JPH06150237A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッド及びその製造方法Info
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- JPH06150237A JPH06150237A JP32497092A JP32497092A JPH06150237A JP H06150237 A JPH06150237 A JP H06150237A JP 32497092 A JP32497092 A JP 32497092A JP 32497092 A JP32497092 A JP 32497092A JP H06150237 A JPH06150237 A JP H06150237A
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Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ヘッドのヘッド基板に反りを生じること
なくコアの加工を容易かつ正確に行うことを可能とす
る。 【構成】 ヘッド基板素材１１の表裏両面に、多層磁性
膜１２を交互に等しい厚さに膜付けしてコアを形成する
ことによって、ヘッド基板における応力バランスの偏り
を防止してなるもの。
なくコアの加工を容易かつ正確に行うことを可能とす
る。 【構成】 ヘッド基板素材１１の表裏両面に、多層磁性
膜１２を交互に等しい厚さに膜付けしてコアを形成する
ことによって、ヘッド基板における応力バランスの偏り
を防止してなるもの。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁性膜を用いた磁気ヘ
ッドに関する。
ッドに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、磁性膜を膜付けした一対のコ
アどうしを対向配置することによって所定のギャップを
形成するようにした磁気ヘッドが知られている。このよ
うな磁気ヘッドには、単層の磁性膜を有するもののほ
か、例えば特開平４−１２５８０６号公報等のように、
コアの対向面部分に磁性膜を積層した、いわゆる内周積
層型のものや、磁性膜をトラック巾方向に積層した、い
わゆるラミネート型のもの等がある。
アどうしを対向配置することによって所定のギャップを
形成するようにした磁気ヘッドが知られている。このよ
うな磁気ヘッドには、単層の磁性膜を有するもののほ
か、例えば特開平４−１２５８０６号公報等のように、
コアの対向面部分に磁性膜を積層した、いわゆる内周積
層型のものや、磁性膜をトラック巾方向に積層した、い
わゆるラミネート型のもの等がある。
【０００３】例えばラミネート型の磁気ヘッドでは、図
５に示されているように、ギャップＧを形成するように
対向配置された一対のコア１，１のそれぞれに、トラッ
ク巾方向に磁性膜２，２が積層して膜付けされていると
ともに、それらの各磁性膜２の両側を挟み込むようにし
てヘッド基板３，３が配設されている。上記磁性膜２
は、磁性膜と非磁性層とを重ね合わせたものであって、
当該磁性膜２及び上記ヘッド基板３のギャップ形成表面
上を、テープが走行するように構成されている。また上
記コア１，１どうしの対向部分に形成されたコイル窓５
を通して、記録・再生信号を入出力させるためのコイル
６がコア１に巻回されている。
５に示されているように、ギャップＧを形成するように
対向配置された一対のコア１，１のそれぞれに、トラッ
ク巾方向に磁性膜２，２が積層して膜付けされていると
ともに、それらの各磁性膜２の両側を挟み込むようにし
てヘッド基板３，３が配設されている。上記磁性膜２
は、磁性膜と非磁性層とを重ね合わせたものであって、
当該磁性膜２及び上記ヘッド基板３のギャップ形成表面
上を、テープが走行するように構成されている。また上
記コア１，１どうしの対向部分に形成されたコイル窓５
を通して、記録・再生信号を入出力させるためのコイル
６がコア１に巻回されている。
【０００４】このような磁気ヘッドにおいて磁性膜２の
膜付けを行う場合には、まずヘッド基板３の素材の一面
側に、例えばスパッタリングやイオンプレーティング等
の薄膜形成技術によって均一な膜厚の磁性膜を形成す
る。そしてこの片側面のみに膜付けを行ったヘッド基板
素材に、他のヘッド基板を貼り合わせることによってコ
アを得るようにしている。
膜付けを行う場合には、まずヘッド基板３の素材の一面
側に、例えばスパッタリングやイオンプレーティング等
の薄膜形成技術によって均一な膜厚の磁性膜を形成す
る。そしてこの片側面のみに膜付けを行ったヘッド基板
素材に、他のヘッド基板を貼り合わせることによってコ
アを得るようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述したよ
うにヘッド基板素材の片側面のみに磁性膜を膜付けした
