JPH05262765A - ベンゾフラン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤 - Google Patents

ベンゾフラン誘導体およびそれを有効成分とする除草剤

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JPH05262765A
JPH05262765A JP4062251A JP6225192A JPH05262765A JP H05262765 A JPH05262765 A JP H05262765A JP 4062251 A JP4062251 A JP 4062251A JP 6225192 A JP6225192 A JP 6225192A JP H05262765 A JPH05262765 A JP H05262765A
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solvent
water
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JP4062251A
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Susumu Takemura
晋 竹村
Masayuki Enomoto
雅行 榎本
Toru Kamikawa
徹 上川
Masaharu Sakaki
正治 榊
Makoto Sato
良 佐藤
Hideyoshi Nagano
栄喜 永野
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/04—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/48—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with two nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
    • A01N43/54—1,3-Diazines; Hydrogenated 1,3-diazines

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】下記式で示されるベンゾフラン誘導体。 〔式中、Ａは水素原子、フッ素原子または塩素原子を表
わし、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素
原子を表わし、Ｙはハロゲン原子で置換されていてもよ
いメチル基を表わし、Ｚはメチル基またはアミノ基を表
わし、Ｒはハロアルキル基、アルキルチオアルキル基、
アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アシル
アミノアルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルキル
基、アシルオキシアルキル基、ヒドロキシイミノアルキ
ル基、アルコキシイミノアルキル基、シアノ基などを表
わす。〕 【効果】上記の化合物は、畑地の土壌処理および茎葉処
理、更に水田の湛水処理において問題となる種々の雑草
に対して優れた除草効力を有し、主要作物と雑草間にお
いて優れた選択性を示すことから除草剤の有効成分とし
て種々の用途に用いることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なベンゾフラン誘導
体およびそれを有効成分とする除草剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開昭63-156787 号公報にある種の置換
ベンゾフランが除草剤の有効成分として用いられること
が記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の化合物は、除草効力が不十分であったり、作物・雑草
間の選択性に劣ったりすることから必ずしも満足すべき
ものとは言い難い。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
状況に鑑み、種々検討した結果、一般式
【化２】 〔式中、Ａは水素原子、フッ素原子または塩素原子を表
わし、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素
原子を表わし、Ｙはハロゲン原子で置換されていてもよ
いメチル基を表わし、Ｚはメチル基またはアミノ基を表
わし、Ｒはハロアルキル基、アルキルチオアルキル基、
アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アシル
アミノアルキル基、アルキルスルホニルアミノアルキル
基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアル
キル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アシルオキ
シアルキル基、ヒドロキシイミノアルキル基、アルコキ
シイミノアルキル基、シアノ基、ヒドラゾノアルキル
基、アルキルヒドラゾノアルキル基、フェニルヒドラゾ
ノアルキル基（該フェニルはアルキル基、アルコキシ
基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基またはチオアルキル基で置換さ
れていてもよい。）、カルボキシル基、アルコキシカル
ボニル基、アミノカルボニル基、アルキルアミノカルボ
ニル基またはフェニルアミノカルボニル基（該フェニル
はアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基、ハロア
ルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基または
チオアルキル基で置換されていてもよい。）を表わ
す。〕で示されるベンゾフラン誘導体（以下、本発明化
合物と記す。）が、上述のような欠点の少ない優れた除
草効力を有し、かつ作物・雑草間に優れた選択性を示す
化合物であることを見いだし本発明に至った。尚、上記
置換基の説明におけるアシルにはホルミル基、アルキル
カルボニル基、ハロアルキルカルボニル基等が含まれ
る。次に、本発明化合物の製造法について説明する。
【０００５】＜製造法ａ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがハロアルキル基である本発明化合物は、
例えば、一般式
【化３】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は互いに同一または相異なり、
水素原子またはアルキル基を表わし、Ａ、Ｘ、Ｙおよび
Ｚは前記と同じ意味を表わす。〕で示される化合物とハ
ロゲン化剤とを反応させることにより、一般式
【化４】 〔式中、Ｂはハロゲン原子を表わし、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、
Ｒ1 およびＲ2 は前記と同じ意味を表わす。〕で示され
る化合物、一般式
【化５】 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙ、ＺおよびＲ1 は前記と同じ意
味を表わす。〕で示される化合物および一般式
【化６】 〔式中、Ａ、Ｂ、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同じ意味を表
わす。〕で示される化合物の混合物として製造すること
ができる（ただし、化合物(I-2)は化合物(II)のＲ2 が
水素原子である場合、また、化合物(I-3) は化合物(II)
のＲ1 およびＲ2 が水素原子である場合のみ製造するこ
とができる。）。これらの化合物を単離精製することに
より目的化合物を得ることができる。
【０００６】本反応は、溶媒中、触媒の存在下または非
存在下で行われ、反応温度の範囲はＯ〜150 ℃、好まし
くは20〜80℃であり、反応時間の範囲は 0.5〜24時間で
あり、反応に供される試剤の量は化合物 (II) １当量に
対してハロゲン化剤は１〜10当量であり、触媒は0.01〜
0.5 当量である。本反応に用いられるハロゲン化剤とし
ては、臭素、塩素等のハロゲン、Ｎ−ブロモコハク酸イ
ミド等のＮ−ハロコハク酸イミド、過臭化ピリジニウム
等のピリジン塩等が挙げられる。溶媒としてはクロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、蟻酸、酢
酸等のカルボン酸類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等
のアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫
黄化合物等が挙げられる。触媒としては、過酸化ベンゾ
イル、α, α' −アゾビスイソブチロニトリルあるいは
それらの混合物等が挙げられる。反応終了後、必要に応
じて反応液中の不溶物を濾別し、有機溶媒抽出、乾燥、
濃縮等の通常の後処理をした後、再結晶、クロマトグラ
フィー等によって分離精製することにより、目的の化合
物を得ることができる。
【０００７】＜製造法ｂ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがアルキルチオアルキル基である本発明化
合物は、上記製造法ａで製造される化合物(I-1) と一般
式 Ｒ3 ＳＨ (III) 〔式中、Ｒ3 はアルキル基を表わす。〕で示される化合
物とを反応させることにより製造することができる。本
反応は溶媒中、塩基の存在下で行われ、反応温度の範囲
は０〜 100℃、好ましくは20〜60℃であり、反応時間の
範囲は0.5 〜24時間であり、反応に供される試剤の量は
化合物(I-1) １当量に対して化合物 (III)は１〜５当量
であり、塩基は１〜10当量である。本反応に用いられる
溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ
ーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物
等が挙げられ、塩基としては、水素化ナトリウム、水素
化カリウム等の金属水素化物、ナトリウムメトキシド等
の金属アルコキシド等が挙げられる。反応終了後、反応
液を水にあけ、生じた結晶を濾取または有機溶媒抽出お
よび濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマト
グラフィー、蒸留、再結晶等の操作によって精製するこ
とにより目的の化合物を得ることができる。
【０００８】＜製造法ｃ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがアミノアルキル基、アルキルアミノアル
キル基、アシルアミノアルキル基またはアルキルスルホ
ニルアミノアルキル基である本発明化合物は、上記製造
法ａで製造される化合物(I-1) で示される化合物と一般
式 Ｒ4 Ｒ5 ＮＨ (IV) 〔式中、Ｒ4 およびＲ5 は互いに同一または相異なり水
素原子、アルキル基、アシル基またはアルキルスルホニ
ル基を表わす。〕で示される化合物とを反応させること
により製造することができる。本反応は溶媒中、塩基の
存在下で行われ、反応温度の範囲は０〜 100℃、好まし
くは20〜80℃であり、反応時間の範囲は0.5 〜24時間で
あり、反応に供される試剤の量は、化合物(I-1) １当量
に対して化合物(IV)は１〜５当量であり、塩基は１〜10
当量である。本反応に用いられる溶媒としては、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン等の硫黄化合物、ベンゼン、トルエン等
の芳香族炭化水素類等が挙げられ、塩基としては、水素
化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物等が挙
げられる。反応終了後、反応液を水にあけ、生じた結晶
を濾取または有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理
