JPH05273237A - プローブカード - Google Patents

プローブカード

Info

Publication number
JPH05273237A
JPH05273237A JP4100467A JP10046792A JPH05273237A JP H05273237 A JPH05273237 A JP H05273237A JP 4100467 A JP4100467 A JP 4100467A JP 10046792 A JP10046792 A JP 10046792A JP H05273237 A JPH05273237 A JP H05273237A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe needle
probe
electrode
wafer
tip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4100467A
Other languages
English (en)
Inventor
Keiichi Yokota
敬一 横田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Yamanashi Ltd filed Critical Tokyo Electron Yamanashi Ltd
Priority to JP4100467A priority Critical patent/JPH05273237A/ja
Publication of JPH05273237A publication Critical patent/JPH05273237A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体ウエハのプローブカードにおいて、プ
ローブ針が半導体素子の電極に精度良く接触するプロー
ブカードを提供する。 【構成】 半導体ウエハのプローブカードにおいて、プ
ローブ針の先端を加工して、半導体素子の電極に線接触
する構造とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工程におけ
る半導体素子(半導体ウエハに形成された半導体チップ
及びパッケージ成形された完成品の半導体製品(IC)
の両方を含む)の電気的特性を測定するためのプローブ
カードに関する。
【0002】
【従来の技術】従来半導体製造工程において、半導体素
子の電気的特性を測定し、良否を検査する工程がある。
この検査工程には、大別して二種類ある。一種類は、半
導体ウエハ上に形成された多数の半導体チップの電極
(列)にプローブカードのプローブ針(列)を接触させ
測定している。他種類は、パッケージ成形された後の半
導体製品(IC)の各端子(列)にプローブ(列)を接
触させプローブ針からの出力測定によって半導体素子の
電気的特性を測定し良否を検査する物である。特に多ピ
ン用半導体チップは後工程の実装方法を考慮して、バン
プ状の電極を形成している。何れもプローブカードを所
定装置に取り付け、プローブ針を各電極(列)、各端子
(列)に電気的に接触させ検査している。
【0003】上記プローブカードは、プリント配線され
た基板(固定板)と複数のプローブ針から成り、このプ
ローブ針にはタングステン等の線材(断面円形)が用い
られている。この線材の先端が直径50μ〜30μ程度
の円錐形状(円錐形の頂端がほぼ球面に近い形状を意味
する。以下円錐球状と言う)に形成し、更にこの先端を
半導体ウエハ面に対し直交方向と約7度程度傾斜させ、
この傾斜した先端を電極等に対し、電気的に接触するよ
うに曲げらている。この電極等と接触する先端は上述し
たように直径50μ〜30μ程度の円錐球状であるの
で、各電極面、各端子面に点接触した後、オーバドライ
ブをかける時、先端が上述した球状に習ってほぼ楕円球
状で窪むよう電極等にめり込み接触している。(実公昭
58−26531,特開昭57−143839号公報参
照)また、プローブ針の形状は実開昭59−1786
0,実開昭61−15736,実開昭61−9287
8,実開昭61−127637号等に記載されている。
【0004】ところで、最近の半導体素子、特に1M以
降の半導体素子は高集積度が進み、それに伴って、特に
ASIC、ゲートアレイ等の半導体素子(多ピン半導体
チップ)は、単位面積当りの半導体チップ上に形成され
る電極数の増加、各電極間隔の短間隔化、電極面積の縮
小面積化が進んでいる。この多ピン半導体チップを用い
た半導体製品(IC)においても同様である。
【0005】一方、従来から用いられている上記プロー
ブカードのプローブ針は、上述したように直径が30〜
50μm程度ほぼ球状をしており、多ピン半導体チップ
の電極辺60μ以下(一般の半導体素子の電極辺100
μ)、多ピン半導体製品(IC)の端子幅、200μ以
下(一般の半導体製品の端子幅、400μ)と点接触す
る。この点接触はウエハプローバ(ウエハ検査装置)、
デバイスプローバ(完成品IC検査装置)などによって
