ｏ3 とを主成分とす
る材料から構成されていることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2745193A JPH06223316A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2745193A JPH06223316A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06223316A true JPH06223316A (ja) | 1994-08-12 |
Family
ID=12221488
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2745193A Withdrawn JPH06223316A (ja) | 1993-01-22 | 1993-01-22 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06223316A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6884832B2 (en) * | 2002-05-09 | 2005-04-26 | The C.P. Hall Company | Adhesion promoter for cord-reinforced rubber and metal or polymer substrate/rubber composites |
| US6969737B2 (en) | 2002-05-09 | 2005-11-29 | The C.P. Hall Company | Adhesion promoter for cord-reinforced rubber and metal or polymer substrate/rubber composites |
| US7109264B2 (en) | 2002-07-17 | 2006-09-19 | Cph Innovations Corp. | Low polarity dimerate and trimerate esters as plasticizers for elastomers |
| US7122592B2 (en) | 2002-05-09 | 2006-10-17 | Cph Innovations Corp. | Adhesion promoters for cord-reinforced thermoplastic polymeric materials and substrate/thermoplastic polymeric material composites |
| US7138450B2 (en) | 2002-05-09 | 2006-11-21 | Cph Innovations Corp. | Vulcanized rubber composition with a liquid adhesion promoter containing an adhesive resin and ester |
| US7144937B2 (en) | 2002-05-09 | 2006-12-05 | Cph Innovations Corp. | Adhesion promoters for sealants |
| US7232855B2 (en) | 2002-07-17 | 2007-06-19 | Cph Innovations Corp. | Low polarity dimerate and trimerate esters as plasticizers for thermoplastic polymer/elastomer composites |
| US7285588B2 (en) | 2003-03-28 | 2007-10-23 | Hallstar Innovations Corp. | Low polarity dimerate and trimerate esters as plasticizers for thermoplastic compositions |
| US7422791B2 (en) | 2003-11-19 | 2008-09-09 | Hallstar Innovations Corp. | Joint assemblies, methods for installing joint assemblies, and jointing compositions |
| JP2010286470A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-12-24 | Nidec Sankyo Corp | 磁気素子およびその製造方法 |
-
1993
- 1993-01-22 JP JP2745193A patent/JPH06223316A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6884832B2 (en) * | 2002-05-09 | 2005-04-26 | The C.P. Hall Company | Adhesion promoter for cord-reinforced rubber and metal or polymer substrate/rubber composites |
| US6969737B2 (en) | 2002-05-09 | 2005-11-29 | The C.P. Hall Company | Adhesion promoter for cord-reinforced rubber and metal or polymer substrate/rubber composites |
| US7122592B2 (en) | 2002-05-09 | 2006-10-17 | Cph Innovations Corp. | Adhesion promoters for cord-reinforced thermoplastic polymeric materials and substrate/thermoplastic polymeric material composites |
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| US7144937B2 (en) | 2002-05-09 | 2006-12-05 | Cph Innovations Corp. | Adhesion promoters for sealants |
| US7109264B2 (en) | 2002-07-17 | 2006-09-19 | Cph Innovations Corp. | Low polarity dimerate and trimerate esters as plasticizers for elastomers |
| US7232855B2 (en) | 2002-07-17 | 2007-06-19 | Cph Innovations Corp. | Low polarity dimerate and trimerate esters as plasticizers for thermoplastic polymer/elastomer composites |
| US7285588B2 (en) | 2003-03-28 | 2007-10-23 | Hallstar Innovations Corp. | Low polarity dimerate and trimerate esters as plasticizers for thermoplastic compositions |
| US7422791B2 (en) | 2003-11-19 | 2008-09-09 | Hallstar Innovations Corp. | Joint assemblies, methods for installing joint assemblies, and jointing compositions |
| JP2010286470A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-12-24 | Nidec Sankyo Corp | 磁気素子およびその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000404 |