を行い、必要ならばクロマトグラフィー、蒸留、再結晶
等の操作によって精製することにより目的の化合物を得
ることができる。
【０００９】＜製造法ｄ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがアシル基である本発明化合物は、上記製
造法ａで製造される化合物(I-2) を加水分解することに
より製造することができる。本反応は無溶媒または溶媒
中、酸の存在下で行われ、反応温度の範囲は０〜 150
℃、好ましくは20〜80℃であり、反応時間の範囲は0.5
〜12時間であり、反応に供される試剤の量は、化合物(I
-2) １当量に対して酸は0.01〜100 当量である。本反応
に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル類、メタノール、エタノール等のア
ルコール類、蟻酸、酢酸等のカルボン酸、塩酸、硫酸等
の鉱酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられ、酸と
しては、塩酸、硫酸等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸等が挙げられる。
反応終了後、反応液を水にあけ、生じた結晶を濾取また
は有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必
要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作によって
精製することにより目的の化合物を得ることができる。
【００１０】＜製造法ｅ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがヒドロキシアルキル基である本発明化合
物は、上記製造法ｄで製造されるＲがアシル基である本
発明化合物を還元剤を用いて還元することにより製造す
ることができる。本反応は溶媒中で行われ、反応時間の
範囲は -80℃〜40℃、好ましくは 0〜20℃であり、反応
時間の範囲は0.5 〜12時間であり、反応に供される試剤
の量はＲがアシル基である本発明化合物１当量に対して
還元剤は0.25〜２当量である。本反応に用いられる還元
剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウム
アルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が挙
げられ、溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族
炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等
のエーテル類が挙げられる。反応終了後、反応液を水に
あけ、生じた結晶を濾取または有機溶媒抽出および濃縮
等の通常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィ
ー、再結晶等の操作によって精製することにより目的の
化合物を得ることができる。
【００１１】＜製造法ｆ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがアシルオキシアルキル基である本発明化
合物は、上記製造法ｅで製造されるＲがヒドロキシアル
キル基である本発明化合物と一般式 Ｒ6 Ｇ (V) 〔式中、Ｒ6 はアシル基を表わし、Ｇは塩素原子または
臭素原子を表わす。〕で示される化合物または一般式 （Ｒ6 ）2 Ｏ (VI) 〔式中、Ｒ6 は前記と同じ意味を表わす。〕で示される
化合物とを反応させることにより製造することができ
る。本反応は無溶媒または溶媒中、塩基の存在下で行わ
れ、反応温度の範囲は０〜40℃、好ましくは 5〜30℃で
あり、反応時間の範囲は0.5 〜24時間であり、反応に供
される試剤の量はＲがヒドロキシアルキル基である本発
明化合物１当量に対して化合物(V) または(VI)は１〜５
当量であり、塩基は１〜 100当量である。本反応に用い
られる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等のエーテル類、トリエチルアミン、ピリジン等
の３級アミン類等が挙げられ、塩基としては、ピリジ
ン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン等
の３級アミン類、水素化ナトリウム等の金属水素化物等
が挙げられる。反応終了後、反応液を水にあけ、生じた
結晶を濾取または有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後
処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等
の操作によって精製することにより目的の化合物を得る
ことができる。
【００１２】＜製造法ｇ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがヒドロキシイミノアルキル基またはアル
コキシイミノアルキル基である本発明化合物は、上記製
造法ｄで製造されるＲがアシル基である本発明化合物と
一般式 ＮＨ2 ＯＲ7 (VII) 〔式中、Ｒ7 は水素原子またはアルキル基を表わす。〕
で示される化合物の塩酸塩または硫酸塩とを反応させる
ことにより製造することができる。本反応は溶媒中、塩
基の存在下で行われ、反応温度の範囲は０〜 100℃、好
ましくは20〜60℃であり、反応時間の範囲は0.5 〜12時
間であり、反応に供される試剤の量はＲがアシル基であ
る本発明化合物１当量に対して化合物(VII) の塩酸塩ま
たは硫酸塩は１〜５当量であり、塩基は１〜10当量であ
る。本反応に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノ
ール等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
等のアミド類、水等あるいはそれらの混合物が挙げら
れ、塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の
金属炭酸塩類、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の金属
酢酸塩類、トリエチルアミン、ジメチルアミン等のアミ
ン類等が挙げられる。反応終了後、反応液を水にあけ、
生じた結晶を濾取または有機溶媒抽出および濃縮等の通
常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再
結晶等の操作によって精製することにより目的の化合物
を得ることができる。
【００１３】＜製造法ｈ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがシアノ基である本発明化合物は、上記製
造法ｇで製造されるＲがヒドロキシイミノメチル基であ
る本発明化合物を脱水することにより製造することがで
きる。本反応は溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜
200℃、好ましくは80〜 150℃であり、反応時間の範囲
は0.5 〜24時間である。本反応に用いられる溶媒として
は、エタノール、プロパノール等のアルコール類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン等の硫黄化合物、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。反応終了
後、反応液を水にあけ、生じた結晶を濾取または有機溶
媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならば
クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製する
ことにより目的の化合物を得ることができる。
【００１４】＜製造法ｉ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがヒドラゾノアルキル基、アルキルヒドラ
ゾノアルキル基またはフェニルヒドラゾノアルキル基
（ただし、該フェニルはアルキル基、アルコキシ基、ハ
ロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基またはチオアルキル基で置換されていて
もよい。）である本発明化合物は、上記製造法ｄで製造
されるＲがアシル基である本発明化合物と一般式 ＮＨ2 ＮＲ8 Ｒ9 (VIII) 〔式中、Ｒ8 またはＲ9 互いに同一または相異なり、水
素原子、アルキル基またはフェニル基（ただし、該フェ
ニルはアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基、ハ
ロアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基ま
たはチオアルキル基で置換されていてもよい。）を表わ
す。〕で示される化合物とを反応させることにより製造
することができる。本反応は溶媒中で行われ、反応温度
の範囲は０〜 150℃、好ましくは20〜80℃であり、反応
時間の範囲は0.5 〜24時間であり、反応に供される試剤
の量は、Ｒがアシル基である本発明化合物１当量に対し
て化合物(VIII)は１〜10当量である。本反応に用いられ
る溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類、メタノール、エタノール等のアルコール
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、水等が
挙げられる。反応終了後、反応液を水にあけ、生じた結
晶を濾取または有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処
理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の
操作によって精製することにより目的の化合物を得るこ
とができる。
【００１５】＜製造法ｊ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがアルコキシアルキル基またはアルコキシ
アルコキシアルキル基である本発明化合物は、上記製造
法ｅで製造されるＲがヒドロキシアルキル基である本発
明化合物と一般式 Ｒ10Ｊ (IX) 〔式中、Ｒ10はアルキル基またはアルコキシアルキル基
を表わし、Ｊはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ
基またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表わす。〕
で示される化合物とを反応させることにより製造するこ
とができる。本反応は溶媒中、塩基の存在下で行われ、
反応温度の範囲は０〜 150℃、好ましくは 5〜50℃であ
り、反応時間の範囲は0.5 〜24時間であり、反応に供さ
れる試剤の量はＲがヒドロキシアルキル基である本発明
化合物１当量に対して化合物(IX)は１〜10当量であり、
塩基は１〜５当量である。本反応に用いられる溶媒とし
ては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類等が挙げら
れ、塩基としては、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等
が挙げられる。反応終了後、反応液を水にあけ、生じた
結晶を濾取または有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後
処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等
の操作によって精製することにより目的の化合物を得る
ことができる。
【００１６】＜製造法ｋ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがカルボキシル基である本発明化合物は、
上記製造法ａで製造される化合物(I-3) を加水分解する
ことにより製造することができる。本反応は無溶媒また
は溶媒中、酸の存在下で行われ、反応温度の範囲は０〜
