JPS61233409A - 高周波用積層型磁気ヘツドコアの製造方法及び磁気ヘツドコア - Google Patents
高周波用積層型磁気ヘツドコアの製造方法及び磁気ヘツドコアInfo
- Publication number
- JPS61233409A JPS61233409A JP7280785A JP7280785A JPS61233409A JP S61233409 A JPS61233409 A JP S61233409A JP 7280785 A JP7280785 A JP 7280785A JP 7280785 A JP7280785 A JP 7280785A JP S61233409 A JPS61233409 A JP S61233409A
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- Japan
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- magnetic
- layer
- insulating layer
- head core
- magnetic head
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、アモルファス軟磁性材料を用いた、高周波に
おいて使用する、高周波用積層型磁気ヘッドコアの製造
方法及び磁気ヘッドコアに関するものである。
おいて使用する、高周波用積層型磁気ヘッドコアの製造
方法及び磁気ヘッドコアに関するものである。
（従来の技術）
従来の軟磁性アモルファス材料を主とした金属材料を用
いた磁気ヘッドの構成は、各種材料を液体超急冷法によ
って得られた薄体を基板上に接着するか、或いは、各種
蒸着法によって、基板上に直接磁性薄膜を蒸着する方法
がとられていた。
いた磁気ヘッドの構成は、各種材料を液体超急冷法によ
って得られた薄体を基板上に接着するか、或いは、各種
蒸着法によって、基板上に直接磁性薄膜を蒸着する方法
がとられていた。
しかし、前者は薄体膜厚が大きくなると、渦電流損失に
よる高周波損失が大きく、特にＶＴＲ等のＩ ＭＨｚを
上まわる周波数帯での初透磁率の損失が問題になること
が多い。
よる高周波損失が大きく、特にＶＴＲ等のＩ ＭＨｚを
上まわる周波数帯での初透磁率の損失が問題になること
が多い。
また、後者は前者に比べ、磁性層とＳｉＯ□等の非磁性
絶縁層を交互に積層することによって、渦電流損失を軽
減することが可能であるが、複数の材質を蒸着するため
同一蒸着装置中に複数の蒸着源を置く必要がある。
絶縁層を交互に積層することによって、渦電流損失を軽
減することが可能であるが、複数の材質を蒸着するため
同一蒸着装置中に複数の蒸着源を置く必要がある。
又は、その都度、装置外（真空外）の大気に基板を取出
すことによる膜付着強度等への悪影響などが考えられる
だけでなく、より高周波側（１０ＭＨｚ以上）での使用
に備えた、多数の磁性層及び非磁性絶縁層の交互の積層
を余儀無くされた構造においては、両相境界付近に集中
する層間歪（応力）の軟磁気特性への影響が無視できな
くなってくるという問題があった。
すことによる膜付着強度等への悪影響などが考えられる
だけでなく、より高周波側（１０ＭＨｚ以上）での使用
に備えた、多数の磁性層及び非磁性絶縁層の交互の積層
を余儀無くされた構造においては、両相境界付近に集中
する層間歪（応力）の軟磁気特性への影響が無視できな
くなってくるという問題があった。
しかも、高周波側で使用するものほど単一磁性層の膜厚
を小さくする必要が大きくなるため、通常、磁気ヘッド
のトラック幅となる全体の磁性層厚を一定としたとき、
高周波用のものほど磁性層単一層厚を小さくする必要が
有り、上記の磁性層及び非磁性絶縁層境界の数は、より
多くなるという事情があった。
を小さくする必要が大きくなるため、通常、磁気ヘッド
のトラック幅となる全体の磁性層厚を一定としたとき、
高周波用のものほど磁性層単一層厚を小さくする必要が
有り、上記の磁性層及び非磁性絶縁層境界の数は、より
多くなるという事情があった。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、従来の上記のような蒸着法によって。
磁性層及び非磁性絶縁層の繰返しによる高周波使用に適
した磁気ヘッドコアの積層構造において、両層間歪の軟
磁気特性への影響を小さくし、磁性層間の非磁性絶縁層
の形成を容易にした、高周波用磁気ヘッドコアの製造方
法及び磁気ヘッドコアを提供するものである。
した磁気ヘッドコアの積層構造において、両層間歪の軟
磁気特性への影響を小さくし、磁性層間の非磁性絶縁層
の形成を容易にした、高周波用磁気ヘッドコアの製造方