位置決めされた半導体ウエハやICに対して行われる。
これらプローバでは、半導体ウエハやICをプローブカ
ードに対して相対的に移動(上昇または下降)させ、各
電極や端子のそれぞれにプローブ針でオーバドライブ
(押圧)をかけ検査している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のプローブカ
ードに次の欠点が指摘されている。(1)多ピン半導体
素子のバンプ電極(1辺の長さ60μ、電極間隔100
μ)のプローブ針列に対する位置決めは、更に高精度に
開発しなければない。即ち、ウエハプローバの位置決め
を高精度にする為、メカ精度を更に向上させなければな
らない。(2)また、メカ精度を向上させたとしても、
上記プローブ針の球状中心と端子幅の中心とがほぼ同軸
位置に位置決めし接触させてもオーバドライブ(押圧)
をかけた時、電極(バンプ電極)辺60μの角が微小で
あるがRになっている為、線材の弾性によってプローブ
針を多少滑らせながら接触させるものであり、プローブ
針の先端が点接触(球面接触)である為、電極面から滑
り飛び出(外れる)してしまうおそれがある。
【0007】その結果、良品の半導体素子であっても不
良品として検査されてしまう。しかも飛び出た先端が完
成品ICの場合、端子幅の側面にプローブ針先端側面と
擦れ、プローブ針先端を破損させてしまうおそれがあ
る。
【0008】言い替えれば、プローブ針が点接触である
が故、プローブ針をオーバドライブ(押圧した)時、プ
ローブ針が電極や端子の点接触から電極や端子の外に滑
り落ち(逃げ)易いといった問題があった。また、プロ
ーブ針が滑り落ちない範囲でメカ精度を向上させるため
には、従来のプローブ装置は適用できないといった問題
があった。
【0009】そこで発明者は電極、端子の位置決めの高
精度化は、ウエハプローバ、デバイスプローバのメカ精
度に頼らず、プローブ針の形状で解決できると考えた。
また、プローブ針の先端が端子面から滑り飛び出(外れ
る)してしまう欠点は、点接触であるが故に先端が端子
面から逃げてしまうと考え、これもプローブ針の形状で
解決できると考えた。
【0010】本発明は、半導体素子を測定する検査装置
のメカ精度の現状レベルを維持しつつ、またプローブ針
が電極や端子の中心位置からズレて接触した場合も、プ
ローブ針が電極や端子から滑り落ち難いプローブ針を有
したプローブカードを提供する事にある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記技術的課
題を解決するために、半導体素子に形成された電極部に
接触するプローブ針を有し、このプローブ針からの出力
によって前記半導体素子の電気的特性を測定するプロー
ブカードにおいて、前記プローブ針の先端部を半導体素
子の電極部に線接触するように形成したプローブカード
を手段とする。また、上記線接触は、上記プローブ針の
先端部に稜線部を形成し、この稜線部はプローブ針の先
端部に形成した半月部の弦部によって構成されるプロー
ブカードを手段とする。
【0012】
【作用】本発明のプローブカードにおいて、半導体素子
の電極面、端子面と接触するプローブ針先端が線で構成
しているので、プローブ針先端と上記電極面、端子面と
が微細に位置ずれしても、線幅がある為、この線幅の何
処かに接触する事ができる。また、プロ−ブ針先端に線
幅を持たせたので、この線幅がオーバドライブをかける
方向と直交方向(プローブ針が上面を滑り、左右の端子
外に滑り落ちる方向)に曲がり難い働きをする。
【0013】また、プローブ針の製造・組立に際し、線
材(断面円形)が加工容易であり、この線材を用いて、
即ちこの線材の先端部を稜線に形成する事により容易に
プローブ針を製造することができる。しかも、上記稜線
部を得るに際し、線材の先端のテーパ部を半月状に切欠
し、この切欠した弦部によって構成するので、従来のピ
ン数の少ないプローブ針工程に一作業を追加する事で、
今までの工程をそのまま利用できる。
【0014】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
【0015】図4は、本発明のプローブカードの一実施
例を示す全体の縦断面図である。
【0016】図に示すように、この実施例のプローブカ
ード1はプリント配線された基板2と、線材のプローブ
針3とから成っている。このプローブ針3の固定端は基
板2の面(実施例では下面)に固定(例えば接着剤等)
され、遊端はウエハと電気的に接触し、例えば電極と接
触し、この電極と外部テスタ(図示せず)とを通電させ
て測定している。上記固定端と上記遊端との間に支持部
材4が配設されている。上記プローブ針3は線材、例え
ば直径200μ、長さ25.4mm、遊端のテーパ長4
mm、材質タングステン等の線材が用いらている。ここ
で、この線材はウエハの種類により替える事は言うまで
もない。
【0017】上記線材を基板2面に対し所定の傾き、例
えばほぼ7度傾けて固定端が固定されている。更に、上
記プローブ針3のウエハ5と接する先端部3Aaは、図