場合には、その後の熱処理等によってヘッド基板と磁性
膜との間の応力バランスが崩されてしまい、ヘッド基板
の全体に大きな反りを生じることがある。このヘッド基
板の反りは、磁性膜の厚さが大きくなればなるほど大き
く生じ、その後の加工を困難化する原因となっている。
うにヘッド基板素材の片側面のみに磁性膜を膜付けした
場合には、その後の熱処理等によってヘッド基板と磁性
膜との間の応力バランスが崩されてしまい、ヘッド基板
の全体に大きな反りを生じることがある。このヘッド基
板の反りは、磁性膜の厚さが大きくなればなるほど大き
く生じ、その後の加工を困難化する原因となっている。
【０００６】そこで本発明は、ヘッド基板に反りを生じ
させることのないような磁性膜の膜付けを可能とする磁
気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
させることのないような磁性膜の膜付けを可能とする磁
気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明にかかる磁気ヘッドは、ギャップを介してコアを
対向配置したものであって、上記コアを構成するヘッド
基板に磁性膜を膜付けしてなる磁気ヘッドにおいて、上
記ヘッド基板は、ヘッド基板素材の表裏両面に等しい厚
さの磁性膜を膜付けして形成された構成を有している。
本発明にかかる磁気ヘッドは、ギャップを介してコアを
対向配置したものであって、上記コアを構成するヘッド
基板に磁性膜を膜付けしてなる磁気ヘッドにおいて、上
記ヘッド基板は、ヘッド基板素材の表裏両面に等しい厚
さの磁性膜を膜付けして形成された構成を有している。
【０００８】さらに本発明にかかる磁気ヘッドの製造方
法は、ヘッド基板素材に磁性膜を膜付けしてコアを形成
するようにした磁気ヘッドの製造方法において、上記ヘ
ッド基板素材の一面側に磁性膜を所定の厚みにわたって
膜付けした後、そのヘッド基板素材の他面側に、前記一
面側と等しい厚さの磁性膜を膜付けし、コアを形成する
構成を有している。
法は、ヘッド基板素材に磁性膜を膜付けしてコアを形成
するようにした磁気ヘッドの製造方法において、上記ヘ
ッド基板素材の一面側に磁性膜を所定の厚みにわたって
膜付けした後、そのヘッド基板素材の他面側に、前記一
面側と等しい厚さの磁性膜を膜付けし、コアを形成する
構成を有している。
【０００９】
【作用】このような構成を有する各手段においては、ヘ
ッド基板素材の表裏両面に、磁性膜が交互に等しい厚さ
に膜付けされるため、ヘッド基板における応力バランス
が片側に偏ることなく良好に維持されるようになってい
る。
ッド基板素材の表裏両面に、磁性膜が交互に等しい厚さ
に膜付けされるため、ヘッド基板における応力バランス
が片側に偏ることなく良好に維持されるようになってい
る。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。本実施例における磁気ヘッドのヘッド基板
は、図１に示されているように、ヘッド基板素材１１の
表裏両面に、等しい厚さの多層磁性膜１２，１２を膜付
けしたものを加工して形成される。ヘッド基板素材１１
としては、結晶化ガラスやセラミックス等の非磁性のヘ
ッド基板材料が用いられる。なお本実施例のように非磁
性体が使用されるのは、例えば３０MHz 付近の高域の周
波数の使用を前提とする場合であって、５MHz 程度の高
域までの使用を前提とする場合には、高透磁率を有する
フェライトやセンダスト合金（Fe−Si−Al）等の強磁性
材料が使用される。
に説明する。本実施例における磁気ヘッドのヘッド基板
は、図１に示されているように、ヘッド基板素材１１の
表裏両面に、等しい厚さの多層磁性膜１２，１２を膜付
けしたものを加工して形成される。ヘッド基板素材１１
としては、結晶化ガラスやセラミックス等の非磁性のヘ
ッド基板材料が用いられる。なお本実施例のように非磁
性体が使用されるのは、例えば３０MHz 付近の高域の周
波数の使用を前提とする場合であって、５MHz 程度の高
域までの使用を前提とする場合には、高透磁率を有する
フェライトやセンダスト合金（Fe−Si−Al）等の強磁性
材料が使用される。
【００１１】また上記多層磁性膜１２は、磁性膜１２ａ
と非磁性層１２ｂとを重ね合わせた組を、例えばトラッ
ク巾方向に複数組積層してなるものであり、そのうち磁
性膜１２ａとしては強磁性金属、例えばセンダスト合金
（Fe−Si−Al）等が用いられるとともに、非磁性層１２
ｂとしては、ガラス材（SiO2）等が用いられる。これら
磁性膜１２ａ及び非磁性層１２ｂは、公知の薄膜形成技
術、例えばスパッタリングやイオンビームスパッター等
によって均一な膜厚となるように形成されており、磁気
飽和を回避するために全体として十分な膜厚に形成され
ている。
と非磁性層１２ｂとを重ね合わせた組を、例えばトラッ
ク巾方向に複数組積層してなるものであり、そのうち磁
性膜１２ａとしては強磁性金属、例えばセンダスト合金
