JPH05186444A - イミノチアゾリン誘導体、それを有効成分とする除草剤およびその製造中間体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒ¹ はハロゲン原子、低級ハロアルキル基等を
表し、Ｒ² はメチル基、エチル基、塩素原子、臭素原子
またはヨウ素原子を表し、Ｒ³ は同一または相異なる１
以上の基で置換されていてもよい、低級アルキルカルボ
ニル基、低級シクロアルキルカルボニル基等を表す。こ
こで置換基はハロゲン原子等である。〕で示されるイミ
ノチアゾリン誘導体、それを含有する除草剤およびその
製造中間体。 【効果】 優れた除草効力および主要作物と雑草間に優
れた選択性を示すことから除草剤の有効成分として使用
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なイミノチアゾリ
ン誘導体、それを有効成分とする除草剤および製造中間
体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ある種のイミノチアゾリジン誘導体が除
草剤の有効成分として用いうることが欧州特許349 282
A 号等に記載されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の化合物は、除草効力が不充分である等、除草剤の有効
成分として必ずしも満足すべきものとは言い難い。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、このよう
な状況に鑑み、種々検討した結果、下記一般式 化３で
示されるイミノチアゾリン誘導体が優れた除草化合物で
あることを見出し、本発明に至った。すなわち、本発明
は一般式 化３

【化３】 〔式中、Ｒ¹ はハロゲン原子、低級ハロアルキル基、低
級ハロアルコキシ基または低級ハロアルキルチオ基を表
わし、Ｒ² はメチル基、エチル基、塩素原子、臭素原子
またはよう素原子を表わし、Ｒ⁴ はハロゲン原子を表わ
す。Ｒ³ は低級アルキルカルボニル基、低級シクロアル
キルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級
シクロアルコキシカルボニル基または低級アルキルスル
ホニル基を表わす。ここで、低級アルキルカルボニル
基、低級シクロアルキルカルボニル基、低級アルコキシ
カルボニル基、低級シクロアルコキシカルボニル基また
は低級アルキルスルホニル基は、ハロゲン原子、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、低級シクロアルキル基お
よび低級シクロアルコキシ基から選ばれる同一又は相異
なる１以上の置換基で置換されていてもよい。〕で示さ
れるイミノチアゾリン誘導体（以下、本発明化合物と記
す。）、それを有効成分とする除草剤およびその製造中
間体を提供するものである。本発明化合物の各置換基の
炭素数を具体的にあげると、Ｒ¹ の低級ハロアルキル
基、低級ハロアルコキシ基、低級ハロアルキルチオ基に
おいては（Ｃ１−３）であり、Ｒ³ の低級シクロアルコ
キシカルボニル基、低級シクロアルキルカルボニル基に
おいては、（Ｃ３−６）であり、低級アルキルカルボニ
ル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルスル
ホニル基においては、（Ｃ１−６）であり、低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基においては、（Ｃ１−３）であ
る。本発明化合物のうち、一般式 化３において、Ｒ⁴
が４位に置換している化合物が好ましく、置換基として
はフッ素原子が好ましい。Ｒ¹ としては（Ｃ１−Ｃ３）
ハロアルキル基が好ましく、ＣＦ₃ 基がさらに好まし
い。Ｒ² としてはメチル基、エチル基が好ましい。Ｒ³
としてはハロゲン原子、（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基およ
び（Ｃ１−Ｃ３）アルコキシ基から選ばれる同一又は相
異なる１以上の置換基で置換されていてもよい、（Ｃ１
−Ｃ６）アルキルカルボニル基または（Ｃ３−Ｃ６）シ
クロアルキルカルボニル基が好ましい。以下に本発明化
合物の製造ルート化４、化５および化６を示す。