150℃、好ましくは20〜80℃であり、反応時間の範囲は
0.5 〜12時間であり、反応に供される試剤の量は、化合
物(I-3) １当量に対して酸は0.01〜100 当量である。本
反応に用いられる溶媒としては、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール等
のアルコール類、蟻酸、酢酸等のカルボン酸、塩酸、硫
酸等の鉱酸、水等あるいはそれらの混合物が挙げられ、
酸としては、塩酸、硫酸等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、メタンスルホン酸等のスルホン酸等が挙げられ
る。反応終了後、反応液を水にあけ、生じた結晶を濾取
または有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行
い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操作に
よって精製することにより目的の化合物を得ることがで
きる。
【００１７】＜製造法ｌ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがカルボキシル基である本発明化合物は、
上記製造法ｄで製造されるＲがホルミル基である本発明
化合物を酸化剤を用いて酸化することにより製造するこ
ともできる。本反応は溶媒中で行われ、反応温度の範囲
は -80〜 100℃、好ましくは 0〜50℃であり、反応時間
の範囲は0.5 〜12時間であり、反応に供される試剤の量
はＲがホルミル基である本発明化合物１当量に対して酸
化剤は 0.5〜100 当量である。本反応に用いられる酸化
剤としては、過マンガン酸カリウム等のマンガン化合
物、三酸化クロム等のクロム酸化合物、酸素等が挙げら
れ、溶媒としては、アセトン等のケトン類、蟻酸、酢酸
等のカルボン酸、ジクロロメタン、クロロホルム等のハ
ロゲン化炭化水素類、水等あるいはそれらの混合物が挙
げられる。反応終了後、反応液を水にあけ、生じた結晶
を濾取または有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理
を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することにより目的の化合物を得ること
ができる。
【００１８】＜製造法ｍ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがアルコキシカルボニル基である本発明化
合物は、上記製造法ｋまたはｌで製造されるＲがカルボ
キシル基である本発明化合物と一般式 Ｒ11ＯＨ (X) 〔式中、Ｒ11はアルキル基を表わす。〕で示される化合
物とを反応させることにより製造することができる。本
反応は無溶媒または溶媒中、酸の存在下で行われ、反応
温度の範囲は20〜 200℃、好ましくは60〜 120℃であ
り、反応時間の範囲は0.5 〜24時間であり、反応に供さ
れる試剤の量はＲがカルボキシル基である本発明化合物
１当量に対して化合物(X) は１〜 100当量であり、酸は
0.001〜 0.5当量である。本反応に用いられる酸として
は、硫酸、塩酸等の鉱酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の
スルホン酸等が挙げられ、溶媒としては、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン等のエーテル類等が挙げられる。反応終了後、
反応液を水にあけ、生じた結晶を濾取または有機溶媒抽
出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロ
マトグラフィー、再結晶等の操作によって精製すること
により目的の化合物を得ることができる。
【００１９】＜製造法ｎ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがアミノカルボニル基、アルキルアミノカ
ルボニル基またはフェニルアミノカルボニル基（ただ
し、該フェニルはアルキル基、アルコキシ基、ハロアル
キル基、ハロアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、
シアノ基またはチオアルキル基で置換されていてもよ
い。）である本発明化合物は、上記製造法ｋまたはｌで
製造されるＲがカルボキシル基である本発明化合物と塩
化チオニルとを反応させ（第１工程）、次に、一般式 Ｒ8 Ｒ9 ＮＨ (XI) 〔式中、Ｒ8 およびＲ9 は前記と同じ意味を表わす。〕
で示される化合物とを反応させる（第２工程）ことによ
り製造することができる。第１工程は無溶媒または溶媒
中で行われ、反応温度の範囲は０〜 100℃、好ましくは
20〜70℃であり、反応時間の範囲は 0.5〜12時間であ
り、反応に供される試剤の量はＲがカルボキシル基であ
る本発明化合物１当量に対して塩化チオニルは１〜 100
当量である。第１工程で用いられる溶媒としては、ジク
ロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類等が挙げら
れる。反応終了後、必要に応じて溶媒および過剰の塩化
チオニルを留去することにより残渣を得、これはそのま
ま第２工程に用いることができる。
【００２０】第２工程は無溶媒または溶媒中で行われ、
反応温度の範囲は０〜 100℃、好ましくは５〜40℃であ
り、反応時間の範囲は 0.5〜12時間であり、反応に供さ
れる試剤の量は第１工程で用いられたＲがカルボキシル
基である本発明化合物１当量に対して化合物(XI)は１〜
100当量である。第２工程で用いられる溶媒としては、
ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類等が挙
げられる。反応終了後、反応液を水にあけ、生じた結晶
を濾取または有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理
を行い、必要ならばクロマトグラフィー、再結晶等の操
作によって精製することにより目的の化合物を得ること
ができる。
【００２１】＜製造法ｏ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒが１−ヒドロキシエチル基である本発明化
合物は、上記製造法ｄで製造されるＲがホルミル基であ
る本発明化合物とメチルマグネシウムブロミドとをテト
ラヒドロフラン中、−80℃〜室温の温度範囲で１〜２時
間反応させることにより製造することができる。
【００２２】＜製造法ｐ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがアセチル基である本発明化合物は、上記
製造法ｅまたはｏで製造されるＲが１−ヒドロキシエチ
ル基である本発明化合物を−５℃〜室温の温度範囲でジ
ョーンズ試薬（三酸化クロム、硫酸および水の混合溶
液）で酸化することにより製造することができる。
【００２３】＜製造法ｑ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがメトキシカルボニル基である本発明化合
物は、上記製造法ｋまたはｌで製造されるＲがカルボキ
シル基である本発明化合物とジアゾメタンとをメタノー
ル中、０〜５℃の温度範囲で反応させることにより製造
することができる。
【００２４】＜製造法ｒ＞一般式（Ｉ）で示される化合
物の中で、Ｒがシアノ基であり、Ｚがメチル基である本
発明化合物は、上記製造法ｄで示されるＲがホルミル基
であり、Ｚがメチル基である本発明化合物とヒドロキシ
アミン塩酸塩とをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中、３
時間還流することにより製造することができる。
【００２５】尚、化合物(II)は、特願平3-241449号明細
書に記載の方法に基づいて以下の経路で製造することが
できる。
【００２６】
【化７】 〔式中、Ａ、Ｘ、Ｙ、Ｒ1 およびＲ2 は前記と同じ意味
を表わす。〕
【００２７】化合物(i) →化合物(ii)の製造法 化合物(ii)は化合物(i) を無溶媒または溶媒中、 100〜
300 ℃好ましくは 150〜250 ℃の範囲で２〜100 時間加
熱することにより製造することができる。溶媒として
は、トルエン、キシレン、メシチレン、テトラリン等の
芳香族炭化水素類、ジエチルアニリン等の三級アミン類
等、あるいはそれらの混合物があげられる。反応終了
後、反応液は有機溶媒抽出および濃縮等の通常の後処理
を行い、必要ならばクロマトグラフィー、蒸留、再結晶
等の操作によって精製することにより、目的化合物(ii)
を得ることができる。
【００２８】尚、化合物(i) はその対応するフェノール
誘導体から、ＥＰ61741 Ｂ号公報に記載の方法に準じて
製造することができる。
【００２９】化合物(ii)→化合物(iii) の製造法 化合物(iii) は化合物(ii)を酸の存在下で反応させるこ
とにより製造することができる。この反応は、無溶媒ま
たは溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜100 ℃、好
ましくは５〜80℃であり、反応時間の範囲は 0.5〜24時
間であり、反応に供される試剤の量は化合物(ii)１当量
に対して酸は 1.1〜100 当量である。酸としては、塩
酸、硫酸、ポリりん酸等の無機酸、ｐ−トルエンスルホ
ン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸、
ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸等が挙げ
られる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、塩酸、硫酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、
水等あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了
後、反応液を水にあけ生じた結晶を濾取、または有機溶
媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならば
クロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の操作によって精
製することにより、目的化合物(iii) を得ることができ
る。
【００３０】化合物(iii) →化合物(iv)の製造法 化合物(iv)は化合物(iii) をクロロ炭酸メチルと反応さ
せることにより製造することができる。この反応は、通
常、溶媒中、塩基の存在下で行われ、反応温度の範囲は
０〜120 ℃、好ましくは20〜80℃であり、反応時間の範
囲は 0.5〜５時間であり、反応に供される試剤の量は化
合物(iii) １当量に対してクロロ炭酸メチルは１〜２当
量、塩基は１〜1.5 当量である。塩基としては、トリエ
チルアミン、ピリジン、ジエチルアニリン等の有機塩
基、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基等が
挙げられる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン等の芳
香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合
物等、あるいはそれらの混合物が挙げられる。反応終了
後、反応液を水にあけ生じた結晶を濾取、または有機溶
媒抽出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならば
クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製する
ことにより目的化合物(iv)を得ることができる。
【００３１】化合物(iii) →化合物（ｖ）の製造法 化合物（ｖ）は化合物(iii) とホスゲンとを反応させる
ことにより製造することができる。この反応は、通常、
溶媒中で行われ、反応温度の範囲は０〜120 ℃、好まし
くは20〜100 ℃であり、反応時間の範囲は 0.5〜12時間