法及び磁気ヘッドコアを提供するものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明は上記の点を改善するため、非磁性材料等の軟磁
性膜を基板上に蒸着し、その軟磁性膜間の層間材料とし
て、その軟磁性材料と同じ蒸着源材料を酸化雰囲気（０
□ガス含有）下で蒸着させることによって、同軟磁性材
の磁性元素を含んだ非磁性の金属酸化膜絶縁層を得ると
いう磁性、非磁性膜の繰返し積層構造と、容易化された
製法を提供するものである。
性膜を基板上に蒸着し、その軟磁性膜間の層間材料とし
て、その軟磁性材料と同じ蒸着源材料を酸化雰囲気（０
□ガス含有）下で蒸着させることによって、同軟磁性材
の磁性元素を含んだ非磁性の金属酸化膜絶縁層を得ると
いう磁性、非磁性膜の繰返し積層構造と、容易化された
製法を提供するものである。
（作用）
元来、前記の理由から、特に金属磁性材料を用いた高周
波用磁気ヘッドコアとしては、磁性層の厚みを小さくす
る方が効率的であることから、全く異種の材料で磁性、
非磁性絶縁両層を交互に積層した構造をとることが知ら
れていたが、両層の数を多くするほど両層境界付近に分
布する内部応力が、応力−磁気効果（磁歪）を介して軟
磁気特性に影響することが避けられず、また、一方でそ
の磁性材料の磁歪定数を極力小さくすることも限界が有
った。
波用磁気ヘッドコアとしては、磁性層の厚みを小さくす
る方が効率的であることから、全く異種の材料で磁性、
非磁性絶縁両層を交互に積層した構造をとることが知ら
れていたが、両層の数を多くするほど両層境界付近に分
布する内部応力が、応力−磁気効果（磁歪）を介して軟
磁気特性に影響することが避けられず、また、一方でそ
の磁性材料の磁歪定数を極力小さくすることも限界が有
った。
本発明によって、従来の磁性膜及びＳｉＯ□を主とした
非磁性絶縁層との交互の多層構造の層間に、両者の異種
材料間の不整合に基づく内部歪が磁性層の軟磁気特性を
劣化させていたものが、非磁性絶縁層が磁性層と同一の
磁性金属元素の酸化物からなることによる整合性の改善
によって、上記のような、層間境界による歪の軟磁性へ
の影響を小さくすることができるだけでなく、蒸着雰囲
気を酸化性にするだけで、その非磁性絶縁層として新た
な材料蒸着源を必要としなくなるという、製法上の大き
な利点を持つ。
非磁性絶縁層との交互の多層構造の層間に、両者の異種
材料間の不整合に基づく内部歪が磁性層の軟磁気特性を
劣化させていたものが、非磁性絶縁層が磁性層と同一の
磁性金属元素の酸化物からなることによる整合性の改善
によって、上記のような、層間境界による歪の軟磁性へ
の影響を小さくすることができるだけでなく、蒸着雰囲
気を酸化性にするだけで、その非磁性絶縁層として新た
な材料蒸着源を必要としなくなるという、製法上の大き
な利点を持つ。
また、上記の磁性材料層としては、非晶質であっても、
また、結晶質であっても、本質的な差は無い。さらにま
た、非磁性絶縁層として用いる金属酸化膜は、その磁性
元素と必ずしも同一材料でなくとも、整合性が良い金属
酸化膜を選べば、異種金属を酸化性雰囲気下で蒸着する
ことによって。
また、結晶質であっても、本質的な差は無い。さらにま
た、非磁性絶縁層として用いる金属酸化膜は、その磁性
元素と必ずしも同一材料でなくとも、整合性が良い金属
酸化膜を選べば、異種金属を酸化性雰囲気下で蒸着する
ことによって。
簡易に非磁性−磁性交互積層も可能である。但し、この
場合は複数の蒸着源が必要となる。
場合は複数の蒸着源が必要となる。
さらにまた、蒸着法としては、主としてスパッタ法、各
種真空蒸着法等が考えられるが、その他の蒸着法を用い
ても効果は同等にすることもできる。
種真空蒸着法等が考えられるが、その他の蒸着法を用い
ても効果は同等にすることもできる。
（実施例）
第１図は本発明の一実施例として磁性層と非磁性絶縁層
を積層した磁気ヘッドコア材の構成を示す図であり、１
は磁性層、２は非磁性絶縁層、３は積層構造コアである
。
を積層した磁気ヘッドコア材の構成を示す図であり、１
は磁性層、２は非磁性絶縁層、３は積層構造コアである
。
これは、磁性層１にスパッタ蒸着による非晶質Ｃｒ−Ｎ
ｂ系合金を、また、非磁性絶縁層２として、同一スパッ
タターゲットをガラスセラミック基板上に酸化性雰囲気
（０□ガス含有Ａｒガスなど）下でスパッタ蒸着させた
酸化コバルト及び酸化ニオブを含む非磁性絶縁層を、各
々３μｍ及び１０００人の膜厚で交互にｌＯ回積層した
磁気ヘッドコア材の積層構造コア３を示したものである
。（合計約３１μｍ）第２図は第１図に示した磁気ヘッ
ドコア材の初透磁率の高周波特性を測定した結果を従来
のコア材料と比較して示した図である。
ｂ系合金を、また、非磁性絶縁層２として、同一スパッ