【化４】

【化５】

【化６】 〔式中、Ｒ¹ ，Ｒ² ，Ｒ³ およびＲ⁴ は前記と同一の意
味を表す。Ｒ⁶ は水素原子またはメチル基を表わす。Ｒ
⁷ は低級アルキルカルボニル基を表わし、Ｒ⁸ ，Ｒ⁹ は
互いに異なる低級アルキル基を表わし、Ｒ¹⁰は塩素原
子、臭素原子、よう素原子を表わし、Ｘ，Ｙは互いに同
一又は相異なる臭素原子、よう素原子を表わす。〕次に
本発明化合物の製造法について詳しく説明する。 〔製法（ａ）〕一般式〔Ｉ−１〕で示される本発明化合
物は、一般式〔II〕で示されるイミノチアゾリジン誘導
体を塩基又は酸と反応させることによって製造すること
ができる。この反応は、通常、溶媒中で行い、反応温度
の範囲は０〜２００℃、反応時間の範囲は１〜３０時間
であり、反応に供される試剤の量は、一般式〔II〕で示
されるイミノチアゾリジン誘導体１等量に対して塩基又
は酸は１〜１００等量である。溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジイソプロピルエ
ーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール、
オクタノール、シクロヘキサノール、２−メトキシエタ
ノール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコ
ール類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド
類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物
などあるいは、それらの混合物があげられる。塩基とし
ては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基、
ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリ
ウム ｔ−ブトキシド、カリウム ｔ−ブトキシド等の
アルカリ金属アルコキシド等があげらる。酸としては、
硫酸、塩酸等があげられる。反応終了後の反応液は、有
機溶媒抽出および濃縮等の通常の処理を行い、必要なら
ば、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によって精製
することにより、目的の本発明化合物を得ることができ
る。 〔製法（ｂ）〕一般式〔Ｉ−１〕で示される本発明化合
物は一般式〔IV〕で示されるイミノチアゾリジン誘導体
を一般式〔Ｖ〕で示される酸クロリド誘導体または一般
式〔XIV 〕で示される酸無水物誘導体と塩基存在下で反
応させることによって製造することができる。また、一
般式〔IV〕で示されるイミノチアゾリジン誘導体と一般
式〔VI〕で示されるカルボン酸誘導体を 通常は縮合剤
の存在下で反応させることによって製造することができ
る。この反応は、通常、溶媒中で行い、反応温度の範囲
は０〜２００℃、反応時間の範囲は１〜３０時間であ
り、反応に供される試剤の量は、一般式〔IV〕で示され
るイミノチアゾリジン誘導体１等量に対して一般式
〔Ｖ〕で示される酸クロリド誘導体、一般式〔XIV 〕で
示される酸無水物誘導体又は、一般式〔VI〕で示される
カルボン酸誘導体は１〜１０等量、塩基は１〜５０等量
である。縮合剤を用いる場合は、一般式〔IV〕で示され
るイミノチアゾリジン誘導体１等量に対して縮合剤は１
〜１０等量である。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノン等のケトン類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチル等のエステル類、ニトロエタン、
ニトロベンゼン等のニトロ化合物、アセトニトリル、イ
ソブチロニトリル等のニトリル類、ピリジン、トリエチ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチルアミ
ン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン等の硫黄化合物などあるいは、それ
らの混合物があげられる。塩基としては、ピリジン、ト
リエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩
基、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム等の無機塩基等が
あげられる。縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド等があげられる。反応終了後の反応液は、製法
（ａ）と同様の操作で精製することにより、目的の本発
明化合物を得ることができる。 〔製造（ｃ）〕一般式〔Ｉ−２〕で示される本発明化合
物は、一般式〔Ｉ−５〕で示されるイミノチアゾリン誘
導体を一般式〔XV〕で示されるアルコールと塩基存在下
で反応させることによって製造することができる。この
反応は、通常、溶媒中で行い、反応温度の範囲は１０〜
２００℃、反応時間の範囲は１〜１００時間であり、反
応に供される試剤の量は、一般式〔Ｉ−５〕で示される
イミノチアゾリン誘導体１等量に対して一般式〔XV〕で
示されるアルコール誘導体は１〜１０等量、塩基は 0.5
〜５０等量である。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタ
ン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ｔ−ブタノール、オクタノール、シ
クロヘキサノール、２−メトキシエタノール、ジエチリ
ングリコール、グリセリン等のアルコール類、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン等の硫黄化合物，水などあるいは、
それらの混合物があげられる。塩基としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の無機塩基、ナトリウムメ
トキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金属アル
コキシド等があげられる。反応終了後の反応液は、製法
（ａ）と同様の操作で精製することにより、目的の本発
明化合物を得ることができる。 〔製法（ｄ）〕一般式〔Ｉ−３〕で示される本発明化合
物は、一般式〔VII 〕で示されるイミノチアゾリジン誘
導体を臭素化試薬、よう素化試薬または塩素化試薬と反
応させることによって製造することができる。この反応
は、通常、溶媒中で行い、反応温度の範囲は５０〜１５
０℃、反応時間の範囲は２〜１００時間であり、反応に
供される試剤の量は、一般式〔VII 〕で示されるイミノ
チアゾリジン誘導体１等量に対して臭素化試薬、よう素
化試薬または塩素化試薬は１〜１０等量である。溶媒と
しては、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ク
ロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等のハロゲン
化炭化水素類、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル等のエーテル類などあるいは、それらの混合物が
あげられる。臭素化試薬、よう素化試薬または塩素化試
薬としては、Ｎ−クロロサクシンイミド、Ｎ−ブロモサ
クシンイミド、Ｎ−ヨードサクシンイミド等があげられ
る。反応終了後の反応液は、製法（ａ）と同様の操作で
精製することにより、目的の本発明化合物を得ることが
できる。 〔製法（ｅ）〕一般式〔Ｉ−３〕で示される本発明化合
物は、一般式〔VIII〕で示されるイミノチアゾリン誘導
体を臭素化試薬、よう素化試薬または塩素化試薬と反応
させることによって製造することができる。この反応
は、通常、溶媒中で行い、反応温度の範囲は５０〜１５
０℃、反応時間の範囲は２〜１００時間であり、反応に
供される試剤の量は、一般式〔VIII〕で示されるイミノ
チアゾリン誘導体１等量に対して臭素化試薬、よう素化
試薬または塩素化試薬は１〜１０等量である。溶媒とし
ては、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン等のハロゲン化
炭化水素類、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエー
テル等のエーテル類などあるいは、それらの混合物があ
げられる。臭素化試薬、よう素化試薬または塩素化試薬
としては、Ｎ−クロロサクシンイミド、Ｎ−ブロモサク
シンイミド、Ｎ−ヨードサクシンイミド等があげられ
る。反応終了後の反応液は、製法（ａ）と同様の操作で
精製することにより、目的の本発明化合物を得ることが
できる。次にこの製造法によって製造される本発明化合
物を表１および表２に示す。