であり、反応に供される試剤の量は化合物(iii) １当量
に対してホスゲンは２〜10当量である。溶媒としては、
ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類等あるいはそれらの混合
物が挙げられる。反応終了後、反応液から溶媒および過
剰のホスゲンを留去し、必要ならば、蒸留、再結晶等の
操作によって精製することにより目的化合物（ｖ）を得
ることができる。
【００３２】化合物(iv)→(vi)で示される化合物の製造
法 化合物(vi)は化合物(iv)と一般式 Ｙ（ＮＨ2 ）Ｃ＝ＣＨＣＯ2 Ｃ2 Ｈ5 （vii) 〔式中、Ｙは前記と同じ意味を表わす。〕で示される化
合物とを反応させることにより製造することができる。
この反応は、通常、溶媒中、塩基の存在下で行われ、反
応温度の範囲は０〜150 ℃、好ましくは80〜120 ℃であ
り、反応時間の範囲は 0.5〜10時間であり、反応に供さ
れる試剤の量は化合物(iv)１当量に対して化合物(vii)
は１〜10当量、塩基は１〜10当量である。塩基として
は、水素化カリウム、水素化ナトリウム等が挙げられ
る。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化
水素類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジ
エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド
類、ジメチルスルホキシド等の硫黄化合物等あるいはそ
れらの混合物等が挙げられる。反応終了後、反応液を希
酸または水にあけ、生じた結晶を濾取または有機溶媒抽
出および濃縮等の通常の後処理を行い、必要ならばクロ
マトグラフィー、蒸留、再結晶等の操作によって精製す
ることにより、目的化合物(vi)を得ることができる。
【００３３】化合物（ｖ）→化合物(vi)の製造法 化合物(vi)は、化合物（ｖ）と化合物(vii) を反応させ
ることにより製造することもできる。この反応は、通
常、溶媒中、塩基の存在下で行われ、反応温度の範囲は
０〜60℃、好ましくは５〜30℃であり、反応時間は 0.5
〜10時間であり、反応に供される試剤の量は化合物
（ｖ）１当量に対して化合物(vii) は１〜1.5 当量、塩
基は１〜1.5 当量である。塩基としては、水素化ナトウ
ム、水素化カリウム等が挙げられる。溶媒としては、ヘ
キサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキ
シド等の硫黄化合物等、あるいはそれらの混合物が挙げ
られる。反応終了後、反応液を希酸あるいは水にあけ、
生じた結晶を濾取または有機溶媒抽出および濃縮等の通
常の後処理を行い、必要ならばクロマトグラフィー、蒸
留、再結晶などの操作によって精製することにより目的
化合物(vi)を得ることができる。
【００３４】化合物(vi)→化合物(II)の製造法 化合物(II)は、化合物(vi)と一般式 ＣＨ3 −Ｄ (viii) 〔式中、Ｄは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはメ
タンスルホニルオキシ基を表わす。〕で示される化合物
または、一般式 ＮＨ2 −Ｅ (ix) 〔式中、Ｅはメタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエン
スルホニルオキシ基または２，４−ジニトロフェノキシ
基を表わす。〕で示される化合物とを反応させることに
より製造することができる。この反応は、通常、溶媒
中、塩基の存在下で行い、反応温度の範囲は０〜100℃
であり、反応時間の範囲は 0.5〜10時間であり、反応に
供される化合物の量は、化合物(vi)１当量に対して化合
物(viii)または化合物(ix)は１〜10当量、塩基は１〜1.
5 当量である。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン等の
脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、クロロホルム、四塩化炭素等のハロ
ゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルイ
ソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル
類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド類、ジメ
チルスルホキシド等の硫黄化合物等、あるいはそれらの
混合物が挙げられる。塩基としては、水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム等の無機塩基、ナトリウムエトキシ
ド、ナトリウムメトキシド等アルカリ金属アルコキシド
等が挙げられる。反応終了後、反応液を水にあけ生じた
結晶を濾取、または有機溶媒抽出および濃縮等の通常の
後処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、再結
晶等の操作によって精製することにより、目的の化合物
を得ることができる。
【００３５】本発明化合物は、優れた除草効力を有し、
かつ作物・雑草間に優れた選択性を示す。すなわち本発
明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理において、
問題となる種々の雑草に対して除草効力を有する。ま
た、本発明化合物は、水田の湛水処理において、問題と
なる種々の雑草に対して除草効力を有する。
【００３６】本発明化合物によって防除できる雑草とし
ては、例えば、ソバカズラ、サナエタデ、スベリヒユ、
ハコベ、シロザ、アオゲイトウ、ダイコン、ノハラガラ
シ、ナズナ、アメリカツノクサネム、エビスグサ、イチ
ビ、アメリカキンゴジカ、フィールドパンジー、ヤエム
グラ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、セイヨウヒ
ルガオ、ヒメオドリコソウ、ホトケノザ、シロバナチョ
ウセンアサガオ、イヌホオズキ、オオイヌノフグリ、オ
ナモミ、ヒマワリ、イヌカミツレ、コーンマリーゴール
ド、トウダイグサ、オオニシキソウ等の広葉雑草、ヒ
エ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカタ
ビラ、ノスズメノテッポウ、エンバク、カラスムギ、セ
イバンモロコシ、シバムギ、ウマノチャヒキ、ギョウギ
シバ、アキノエノコログサ等のイネ科雑草およびツユク
サ等のツユクサ科雑草、コゴメガヤツリ、ハマスゲ等の
カヤツリグサ科雑草に対して除草効力を有し、しかも、
本発明化合物中のあるものは、トウモロコシ、コムギ、
オオムギ、イネ、ダイズ、ワタ等の主要作物に対して問
題となるような薬害を示さない。特に、Ｒがカルボキシ
ル基およびアルコキシカルボニル基である本発明化合物
は、畑土壌処理においてトウモロコシとアサガオ、イチ
ビ、イヌホオズキ等の雑草との間で、また、コムギとオ
オイヌノフグリ、ソバカズラ、ヤエムグラ等の雑草との
間で優れた選択性を示す。また、Ｒがヒドロキシアルキ
ル基、アシルオキシアルキル基およびアルコキシアルキ
ル基である本発明化合物は、畑土壌処理においてワタと
アサガオ、イヌホオズキ、アキノエノコログサ等の雑草
との間で優れた選択性を示す。
【００３７】本発明化合物中のあるものは、水田の湛水
処理において問題となる種々の雑草、例えば、タイヌビ
エ等のイネ科雑草、アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ等
の広葉雑草、タマガヤツリ、ホタルイ、マツバイ、ミズ
ガヤツリ等のカヤツリグサ科雑草、コナギ、ウリカワ等
に対して除草効力を有し、しかも、イネに対しては問題
となるような薬害を示さない。
【００３８】本発明化合物を除草剤の有効成分として用
いる場合は、通常、固体担体、液体担体、界面活性剤そ
の他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁
剤、粒剤、顆粒水和剤等に製剤する。これらの製剤に
は、有効成分として本発明化合物を重量比で 0.001〜80
％、好ましくは 0.003〜70％含有する。
【００３９】固体担体としては、カオリンクレー、アッ
タパルジャイトクレー、ベントナイト、酸性白土、パイ
ロフィライト、タルク、珪藻土、方解石、クルミ殻粉、
尿素、硫酸アンモニウム、合成含水酸化珪素等の微粉末
あるいは粒状物が挙げられ、液体担体としては、キシレ
ン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、イソプロ
パノール、エチレングリコール、セロソルブ等のアルコ
ール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等の
ケトン類、大豆油、綿実油等の植物油、ジメチルスルホ
キシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリ
ル、水等が挙げられる。
【００４０】乳化、分散、湿展等のために用いられる界
面活性剤としては、アルキル硫酸エステル塩、アルキル
スルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアル
キルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルア
リールエーテルリン酸エステル塩等の陰イオン界面活性
剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシ
エチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレ
ンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタ
ン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸エステル等の非イオン界面活性剤等が挙げられる。
【００４１】その他の製剤用補助剤としては、リグニン
スルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、
アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロー
ス）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）等が挙げられ
る。
【００４２】本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出
芽前または出芽後に土壌処理、茎葉処理、または湛水処
理する。土壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等
があり、茎葉処理には、植物体の上方からの処理のほ
か、作物に付着しないよう雑草にかぎって処理する局部
処理等がある。また他の除草剤と混合して用いることに
より、除草効力の増強を期待できる。更に、殺虫剤、殺
ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土
壌改良剤等と混合して用いることもできる。なお、本発
明化合物は、水田、畑地、果樹園、牧草地、芝生地、森
林あるいは非農耕地用除草剤の有効成分として用いるこ
とができる。さらに、本発明化合物は、ワタ、ジャガイ
モ等の落葉剤、乾燥剤等の収穫補助剤の有効成分として
用いることもできる。
【００４３】本発明化合物を除草剤の有効成分として用
いる場合、その処理量は、気象条件、製剤形態、処理時
期、方法、場所、対象作物、対象雑草等によっても異な
るが、通常１アール当たり 0.001〜80ｇ、好ましくは、
0.01〜20ｇであり、乳剤、水和剤、懸濁剤等は、通常そ
の所定量を１アール当たり１リットル〜10リットルの
（必要ならば、展着剤等を添加した）水で希釈して処理
し、粒剤等は通常何ら希釈することなくそのまま処理す
る。展着剤としては、前記の界面活性剤の他、ポリオキ
シエチレン樹脂酸（エステル）、リグニンスルホン酸、
アビエチン酸、ジナフチルメタンジスルホン酸、パラフ