（Fe−Si−Al）等が用いられるとともに、非磁性層１２
ｂとしては、ガラス材（SiO2）等が用いられる。これら
磁性膜１２ａ及び非磁性層１２ｂは、公知の薄膜形成技
術、例えばスパッタリングやイオンビームスパッター等
によって均一な膜厚となるように形成されており、磁気
飽和を回避するために全体として十分な膜厚に形成され
ている。
【００１２】次に、スパッタリング装置を用いて、ヘッ
ド基板素材１１の表裏両面に多層磁性膜１２を膜付けす
る場合の製造方法の実施例を述べる。
ド基板素材１１の表裏両面に多層磁性膜１２を膜付けす
る場合の製造方法の実施例を述べる。
【００１３】図２に示されているように、スパッタリン
グ装置２０の内部所定位置には、センダスト合金（Fe−
Si−Al）等の強磁性金属及びSiO2等の非磁性材料からな
るからなるターゲット２１が配置されており、このター
ゲット２１に対面するようにして、ワークとしてのヘッ
ド基板素材１１が配置されている。このとき上記ヘッド
基板素材１１は、前記ターゲット２１と略平行に配置さ
れた回転軸２２の回りに回転可能に支持されており、ヘ
ッド基板素材１１の表裏両面が、回転によってターゲッ
ト２１に交互に対面されるように構成されている。この
とき上記ヘッド基板素材１１のサイド面及びターゲット
２１に対する非対向面には、マスクがかけられる。
グ装置２０の内部所定位置には、センダスト合金（Fe−
Si−Al）等の強磁性金属及びSiO2等の非磁性材料からな
るからなるターゲット２１が配置されており、このター
ゲット２１に対面するようにして、ワークとしてのヘッ
ド基板素材１１が配置されている。このとき上記ヘッド
基板素材１１は、前記ターゲット２１と略平行に配置さ
れた回転軸２２の回りに回転可能に支持されており、ヘ
ッド基板素材１１の表裏両面が、回転によってターゲッ
ト２１に交互に対面されるように構成されている。この
とき上記ヘッド基板素材１１のサイド面及びターゲット
２１に対する非対向面には、マスクがかけられる。
【００１４】そしてまずヘッド基板素材１１の一面側を
ターゲット２１に対面させてスパッタリングを行う。こ
れにより図３（ａ）に示されているように、ヘッド基板
素材１１の一面側に多層磁性膜１２の１組（磁性膜１２
ａ、非磁性層１２ｂ）が膜付けされる。ついでヘッド基
板素材１１を半回転させ、ヘッド基板素材１１の他面側
をターゲット２１に対面させてスパッタリングを行う。
これにより図３（ｂ）に示されているように、ヘッド基
板素材１１の他面側に多層磁性膜１２の１組（磁性膜１
２ａ、非磁性層１２ｂ）が膜付けされる。このようなヘ
ッド基板素材１１の表裏面にわたるスパッタリングを、
交互に複数回繰り返すことによって、ヘッド基板素材１
１の両側面に対して、図１に示されているような等しい
厚さの多層磁性膜１２が膜付けされる。
ターゲット２１に対面させてスパッタリングを行う。こ
れにより図３（ａ）に示されているように、ヘッド基板
素材１１の一面側に多層磁性膜１２の１組（磁性膜１２
ａ、非磁性層１２ｂ）が膜付けされる。ついでヘッド基
板素材１１を半回転させ、ヘッド基板素材１１の他面側
をターゲット２１に対面させてスパッタリングを行う。
これにより図３（ｂ）に示されているように、ヘッド基
板素材１１の他面側に多層磁性膜１２の１組（磁性膜１
２ａ、非磁性層１２ｂ）が膜付けされる。このようなヘ
ッド基板素材１１の表裏面にわたるスパッタリングを、
交互に複数回繰り返すことによって、ヘッド基板素材１
１の両側面に対して、図１に示されているような等しい
厚さの多層磁性膜１２が膜付けされる。
【００１５】このような多層磁性膜１２の膜付けを完了
したヘッド基板素材１１は、図４に示されているよう
に、膜付けしていない他のヘッド基板素材１１と貼り合
わされてコアを得る。
したヘッド基板素材１１は、図４に示されているよう
に、膜付けしていない他のヘッド基板素材１１と貼り合
わされてコアを得る。
【００１６】上述したように本実施例においては、ヘッ
ド基板素材１１の表裏両面に、多層磁性膜１２を交互に
等しい厚さに膜付けしているため、ヘッド基板における
応力バランスが片側に偏ることなく良好に維持されるよ
うになっている。従ってその後の加工が、ヘッド基板に
反りを生じることなく容易に行われる。
ド基板素材１１の表裏両面に、多層磁性膜１２を交互に
等しい厚さに膜付けしているため、ヘッド基板における
応力バランスが片側に偏ることなく良好に維持されるよ
うになっている。従ってその後の加工が、ヘッド基板に
反りを生じることなく容易に行われる。
【００１７】なお本発明は、ラミネート型以外の内周積
層型の磁気ヘッドあるいは単層の磁性膜を有する磁気ヘ
ッドに対しても同様に適用することができる。また膜付
けのための装置としては、上述したスパッタリング装置
以外の各種装置を同様に用いることができる。
層型の磁気ヘッドあるいは単層の磁性膜を有する磁気ヘ
ッドに対しても同様に適用することができる。また膜付
けのための装置としては、上述したスパッタリング装置