タターゲットをガラスセラミック基板上に酸化性雰囲気
（０□ガス含有Ａｒガスなど）下でスパッタ蒸着させた
酸化コバルト及び酸化ニオブを含む非磁性絶縁層を、各
々３μｍ及び１０００人の膜厚で交互にｌＯ回積層した
磁気ヘッドコア材の積層構造コア３を示したものである
。（合計約３１μｍ）第２図は第１図に示した磁気ヘッ
ドコア材の初透磁率の高周波特性を測定した結果を従来
のコア材料と比較して示した図である。
ここで、Ａは本発明による特性、Ｂ及びＣは従来のコア
材料の特性を示している。
材料の特性を示している。
Ａは積層構造を持つコア材の初透磁率μｉ（磁場Ｈ＝１
ｍＯｅ）の高周波特性を測定した結果である。
ｍＯｅ）の高周波特性を測定した結果である。
Ｂは非磁性絶縁層を含まない、全積層厚３１μｍと同じ
、単一のＣｏ−Ｎｂ系非晶質膜の特性図。
、単一のＣｏ−Ｎｂ系非晶質膜の特性図。
Ｃは従来から用いられてきた磁性層と、異種材料のＳｉ
ｎ、非磁性絶縁層を同一膜厚（１０００人）、及び積層
数１０回にした３１μｍ積層３μｍ Ｘ １０００人×
１０のコア材料の特性図。
ｎ、非磁性絶縁層を同一膜厚（１０００人）、及び積層
数１０回にした３１μｍ積層３μｍ Ｘ １０００人×
１０のコア材料の特性図。
であり、Ｂと比較して高周波特性に優れているだけでな
く、従来から用いられてきたＣに比べ、異種材料間の不
整合の影響が小さいことから、低周波域でのμｉの水準
も高くなっていることが判る。
く、従来から用いられてきたＣに比べ、異種材料間の不
整合の影響が小さいことから、低周波域でのμｉの水準
も高くなっていることが判る。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば、特にＶＴＲヘッ
ド等の高周波側で用いられている磁気ヘッドコア材とし
て、磁性及び非磁性絶縁層を多層化した積層材において
も、主として低域の軟磁気特性の劣化を押えたまま、高
域の渦電流損失防止の効果を生かした積層構造を、単一
の蒸着源のみを利用するだけで簡易に形成することがで
き、実用的に極めて有効である。
ド等の高周波側で用いられている磁気ヘッドコア材とし
て、磁性及び非磁性絶縁層を多層化した積層材において
も、主として低域の軟磁気特性の劣化を押えたまま、高
域の渦電流損失防止の効果を生かした積層構造を、単一
の蒸着源のみを利用するだけで簡易に形成することがで
き、実用的に極めて有効である。
第１図は本発明の一実施例として磁性層と非磁性絶縁層
を積層した磁気ヘッドコア材の構成を示す図、第２図は
第１図に示した磁気ヘッドコア材の初透磁率の高周波特
性を測定した結果を従来のコア材料と比較して示した図
である。 １ ・・・磁性層、２・・・非磁性絶縁層。 ３ ・・・積層構造コア。
を積層した磁気ヘッドコア材の構成を示す図、第２図は
第１図に示した磁気ヘッドコア材の初透磁率の高周波特
性を測定した結果を従来のコア材料と比較して示した図
である。 １ ・・・磁性層、２・・・非磁性絶縁層。 ３ ・・・積層構造コア。
Claims (10)
- （１）磁性層と非磁性絶縁層を蒸着法によって積層させ
た構造を有する磁気ヘッドコアであって、その非磁性絶
縁層を、前記磁性層の材料と同一蒸着源を用いて酸化性
雰囲気で蒸着させた酸化膜を用いて構成することを特徴
とする高周波用積層型磁気ヘッドコアの製造方法。 - （２）磁性層と非磁性絶縁層を蒸着法によって積層させ
た構造を有する磁気ヘッドコアであって、その非磁性絶
縁層を、前記磁性層の材料と同一蒸着源を用いて酸化性
雰囲気で蒸着させた酸化膜を用いて構成したものである
ことを特徴とする高周波用積層型磁気ヘッドコア。 - （３）磁性層の材料として非晶質磁性材料を用いたこと
をことを特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の高
周波用積層型磁気ヘッドコアの製造方法。 - （４）磁性層の材料として非晶質磁性材料を用いたこと
をことを特徴とする特許請求の範囲第（２）項記載の高
周波用積層型磁気ヘッドコア。 - （５）磁性層及び非磁性絶縁層を、それぞれＡｒガス又
はＯ＿２ガスを含んだガスを用いてスパッタ蒸着法によ
って形成させたことを特徴とする特許請求の範囲第（１
）項記載の高周波用積層型磁気ヘッドコアの製造方法。 - （６）磁性層及び非磁性絶縁層を、それぞれＡｒガス又
はＯ＿２ガスを含んだガスを用いてスパッタ蒸着法によ
って形成させたことを特徴とする特許請求の範囲第（２
）項記載の高周波用積層型磁気ヘッドコア。 - （７）非晶質材料がＣｏ及びＮｂを主とした系による磁
性層であることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