ィン等が挙げられる。
【００４４】
【実施例】以下、本発明化合物の製造例、製剤例および
試験例を挙げて本発明を詳しく説明するが、本発明はこ
れらの実施例に限定されるものではない。
【００４５】製造例１ （化合物(32)、(33)、(34)の製
造) Ｎ−ブロモコハク酸イミド28.4g 、α, α' −アゾビス
イソブチロニトリル0.1gおよび過酸化ベンゾイル0.1gを
四塩化炭素200ml に懸濁させた溶液を80℃に加熱し、そ
こに、１−（７−クロロ−５−フルオロ−２−メチルベ
ンゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフ
ルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,
6 −ジオン10.0g を四塩化炭素50mlに溶解させた溶液を
１時間かけて滴下し、24時間還流した。反応終了後、反
応液を室温まで冷却し、沈殿を濾別し、クロロホルムで
洗浄し、濾液および洗液を合わせて濃縮した。得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー (展開溶媒；ヘキ
サン：酢酸エチル＝４：１）で分離精製し、化合物(32)
3.4g、化合物(33)8.8gおよび化合物(34)1.1gを得た。 化合物(32) ： m.p. 174〜176 ℃1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕3.53(3H,
s)、4.47（2H,s) 、6.32(1H,s)、6.56(1H,s)、7.21(1H,
d,J=10Hz) 化合物(33) ： 1Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl
3 〕3.53(3H,s)、6.32（1H,s) 、6.58(1H,s)、6.74(1H,
s)、7.25(1H,d,J=10Hz) 化合物(34) ： 1Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl
3 〕3.57(3H,s)、6.36（1H,s) 、6.97(1H,s), 7.32(1H,
d,J=10Hz)
【００４６】製造例２ （化合物(1) の製造) １−（７−クロロ−２−ジブロモメチル−５−フルオロ
ベンゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリ
フルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−
2,6 −ジオン5.3gを濃硫酸20mlに加え、50℃で１時間攪
拌した。反応終了後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチル
200ml で抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗浄し、乾燥、濃縮した。得られた結晶をヘキサン
30mlで洗浄して、化合物(1) 2.9gを得た。 m.p. 204〜207 ℃1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz, CDCl3 〕: 3.58(3H,
s)、6.37(1H,s)、7.33(1H,s) 、7.44(1H,d,J=10Hz) 、
9.88(1H,s)
【００４７】製造例３ （化合物(2) の製造) １−（７−クロロ−５−フルオロ−２−トリブロモメチ
ルベンゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−ト
リフルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン
−2,6 −ジオン0.37g を濃硫酸２mlに加え、45℃で３時
間攪拌した。反応終了後、反応液を氷水にあけ、酢酸エ
チル100ml で抽出し、有機層を水洗し、乾燥、濃縮し、
化合物(2)0.22gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz, DMSO-d6〕: 3.25(3H,
s)、5.5-6.5(1H,br)、6.39(1H,s)、7.68(1H, d, J=10H
z) 、7.78(1H,s)
【００４８】製造例４ （化合物(3) の製造) １−（７−クロロ−５−フルオロ−２−ホルミルベンゾ
[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオ
ロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6 −
ジオン1.1gをテトラヒドロフラン20mlに溶解させた溶液
に、0.94規定のジイソブチルアルミニウムヒドリドヘキ
サン溶液3.1ml を５℃で５分間かけて滴下し、その後室
温で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、
酢酸エチル100ml で抽出し、有機層を水洗し、乾燥、濃
縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製
し、化合物(3) 0.9gを得た。 m.p. 185〜187 ℃1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 3.32(3H,
s) 、4.70(2H,s)、6.33(1H,s)、 6.49(1H,s) 、7.20(1
H,d,J=10Hz) ＩＲ νcm-1 3300 (-OH)
【００４９】製造例５ （化合物(4) の製造) １−（７−クロロ−５−フルオロ−２−ホルミルベンゾ
[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオ
ロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6 −
ジオン0.38g をテトラヒドロフラン10mlに溶解させた溶
液に、1.0 規定のメチルマグネシウムブロミドテトラヒ
ドロフラン溶液1.1ml を−70℃で５分かけて滴下し、そ
の後室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を水に
あけ、酢酸エチル100ml で抽出し、有機層を水洗し、乾
燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で
精製し、化合物(4)0.13gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 1.53(3H,
d,J=6Hz) 、2.5-3.0(1H,br)、3.50(3H,s)、4.86(1H,q,J
=6Hz)、6.26(1H,s)、6.40(1H,s)、7.14(1H,d,J=10Hz)
【００５０】製造例６ （化合物(5) の製造) １−（７−クロロ−５−フルオロ−２−ホルミルベンゾ
[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオ
ロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6 −
ジオン0.49g をエタノール10mlに溶解させた。そこにヒ
ドロキシルアミン塩酸塩0.12g および酢酸ナトリウム0.
15g を水５mlに溶解させた溶液を室温で加えた後、45℃
で３時間攪拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢
酸エチル100ml で抽出し、有機層を水洗、乾燥、濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で精製し、化
合物(5)0.40gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 3.56(3H,
s) 、6.38(1H,s)、6.77(1H,s)、7.24(1H,d,J=10Hz) 、
7.96(1H,s)、8.8-9.3(1H,br)
【００５１】製造例７ （化合物(8) の製造) １−（７−クロロ−５−フルオロ−２−ホルミルベンゾ
[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオ
ロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6 −
ジオン0.51g およびヒドロキシルアミン塩酸塩0.11g を
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド10mlに溶解させ、３時間
還流した。反応終了後、反応液を水にあけ、ジエチルエ
ーテル100ml で抽出し、有機層を水洗、乾燥、濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、化
合物(8)0.11gを得た。 m.p. 180〜182 ℃1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕：3.54(3H,
s)、6.32(1H,s)、7.21(1H,s)、7.39(1H,d,J=10Hz)
【００５２】製造例８ （化合物(11)の製造) １−（７−クロロ−５−フルオロ−２−ヒドロキシメチ
ルベンゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−ト
リフルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン
−2,6 −ジオン0.20g および４−ジメチルアミノピリジ
ン10mgをピリジン２mlに溶解させ、そこに無水酢酸0.06
g を加えた後、室温で２時間攪拌した。反応終了後、反
応液を水にあけ、ジエチルエーテル100ml で抽出し、有
機層を２％塩酸で洗浄し、乾燥、濃縮した。得られた残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、化合物(11)0.22g
を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 2.07(3H,
s) 、3.52(3H,s)、5.10(2H,s)、6.30(1H,s)、6.54(1H,
s)、7.16(1H,d,J=10Hz)
【００５３】製造例９ （化合物(12)の製造) １−〔７−クロロ−５−フルオロ−２−（１−ヒドロキ
シエチル）ベンゾ[b]フラン−４−イル〕−３−メチル
−４−トリフルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピ
リミジン−2,6 −ジオン0.19g をアセトン５mlに溶解さ
せ、そこにジョーンズ試薬（三酸化クロム、硫酸および
水の混合溶液；Organic Synthesis col.Vol.１参照）を
５℃で、三酸化クロムの橙色が消えなくなるまで加え
た。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチル100ml
で抽出し、有機層を水洗し、乾燥、濃縮した。得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキ
サン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、化合物(12)0.11
g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 2.60(3H,
s) 、3.55(3H,s)、6.35(1H,s)、7.22(1H,s)、7.38(1H,
d,J=10Hz)
【００５４】製造例10 （化合物(13)の製造) １−〔７−クロロ−５−フルオロ−２−（１−ヒドロキ
シエチル）ベンゾ[b]フラン−４−イル〕−３−メチル
−４−トリフルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピ
リミジン−2,6 −ジオン0.20g をＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド５mlに溶解させた溶液に、水素化ナトリウム0.