に示す様に、ウエハ5面に対する垂直線6と所定の傾
き、例えばほぼ7度傾けて曲げられている。
【0018】図1は、本発明のプローブ針5先端の一実
施例を示すプローブ針縦断面正面図である。図1におい
て斜線部分3bを次の通り切欠く。
【0019】図において、プローブ針3の先端部3aが
プローブ針3の先端を通る軸心7と垂直線6(載置台5
に載置された半導体ウエハ6面との垂直線)と交差する
交点P位置(3aでもある位置)から高さΔt、例えば
針先直径50μであればR25μをウエハ5面と平行に
切欠される。(ここで電極等と接触する線の長さを例え
ば40μとするならば、切欠高さΔtを10〜20μに
変更すれば良い。)図では、切欠量を斜線で表示してい
る。
【0020】更に、上記切欠された先端面3bの両サイ
ド、例えば右サイドθ1と左サイドθ2を稜線が形成よ
うに切欠されている。この切欠する角度は、例えば右サ
イドθ1が45度、左サイドθ2を30度で切欠してい
る。この時の稜線幅(以下線幅と言う)は、例えば20
μ(図3参照)の線幅に形成されている。
【0021】図2は、図1のプロ−ブ針の他の断面図で
ある。図3は、図1のプロ−ブ針先端を下方から見た下
面図である。
【0022】なお、プローブ針3の先端部形状は上記実
施例に限らずウエハ5面と接する先端面3bに線接触す
る稜線部を形成する角度、例えばθ1=30度、θ2=
30度で切欠してあっても良い。ここで線材を用いて稜
線部を形成する事により半月状になる。即ち、切欠した
方向から見ると半月形状になる。
【0023】図4は、図1のプロ−ブ針を有したプロー
ブカードをウエハプローバに取り付け、ウエハを測定す
る縦断面正面図である。
【0024】図において、上記ウエハプローバでウエハ
5を測定するに際し、ウエハプローバのウエハカセット
(図示せず)から、ウエハ5を裁置台(チャック)8ま
でハンドリングされる。このハンドリングされたウエハ
5は測定部までロードされる。(ロード部は図示せず)
このロ−ドしたウエハ5は光学手段、例えば画像処理装
置(撮像管等、図示せず)を用いて、バンプ電極位置に
対応するプローブ針3位置を合致させるように位置合わ
せされる。この位置合わせされたウエハ5の電極(図5
中5a,5b)にプローブ針(電極と対応したプローブ
針)3が当接される。(当接とは、例えば電極5a、5
bにオーバドライブをかける前にウエハ5に接した状態
を言う。)この当接した電極に所定のオーバドライブ、
例えば50μかけられる。即ち、裁置台8を上昇させ
て、ウエハ5にオーバドライブ、例えば50μかける様
に設定されている。
【0025】図5は、図1のプローブ針3の中心とウエ
ハ5の電極面中心とがほぼ同心の時の動作を説明する縦
断面側面図である。図6は、図5の縦断正面図である。
【0026】図5において、プローブ針3間ピッチ、例
えば100μおよびウエハ5の電極5a、5b間ピッ
チ、例えば100μで、上記プローブ針3先端の線長、
例えば50μ(図3参照)であり、また電極面の一端
辺、例えば60μの場合。電極5a、5bのほぼ中心に
プローブ針3間ピッチ100μの中心がほぼ合致してい
るので、プローブ針3の線長50μが電極5a、5b一
端辺60μのほぼ中心に位置し接触している。但し、図
6に示すように、電極5a、5b一端辺のほぼ中心に接
触するが、所定のオーバドライブ、裁置台8を上昇例え
ば50μ上昇させた時微少Δχ、例えば5μ〜6μがウ
エハ5方向と同方向(裁置台の上昇方向と直角方向)に
横ズレする。この横ズレ量(ほぼ6μ)とプロ−ブ針3
との線幅(ほぼ20μ)の合算は26μであり、電極5
a、5bの一端辺が60μに対する26μであり、計算
的に17μ(+−)の位置誤差があっても測定は可能で
ある。
【0027】図7は、図1のプローブ針の中心とウエハ
の電極面中心とが正面方向に30μ位置ズレした時の動
作を説明する縦断面側面図である。
【0028】図において、プローブ針3間ピッチ、例え
ば100μおよびウエハ5の電極5a、5b間ピッチ、
例えば100μで、上記プローブ針3先端の線長50μ
であり、また電極5a、5b面積の一端辺60μの場
合。電極5a、5bのほぼ中心(CL5,CL6)にプ
ローブ針5a、5b間ピッチ100μの中心(CL3,
CL4)が正面方向に30μ位位置ズレしているので、
プローブ針3の線長50μの中心(CL3,CL4))
が電極一端辺60μの端(図では左端)に位置し接触し
ている。この場合、電極5a、5b面に対し線長の50
μの内25μが接触しているので30μ(+−)の位置
誤差があっても測定は可能である。
【0029】図8は、図1のプローブ針を有したプロー
ブカードをデバイスプローバ(完成品の半導体製品測定
装置)に取り付け、完成品の半導体製品(IC)を測定
する主要部の縦断面正面図である。
【0030】図において、上記デバイスプローバで完成
品の半導体製品(IC)9を測定するに際し、半導体製
品9を裁置台(チャック)10までハンドリングされ
る。このハンドリングされた半導体製品9を測定部(プ
ローバカードの下方)までロードする。(ロード部図示