以外の各種装置を同様に用いることができる。
【００１８】
【発明の効果】以上述べたように本発明にかかる磁気ヘ
ッドは、ヘッド基板素材の表裏両面に、多層磁性膜を交
互に等しい厚さに膜付けしてコアを形成し、ヘッド基板
における応力バランスの偏りを防止したものであるであ
るから、ヘッド基板に反りを生じることなくその後の加
工を容易かつ正確に行うことができ、磁気ヘッドの信頼
性を向上させることができる。
ッドは、ヘッド基板素材の表裏両面に、多層磁性膜を交
互に等しい厚さに膜付けしてコアを形成し、ヘッド基板
における応力バランスの偏りを防止したものであるであ
るから、ヘッド基板に反りを生じることなくその後の加
工を容易かつ正確に行うことができ、磁気ヘッドの信頼
性を向上させることができる。
【図１】本発明の一実施例における多層磁性膜形成状態
を表した斜視説明図である。
を表した斜視説明図である。
【図２】本発明を実施するためのスパッタリング装置の
構造例を表した模式的側面説明図である。
構造例を表した模式的側面説明図である。
【図３】ヘッド基板に対する膜付け工程を表した外観斜
視説明図である。
視説明図である。
【図４】膜付け後におけるヘッド基板の接合工程を表し
た側面説明図である。
た側面説明図である。
【図５】ラミネート型磁気ヘッドの一般的構造を表した
外観斜視説明図である。
外観斜視説明図である。
１１ ヘッド基板 １２ 多層磁性膜 １２ａ 磁性膜 １２ｂ 非磁性層 Ｇ ギャップ
Claims (2)
- 【請求項１】 ギャップを介してコアを対向配置したも
のであって、上記コアを構成するヘッド基板に磁性膜を
膜付けしてなる磁気ヘッドにおいて、 上記ヘッド基板は、ヘッド基板素材の表裏両面に等しい
厚さの磁性膜を膜付けして形成されていることを特徴と
する磁気ヘッド。 - 【請求項２】 ヘッド基板素材に磁性膜を膜付けしてコ
アを形成するようにした磁気ヘッドの製造方法におい
て、 上記ヘッド基板素材の一面側に磁性膜を所定の厚みにわ
たって膜付けした後、そのヘッド基板素材の他面側に、
前記一面側と等しい厚さの磁性膜を膜付けし、コアを形
成するようにしたことを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32497092A JPH06150237A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32497092A JPH06150237A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06150237A true JPH06150237A (ja) | 1994-05-31 |
Family
ID=18171666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32497092A Withdrawn JPH06150237A (ja) | 1992-11-10 | 1992-11-10 | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06150237A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010023741A1 (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | セイコーインスツル株式会社 | 圧電振動片の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計 |
-
1992
- 1992-11-10 JP JP32497092A patent/JPH06150237A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010023741A1 (ja) * | 2008-08-28 | 2010-03-04 | セイコーインスツル株式会社 | 圧電振動片の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計 |
| JP5244188B2 (ja) * | 2008-08-28 | 2013-07-24 | セイコーインスツル株式会社 | 圧電振動片の製造方法 |
| US8516669B2 (en) | 2008-08-28 | 2013-08-27 | Seiko Instruments Inc. | Method of manufacturing piezoelectric vibrating reed, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic equipment and radio-controlled timepiece |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000201 |