02g を室温で加えた。室温で10分間攪拌した後、ヨウ化
メチル0.5 mlを加え、室温で２時間攪拌した。反応終了
後、反応液を水にあけ、酢酸エチル100ml で抽出し、有
機層を水洗し、乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エ
チル＝２：１）で精製し、化合物(13)0.05g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 1.54(3H,
d,J=6Hz) 、3.34(3H,s), 3.54(3H,s)、4.45(1H,q,J=6H
z)、6.33(1H,s)、6.44(1H,s)、7.17(1H,d,J=10Hz)
【００５５】製造例11 （化合物(14)の製造) １−〔７−クロロ−５−フルオロ−２−（１−ヒドロキ
シエチル）ベンゾ[b]フラン−４−イル〕−３−メチル
−４−トリフルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピ
リミジン−2,6 −ジオン0.20g および４−ジメチルアミ
ノピリジン10mgをピリジン２mlに溶解させた溶液に、無
水酢酸0.06g を加え、その後室温で２時間攪拌した。反
応終了後、反応液を水にあけ、ジエチルエーテル100ml
で抽出し、有機層を２％塩酸で洗浄し、乾燥、濃縮し
た。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展
開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、化
合物(14)0.20g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 1.64(3H,
d,J=6Hz) 、2.05(3H,s)、3.55(3H,s)、6.01(1H,q,J=6H
z)、6.35(1H,s)、6.51(1H,s)、7.21(1H,d,J=10Hz)
【００５６】製造例12 （化合物(16)の製造) １−（２−カルボキシ−７−クロロ−５−フルオロベン
ゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフル
オロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6
−ジオン0.24g をメタノール５mlに溶解させた溶液に、
ニトロソジメチルウレアから調整済みのジアゾメタンの
ジエチルエーテル溶液を、０℃で窒素ガスの発生がなく
なるまで滴下した。反応終了後、反応液を濃縮し、得ら
れた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、化合物(16)
0.21g を得た。 m.p. 184〜186 ℃1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕 : 3.55(3H,
s) 、3.92(3H,s)、6.33(1H,s)、7.30(1H,s)、7.37(1H,
d,J=10Hz)
【００５７】製造例13 （化合物(17)の製造) １−（２−カルボキシ−７−クロロ−５−フルオロベン
ゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフル
オロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6
−ジオン0.22g およびｐ−トルエンスルホン酸１水和物
10mgをエタノール５mlに溶解させ、３時間還流した。反
応終了後、反応液を濃縮し、得られた残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝２：１）で精製し、化合物(17)0.13g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 1.39(3H,
t,J=7Hz) 、3.56(3H,s)、4.40(2H,q,J=7Hz)、6.35(1H,
s)、7.31(1H,s)、7.38(1H,d,J=10Hz)
【００５８】製造例14 （化合物(18)の製造) １−（２−カルボキシ−７−クロロ−５−フルオロベン
ゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフル
オロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6
−ジオン0.20g およびｐ−トルエンスルホン酸１水和物
10mgを２−プロパノール２mlに溶解させ、６時間還流し
た。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、シリカゲル
クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝２：１）で精製し、化合物(18)0.06g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 1.38(6H,
d,J=6Hz) 、3.56(3H,s)、5.25(1H,m)、6.37(1H,s)、7.2
6(1H,s)、7.37(1H,d,J=10Hz)
【００５９】製造例15 （化合物(19)の製造) １−（２−カルボキシ−７−クロロ−５−フルオロベン
ゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフル
オロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6
−ジオン0.10g およびｐ−トルエンスルホン酸１水和物
10mgを１−ペンタノール２mlに溶解させ、100 ℃で１時
間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、シ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢
酸エチル＝２：１）で精製し、化合物(19)0.08g を得
た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 0.92(3H,
t,J=6Hz) 、1.1-1.9(6H,m) 、3.54(3H,s)、4.32(2H,t,J
=6Hz)、6.32(1H,s)、7.25(1H,s)、7.33(1H,d,J=10Hz)
【００６０】製造例16 （化合物(20)の製造) １−（２−カルボキシ−７−クロロ−５−フルオロベン
ゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフル
オロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6
−ジオン0.30g をジクロロメタン５mlに溶解させた溶液
に、塩化チオニル0.13g を室温で滴下した。３時間還流
した後、濃縮し、塩化チオニルを留去した。残渣にジク
ロロメタン５mlを加え、その溶液中に５℃でアンモニア
気流を通しながら、１時間攪拌した。反応終了後、反応
液を水にあけ、酢酸エチル100 mlで抽出し、有機層を水
洗、乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：
１）で精製し、化合物(20)0.06g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 3.56(3H,
s) 、5.8-6.8(2H,br)、6.37(1H,s)、7.32(1H,s)、7.34
(1H,d,J=10Hz)
【００６１】製造例17 （化合物(35),(36),(37)の製
造) Ｎ−ブロモコハク酸イミド10.1g 、α, α' −アゾビス
イソブチロニトリル0.1gおよび過酸化ベンゾイル0.1gを
四塩化炭素150ml に懸濁させ、80℃に加熱した。そこに
１−（5,7 −ジフルオロ−２−メチルベンゾ[b] フラン
−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオロメチル−
1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6 −ジオン4.5g
を四塩化炭素30mlに溶解させた溶液を30分かけて滴下
し、12時間還流した。反応終了後、反応液を水にあけ、
酢酸エチル300 mlで抽出した。有機層を水洗、乾燥、濃
縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
(展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で分離、
精製し、化合物(35)0.85g 、化合物(36)3.0gおよび化合
物(37)0.96g を得た。 化合物(35) ： 1Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl
3 〕 3.60(3H,s) 、4.51(2H,s)、6.39(1H,s)、6.60(1H,
d,J=2Hz)、7.01(1H,t,J=10Hz） 化合物(36) ： 1Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl
3 〕 3.61(3H,s) 、6.41(1H,s)、6.63(1H,s)、6.80(1H,
d,J=2Hz)、7.10(1H,t,J=10Hz） 化合物(37) ： 1Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl
3 〕 3.58(3H,s) 、6.37(1H,s)、7.00(1H,d,J=2Hz)、7.
10(1H,t,J=10Hz)
【００６２】製造例18 （化合物(22)の製造) １−（２−ジブロモメチル−5,7 −ジフルオロベンゾ
[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオ
ロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6 −
ジオン2.3gを濃硫酸８mlに加え、50℃で２時間攪拌し
た。反応終了後、反応液を氷水にあけ、酢酸エチル100
mlで抽出し、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄し、乾燥、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー (展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
２：１）で精製し、化合物(22)1.2gを得た。 m.p. 195〜197 ℃1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 3.60(3H,
s) 、6.41(1H,s)、7.23(1H,t,J=10Hz) 、7.39(1H,d,J=2
Hz)、9.90(1H,s)
【００６３】製造例19 （化合物(23)の製造) 濃硫酸５ml中に、１−（5,7 −ジフルオロ−２−トリブ
ロモメチルベンゾ[b]フラン−４−イル）−３−メチル
−４−トリフルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピ
リミジン−2,6 −ジオン0.64g を濃硫酸５mlに加え、45
℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応液を氷水にあ
け、酢酸エチル100 mlで抽出し、有機層を水洗、乾燥、
濃縮した。得られた残渣をヘキサン20mlで洗浄して、化
合物(23)0.30g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 3.61(3H,
s) 、6.46(1H,s)、7.19(1H,t,J=10Hz) 、7.45(1H,d,J=2
Hz)、8.4-8.6(1H,br)
【００６４】製造例20 （化合物(24)の製造) １−（5,7 −ジフルオロ−２−ホルミルベンゾ[b] フラ
ン−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオロメチル
−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6 −ジオン0.