せず)このロードした半導体製品9を光学手段、例えば
画像処理装置(撮像管等)(図示せず)を用いて、リー
ド端子電極位置に対応したプローブ針12位置と合致さ
せるように位置合わせする。この位置合わせされたリー
ド端子電極11にプローブ針(端子電極と対応したプロ
ーブ針)12を当接させる。(当接とは例えば電極端子
にオーバドライブをかける前に端子電極に接した状態を
言う。)この当接したリード端子電極11に所定のオー
バドライブ、例えば50μかける。即ち、裁置台10を
上昇させて、リード端子電極11にオーバドライブ、例
えば50μかける様に設定されている。オーバドライブ
をかけた後測定する。
【0031】図9は、図8のプローブ針12の中心(C
L7,CL8)と、リード端子電極11a、11b中心
(CL9,CL10)とがほぼ同心の時の動作を説明す
る縦断面側面図である。図10は、図8の縦断正面図で
ある。
【0032】図9において、プローブ針12a、12b
間ピッチ、例えば500μおよびリード端子電極11
a、11b間ピッチ、例えば500μで、上記プローブ
針先端の線長、例えば100μであり、またリード端子
電極11の一端辺(短辺)、例えば200μの場合。端
子電極11のほぼ中心(CL9,CL10)にプローブ
針間ピッチ500μの中心(CL7,CL8)がほぼ合
致しているので、プローブ針12の線長100μが端子
電極一端辺200μのほぼ中心(CL7,CL8)に位
置し接触している。但し、図10に示すように、端子電
極11一端辺のほぼ中心に接触するが、所定量のオーバ
ドライブをかける為、裁置台10を50μ上昇させた時
微少Δχ、例えばほぼ10μが半導体製品9方向と同方
向(裁置台の上昇方向と直角方向)に横ズレする。この
横ズレ量(ほぼ10μ)とプロ−ブ針との線幅(ほぼ5
0μ)の合算は60μであり,電極の一端辺が、例えば
400μに対する60μであり、計算的に170μ(+
−)の位置誤差があっても測定は可能である。
【0033】図11は、図8のプローブ針の中心とリー
ド端子電極の中心とが100μ位置ズレした時の縦断面
側面図である。
【0034】図において、プローブ針12a、12b間
ピッチ、例えば500μおよびリード端子電極11a、
11b間ピッチ、例えば500μで、上記プローブ針1
2先端の線長100μであり、また端子電極一端辺20
0μの場合。端子電極11のほぼ中心(CL9,CL1
0)にプローブ針12a、12b間ピッチ500μの中
心(CL7,CL8)が100μ位置ズレしているの
で、プローブ針12の線長100μの中心(CL7,C
L8)が端子電極の一端辺100μの端(図では左端)
に位置し接触している。この場合、200μの端子電極
に対し線長の100μの内50μが接触しているので1
00μ(+−)の位置誤差があっても測定は可能であ
る。先端が直線で接触する構成にしたので、この直線の
何れかに端子電極が接触する。
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプローブ
カードによれば、プローブ針の先端部を線接触する形状
にしたので、半導体素子の電極等とプローブ針の先端部
との位置合わせが容易になるばかりでなく、多ピン半導
体チップに対応できるプローブカードが実現できる可能
性がでてきた。
【図面の詳細な説明】
【図1】本発明のプローブ針の先端部の一実施例を示す
縦断面正面図である。
【図2】図1の縦断面側面図である。
【図3】図1のプローブ針の先端部の下面図である。
【図4】図1のプローブ針を有したプローブカードをウ
エハプローバに取り付けた縦断面正面図である。
【図5】図1のプローブ針の中心とウエハの電極面中心
とがほぼ同心の時の縦断面側面図ある。
【図6】図5の縦断面正面図ある。
【図7】図5のプローブ針の中心とウエハの電極面中心
とが30μ位置ズレした時の縦断面側面図である。
【図8】図1のプローブ針を有したプローバカードをデ
バイスプローバに取り付け、完成品の半導体製品(I
C)を測定する縦断面正面図である。
【図9】図8のプローブ針の中心(CL7,CL8)
と、リードフレーム端子電極中心(CL9,CL10)
とがほぼ同心の時の動作を説明する縦断面側面図であ
る。
【図10】図9の縦断面正面図である。
【図11】図9のプローブ針の中心とウエハの電極面中
心とが正面方向に30μ位置ズレした時の動作を説明す
る縦断面側面図である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子に形成された電極部に接触す
    るプローブ針を有し、このプローブ針からの出力によっ
    て前記半導体素子の電気的特性を測定するプローブカー
    ドにおいて、前記プローブ針の先端部を半導体素子の電
    極部に線接触する形状にしたことを特徴とするプローブ
    カード。
  2. 【請求項2】 前記プローブ針の先端部に稜線部を形成
    し、この稜線部はプローブ針の先端部に形成した半月部
    の弦部によって構成されることを特徴とする請求項1記
    載のプローブカード。