記載の高周波用積層型磁気ヘッドコアの製造方法。 - （８）非晶質材料がＣｏ及びＮｂを主とした系による磁
性層であることを特徴とする特許請求の範囲第（２）項
記載の高周波用積層型磁気ヘッドコア。 - （９）非磁性絶縁層として、磁性材料と異なり磁性材料
と整合性の良い酸化膜層を形成する他の金属材料を酸化
性雰囲気で蒸着させて構成したことを特徴とする特許請
求の範囲第（１）項記載の高周波用積層型磁気ヘッドコ
アの製造方法。 - （１０）非磁性絶縁層として、磁性材料と異なり磁性材
料と整合性の良い酸化膜層を形成する他の金属材料を酸
化性雰囲気で蒸着させて構成したことを特徴とする特許
請求の範囲第（２）項記載の高周波用積層型磁気ヘッド
コア。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7280785A JPS61233409A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 高周波用積層型磁気ヘツドコアの製造方法及び磁気ヘツドコア |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7280785A JPS61233409A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 高周波用積層型磁気ヘツドコアの製造方法及び磁気ヘツドコア |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61233409A true JPS61233409A (ja) | 1986-10-17 |
Family
ID=13500036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7280785A Pending JPS61233409A (ja) | 1985-04-08 | 1985-04-08 | 高周波用積層型磁気ヘツドコアの製造方法及び磁気ヘツドコア |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61233409A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63247905A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波用磁気ヘツドコアの製造方法 |
| JPH01194120A (ja) * | 1987-10-05 | 1989-08-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US5589221A (en) * | 1994-05-16 | 1996-12-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic thin film, and method of manufacturing the same, and magnetic head |
-
1985
- 1985-04-08 JP JP7280785A patent/JPS61233409A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63247905A (ja) * | 1987-04-03 | 1988-10-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波用磁気ヘツドコアの製造方法 |
| JPH01194120A (ja) * | 1987-10-05 | 1989-08-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気ヘッド及びその製造方法 |
| US5589221A (en) * | 1994-05-16 | 1996-12-31 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic thin film, and method of manufacturing the same, and magnetic head |
| US5849400A (en) * | 1994-05-16 | 1998-12-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic thin film, and method of manufacturing the same, and magnetic head |
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