82g をテトラヒドロフラン20mlに溶解させた溶液に、0.
94規定のジイソブチルアルミニウムヘキサン溶液2.8 ml
を５℃で５分かけて滴下した後、５℃で１時間攪拌し
た。反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチル100 ml
で抽出し、有機層を水洗、、乾燥、濃縮した。得られた
残渣をシリカゲルクロマトグラフィー (展開溶媒；ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：１）を精製し、化合物(24)0.73
g を得た。 m.p. 171〜173 ℃1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 3.35(1H,
t,J,=6Hz)、3.47(3H,s)、4.52(2H,d,J=6Hz)、6.23(1H,
s)、6.37(1H,d,J=2Hz), 6.88(1H,t,J=10Hz)
【００６５】製造例21 （化合物(25)の製造) １−（5,7 −ジフルオロ−２−ホルミルベンゾ[b] フラ
ン−４−イル）−３−メチル−４−トリプルオロメチル
−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6 −ジオン0.
77g をテトラヒドロフラン20mlに溶解させた溶液に、1.
0 規定のメチルマグネシウムブロミドテトラヒドロフラ
ン溶液3.1 mlを−70℃で５分間かけて滴下した後、０℃
で２時間攪拌した。反応終了後、反応液を水にあけ、酢
酸エチル100 mlで抽出し、有機層を水洗し、乾燥、濃縮
した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
(展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）を精製
し、化合物(25)0.52g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 1.57(3H,
d,J,=6Hz)、2.61(1H,d,J=6Hz)、3.59(3H,s)、4.8-5.1(1
H,m) 、6.37(1H,s)、6.47(1H,d,J=2Hz)、6.99(1H,t,J=1
0Hz)
【００６６】製造例22 （化合物(27)の製造） １−（５，７−ジフルオロ−２−ヒドロキシメチルベン
ゾ[b] フラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフル
オロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6
−ジオン0.12ｇおよび４−ジメチルアミノピリジン10mg
をピリジン２mlに溶解させ、そこに無水酢酸0.05ｇを加
えた後、室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を
水にあけ、ジエチルエーテル100ml で抽出し、有機層を
２％塩酸で洗浄し、乾燥、濃縮した。得られた残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢
酸エチル＝２：１）で精製し、化合物(27)0.11ｇを得
た。 1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕：2.07(3H,
s)、3.51(3H,s)、5.10(2H,s)、6.29(1H,s)、6.55(1H,d,
J=2Hz)、6.95(1H,t,J=10Hz)
【００６７】製造例23 （化合物(28)の製造) １−〔5,7 −ジフルオロ−２−（１−ヒドロキシエチ
ル）ベンゾ[b] フラン−４−イル〕−３−メチル−４−
トリフルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジ
ン−2,6 −ジオン0.12g および４−ジメチルアミノピリ
ジン10mgをピリジン２mlに溶解させた溶液に、無水酢酸
0.05g を加えた後、室温で１時間攪拌した。反応終了
後、反応液を水にあけ、ジエチルエーテル100 mlで抽出
し、有機層を２％塩酸で洗浄し、乾燥、濃縮した。得ら
れた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー (展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、化合物(28)
0.13gを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 1.59(3H,
d,J,=6Hz)、2.01(3H,s)、3.51(3H,s)、5.98(1H,q,J=6H
z)、6.32(1H,s)、6.49(1H,d,J=2Hz)、6.95(1H,t,J=10H
z)
【００６８】製造例24 （化合物(29)の製造) １−〔5,7 −ジフルオロ−２−（１−ヒドロキシエチ
ル）ベンゾ[b] フラン−４−イル〕−３−メチル−４−
トリフルオロメチル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジ
ン−2,6 −ジオン0.25g をアセトン５mlに溶解させた溶
液に、ジョーンズ試薬を−５℃で、三酸化クロムの橙色
が消えなくなるまで加えた後、室温で２時間攪拌した。
反応終了後、反応液を水にあけ、酢酸エチル100 mlで抽
出し、有機層を水洗、乾燥、濃縮した。得られた残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー (展開溶媒；ヘキサン：
酢酸エチル＝２：１）で精製し、化合物(29)0.20g を得
た。 1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 2.61(3H,
s) 、3.57(3H,s)、6.37(1H,s)、7.15(1H,t,J,=10Hz)、
7.25(1H,d,J=2Hz)
【００６９】製造例25 （化合物(30)の製造) １−（２−カルボキシ−5,7 −ジフルオロベンゾ[b] フ
ラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオロメチ
ル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6−ジオン
0.15g をメタノール２mlに溶解させた溶液に、ニトロソ
ジメチルウレアから調整済みのジアゾメタンのジエチル
エーテル溶液を、窒素ガスの発生がなくなるまで５℃で
滴下した。反応終了後、反応液を濃縮し、得られた残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー (展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、化合物(30)0.13g
を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 3.57(3H,
s) 、3.94(3H,s)、6.36(1H,s)、7.12(1H,t,J,=10Hz)、
7.31(1H,d,J=2Hz)
【００７０】製造例26 （化合物(31)の製造) １−（２−カルボキシ−5,7 −ジフルオロベンゾ[b] フ
ラン−４−イル）−３−メチル−４−トリフルオロメチ
ル−1,2,3,6 −テトラヒドロピリミジン−2,6−ジオン
0.10g およびｐ−トルエンスルホン酸１水和物10mgを１
−ペンタノール１mlに溶解させ、100 ℃で１時間攪拌し
た。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、シリカゲル
クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝２：１）で精製し、化合物(31)0.10g を得た。1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕： 0.91(3H,
t,J=6Hz) 、1.0-2.0(6H,m) 、3.53(3H,s)、4.32(2H,t,J
=6Hz)、6.32(1H,s)、7.08(1H,t,J=10Hz) 、7.24(1H,d,J
=2Hz) 上記の製造例に準じて製造された本発明化合物を表１、
表２および表３に示す。
【００７１】
【表１】
【００７２】
【表２】
【００７３】
【表３】
【００７４】＜ＮＭＲデータ＞ 化合物(21)1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕：3.02(6H,
s)、3.51(3H,s)、6.30(1H,s)、6.47(1H,s)、6.93(1H,
s)、7.04(1H,d,J=10Hz) 化合物(26)1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕：3.42(3H,
s)、3.56(3H,s)、4.52(2H,s)、6.36(1H,s)、6.51(1H,d,
J=2Hz)、7.01(1H,t,J=10Hz) 化合物(41)1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕：3.0-3.4(1
H,br)、3.60(3H,s)、4.65(2H,br) 、6.24(1H,s)、6.48
(1H,s)、7.19(1H,d,J=10Hz) 化合物(42)1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕：2.06(3H,
s)、3.62(3H,s)、5.20(2H,s)、6.36(1H,s)、6.70(1H,
s)、7.33(1H,d,J=10Hz) 化合物(43)1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕：3.57(3H,
s)、3.94(3H,s)、6.35(1H,s)、7.29(1H,s)、7.60(1H,s) 化合物(45)1 Ｈ−ＮＭＲ δ(ppm) 〔60MHz , CDCl3 〕：2.06(3H,
s)、3.50(3H,s)、5.07(2H,s)、6.26(1H,s)、6.49(1H,
s)、7.38(1H,s)
【００７５】次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は
表１、表２、表３の化合物番号で示す。部は重量部であ