JP4100467A 1992-03-26 1992-03-26 プローブカード Pending JPH05273237A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4100467A JPH05273237A (ja) 1992-03-26 1992-03-26 プローブカード

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4100467A JPH05273237A (ja) 1992-03-26 1992-03-26 プローブカード

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05273237A true JPH05273237A (ja) 1993-10-22

Family

ID=14274718

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4100467A Pending JPH05273237A (ja) 1992-03-26 1992-03-26 プローブカード

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05273237A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6297656B1 (en) 1997-07-11 2001-10-02 Tokyo Electron Limited Probe-test method and prober
WO2003056346A1 (fr) 2001-12-25 2003-07-10 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Sonde de contact
JP2003255010A (ja) * 2002-02-28 2003-09-10 Adtec Engineeng Co Ltd なぞり測定装置
US6646455B2 (en) 1997-07-24 2003-11-11 Mitsubishi Denki Kabsuhiki Kaisha Test probe for semiconductor devices, method of manufacturing of the same, and member for removing foreign matter
US7274195B2 (en) 1998-08-31 2007-09-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device test probe
JP2007271631A (ja) * 2007-06-04 2007-10-18 Mitsubishi Electric Corp ウエハテスト用プローブカード
JP2008026336A (ja) * 2007-09-27 2008-02-07 Fujitsu Ltd コンタクタ
JP2009002967A (ja) * 2001-12-25 2009-01-08 Sumitomo Electric Ind Ltd コンタクトプローブ
JP2011058927A (ja) * 2009-09-09 2011-03-24 Tokyo Electron Ltd プローブの研磨装置及びプローブの研磨方法
JP2014126422A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Totoku Electric Co Ltd 2芯コンタクトプローブ、2芯コンタクトプローブ・ユニットおよび2芯コンタクトプローブの製造方法
CN104849515A (zh) * 2014-02-13 2015-08-19 日本电产理德株式会社 检查用触头和具备其的检查夹具及检查用触头的制造方法

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6297656B1 (en) 1997-07-11 2001-10-02 Tokyo Electron Limited Probe-test method and prober
US6646455B2 (en) 1997-07-24 2003-11-11 Mitsubishi Denki Kabsuhiki Kaisha Test probe for semiconductor devices, method of manufacturing of the same, and member for removing foreign matter
US6888344B2 (en) 1997-07-24 2005-05-03 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Test probe for semiconductor devices, method of manufacturing of the same, and member for removing foreign matter