る。 製剤例１ 本発明化合物 (1)〜(18), (20)〜(25), (28)〜(30)、各
々50部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル
硫酸ナトリウム２部および合成含水酸化珪素45部をよく
粉砕混合して各々水和剤を得る。 製剤例２ 本発明化合物 (1)〜(31)、各々５部、ポリオキシエチレ
ンスチリルフェニルエーテル14部、ドデシルベンゼンス
ルホン酸カルシウム６部、キシレン25部およびシクロヘ
キサノン50部をよく混合して各々乳剤を得る。
【００７６】製剤例３ 本発明化合物 (1)〜(31)、各々２部、合成含水酸化珪素
１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイ
ト30部およびカオリンクレー65部をよく粉砕混合し、水
を加えてよく練り合わせた後、造粒乾燥して各々粒剤を
得る。 製剤例４ 本発明化合物 (1)〜(18), (20)〜(25), (28)〜(30)、各
々25部、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート
３部、ＣＭＣ３部、水69部を混合し、粒度が５ミクロン
以下になるまで湿式粉砕して各々懸濁剤を得る。
【００７７】次に、試験例を示す。なお、本発明化合物
は表１、表２、表３の化合物番号で示し、比較対照に用
いた化合物は表４の化合物記号で示す。
【００７８】
【表４】
【００７９】また、除草効力および薬害の評価は、調査
時の供試植物（雑草および作物）の出芽および生育の状
態が無処理のそれと比較して全くないしほとんど違いが
ないものを「０」とし、供試植物が完全枯死または出芽
若しくは生育が完全に抑制されているものを「５」とし
て、０〜５の６段階に区分し０、１、２、３、４、５で
示す。
【００８０】試験例１ 畑地土壌表面処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに畑地
土壌を詰め、ヒエ、マルバアサガオ、イチビを播種し、
覆土した。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、そ
の所定量を１アールあたり10リットル相当の水で希釈
し、小型噴霧器で土壌表面全面に均一に処理した。処理
後19日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その結
果を表５および表６に示す。
【００８１】
【表５】
【表６】
【００８２】試験例２ 畑地茎葉処理試験 直径10cm、深さ10cmの円筒型プラスチックポットに畑地
土壌を詰め、ヒエ、ダイコン、マルバアサガオ、イチビ
を播種し、温室内で７日間育成した。その後、製剤例２
に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１アール
あたり10リットル相当の展着剤を含む水で希釈し、小型
噴霧器で植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理し
た。処理後19日間温室内で育成し、除草効力を調査し
た。その結果を表７および表８に示す。
【００８３】
【表７】
【表８】
【００８４】試験例３ 水田湛水処理試験 直径８cm、深さ12cmの円筒型プラスチックポットに水田
土壌を詰め、タイヌビエの種子を１〜２cmの深さに混ぜ
込んだ。湛水して水田状態にした後、２葉期のイネを移
植し、温室内で育成した。５日後（各雑草の発生初期）
に製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量
を2.5 ミリリットルの水で希釈し、水面に処理した。処
理後19日間温室内で育成し、除草効力および薬害を調査
した。その結果を表９に示す。
【００８５】
【表９】
【００８６】試験例４ 畑地土壌処理試験 面積33×23cm2 、深さ11cmのバットに畑地土壌を詰め、
トウモロコシ、イヌホオズキ、アキノエノコログサ、セ
イバンモロコシを播種し、１〜２cmの厚さに覆土した。
製剤例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を
１アールあたり10リットル相当の水で希釈し、小型噴霧
器で土壌表面全面に均一に処理した。処理後18日間温室
内で育成し、除草効力および薬害を調査した。その結果
を表１０に示す。
【００８７】
【表１０】
【００８８】試験例５ 畑地土壌処理試験 面積33×23cm2 、深さ11cmのバットに畑地土壌を詰め、
トウモロコシ、マルバアサガオ、イチビ、イヌホオズキ
を播種し、１〜２cmの厚さに覆土した。製剤例２に準じ
て供試化合物を乳剤にし、その所定量を１アールあたり
10リットル相当の水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面全
面に均一に処理した。処理後18日間温室内で育成し、除
草効力および薬害を調査した。その結果を表１１に示
す。
【００８９】
【表１１】
【００９０】試験例６ 畑地土壌処理試験 面積33×23cm2 、深さ11cmのバットに畑地土壌を詰め、
ワタ、マルバアサガオ、イヌホオズキ、アキノエノコロ
グサを播種し、１〜２cmの厚さに覆土した。製剤例２に
準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１アールあ
たり10リットル相当の水で希釈し、小型噴霧器で土壌表
面全面に均一に処理した。処理後18日間温室内で育成
し、除草効力および薬害を調査した。その結果を表１２
および表１３に示す。
【００９１】
【表１２】
【表１３】
【００９２】試験例７ 畑地茎葉処理試験 面積33×23cm2 、深さ11cmのバットに畑地土壌を詰め、
トウモロコシ、マルバアサガオ、イチビ、イヌホオズ
キ、オナモミを播種し、16日間育成した。その後、製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ア
ールあたり10リットル相当の水で希釈し、小型噴霧器で
植物体の上方から茎葉部全面に均一に処理した。このと
き雑草および作物の生育状況は草種により異なるが、
0.5〜４葉期で、草丈は５〜30cmであった。処理18日後
に除草効力および薬害を調査した。その結果を表１４お
よび表１５に示す。なお、本試験は、全期間を通して温
室内で行った。
【００９３】
【表１４】
【表１５】
【００９４】試験例８ 畑地土壌処理試験 面積33×23cm2 、深さ11cmのバットに畑地土壌を詰め、
コムギ、オオムギ、オオイヌノフグリ、ソバカズラ、ヤ
エムグラを播種し、１〜２cmの厚さに覆土した。製剤例
２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１アー
ルあたり10リットル相当の水で希釈し、小型噴霧器で土
壌表面全面に均一に処理した。処理後25日間温室内で育
成し、除草効力および薬害を調査した。その結果を表16
に示す。
【００９５】
【表１６】
【００９６】試験例９ 畑地茎葉処理試験 面積33×23cm2 、深さ11cmのバットに畑地土壌を詰め、
コムギ、オオイヌノフグリ、ソバカズラ、ヤエムグラを
播種し、29日間育成した。その後、製剤例２に準じて供
試化合物を乳剤にし、その所定量を１アールあたり10リ
ットル相当の水で希釈し、小型噴霧器で植物体の上方か
ら茎葉部全面に均一に処理した。このとき雑草および作
物の生育状況は草種により異なるが、１〜４葉期で、草
丈は３〜25cmであった。処理25日後に除草効力および薬
害を調査した。その結果を表17に示す。なお、本試験
は、全期間を通して温室内で行った。
【００９７】
【表１７】
【００９８】
【発明の効果】本発明化合物は、畑地の土壌処理および
茎葉処理、更に水田の湛水処理において問題となる種々
の雑草に対して優れた除草効力を有し、主要作物と雑草
間において優れた選択性を示すことから除草剤の有効成
分として種々の用途に用いることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 榊 正治 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 佐藤 良 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 永野 栄喜 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ａは水素原子、フッ素原子または塩素原子を表
    わし、Ｘは水素原子、フッ素原子、塩素原子または臭素
    原子を表わし、Ｙはハロゲン原子で置換されていてもよ
    いメチル基を表わし、Ｚはメチル基またはアミノ基を表
    わし、Ｒはハロアルキル基、アルキルチオアルキル基、
    アミノアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アシル
    アミノアルキル基、アルキルスルホニルアミノアルキル
    基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアル
    キル基、アルコキシアルコキシアルキル基、アシルオキ
    シアルキル基、ヒドロキシイミノアルキル基、アルコキ
    シイミノアルキル基、シアノ基、ヒドラゾノアルキル
    基、アルキルヒドラゾノアルキル基、フェニルヒドラゾ
    ノアルキル基（該フェニルはアルキル基、アルコキシ
    基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、ハロゲン原
    子、ニトロ基、シアノ基またはチオアルキル基で置換さ
    れていてもよい。）、カルボキシル基、アルコキシカル
    ボニル基、アミノカルボニル基、アルキルアミノカルボ
    ニル基またはフェニルアミノカルボニル基（該フェニル
    はアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基、ハロア
    ルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基または
    チオアルキル基で置換されていてもよい。）を表わ
    す。〕で示されるベンゾフラン誘導体。
  2. 【請求項２】 請求項１記載のベンゾフラン誘導体を有
    効成分として含有することを特徴とする除草剤。
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