US7274195B2 (en) 1998-08-31 2007-09-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device test probe
US7276923B2 (en) 1998-08-31 2007-10-02 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device test probe
CN100392408C (zh) * 2001-12-25 2008-06-04 住友电气工业株式会社 接触探头
WO2003056346A1 (fr) 2001-12-25 2003-07-10 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Sonde de contact
US7078921B2 (en) 2001-12-25 2006-07-18 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Contact probe
JP2009002967A (ja) * 2001-12-25 2009-01-08 Sumitomo Electric Ind Ltd コンタクトプローブ
JP2003255010A (ja) * 2002-02-28 2003-09-10 Adtec Engineeng Co Ltd なぞり測定装置
JP2007271631A (ja) * 2007-06-04 2007-10-18 Mitsubishi Electric Corp ウエハテスト用プローブカード
JP4539681B2 (ja) * 2007-06-04 2010-09-08 三菱電機株式会社 ウエハテスト用プローブカード
JP2008026336A (ja) * 2007-09-27 2008-02-07 Fujitsu Ltd コンタクタ
JP2011058927A (ja) * 2009-09-09 2011-03-24 Tokyo Electron Ltd プローブの研磨装置及びプローブの研磨方法
JP2014126422A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Totoku Electric Co Ltd 2芯コンタクトプローブ、2芯コンタクトプローブ・ユニットおよび2芯コンタクトプローブの製造方法
CN104849515A (zh) * 2014-02-13 2015-08-19 日本电产理德株式会社 检查用触头和具备其的检查夹具及检查用触头的制造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05273237A (ja) プローブカード
US7102368B2 (en) Method of applying the analysis of scrub mark morphology and location to the evaluation and correction of semiconductor testing, analysis, and manufacture
JPH09107011A (ja) 半導体装置、およびこの半導体装置の位置合わせ方法
JPH05218150A (ja) プローブカード
US6824395B2 (en) Semiconductor device-socket
JPH10206464A (ja) プローブ装置
JPH03231438A (ja) プローブカード及びこれを用いたプローブ装置
JP4817830B2 (ja) プローバ、プローブ接触方法及びそのためのプログラム
KR20020025786A (ko) 반도체 시험장치용 캘리브레이션 장치, 캘리브레이션 방법및 반도체시험장치
KR101227547B1 (ko) 프로브 카드
JPH08285890A (ja) プローブカード
KR100720122B1 (ko) 반도체 웨이퍼 검사기의 프로브 장치
JP3334659B2 (ja) プローブカード
KR100635524B1 (ko) 반도체 웨이퍼 검사기의 프로브장치
JP2000077599A (ja) 端子検査用治具
JPS6018929A (ja) 探針位置検査装置
JPH06196537A (ja) 電気回路検査方法及び装置
JPH02216467A (ja) プローバ
KR100292822B1 (ko) 집적회로 칩 검사용 프로브카드
JPS59208469A (ja) プロ−ブカ−ド
KR0127639B1 (ko) 프로우빙 시험 방법 및 그 장치
JP4406218B2 (ja) プローブを備えた検査装置、およびプローブを備えた検査装置の位置決め機構による位置決め方法
JPS5918864B2 (ja) 半導体ウエハ−検査装置
JPH06102311A (ja) 半導体パッケージのテスト方法およびその装置
CN113284815A (zh) 半导体装置及针痕偏移检测方法