【表１】一般式 化３で示されるイミノチアゾリン誘導
体

【表２】

【表３】

【化７】 なお、本発明化合物のいくつかは、１個または２個の不
斉炭素に由来する光学異性体を有するが、これらの光学
異性体もすべて本発明に含まれる。本発明化合物を製造
する場合、原料化合物である一般式〔II〕で示される化
合物は、一般式〔IX〕で示されるアニリン誘導体を一般
式〔Ｘ〕で示されるイソチオシアネート誘導体と反応さ
せ、一般式〔XI〕で示されるウレア誘導体を経由して製
造することができる。この反応は、通常、溶媒中で行
い、反応温度の範囲は０〜２００℃、反応時間の範囲は
１〜３０時間であり、反応に供される試剤の量は、一般
式〔IX〕で示されるアニリン誘導体１等量に対して一般
式〔Ｘ〕で示されるイソチオシアネート誘導体は１〜５
等量である。溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグ
ロイン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロ
ホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノン等のケトン類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等
のニトロ化合物、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリブチ
ルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の第三級アミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチ
ルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化合物などあるい
は、それらの混合物があげられる。〔XI〕から〔II〕へ
の工程は、トリフルオロ酢酸、硫酸等の酸、ナトリウム
メチラート等の塩基を触媒として用いることもできる。
反応終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通
常の処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、再
結晶等の操作によって精製することにより、化合物〔I
I〕を得ることができる。なお、この方法により、化合
物〔II〕を単離することなく直接本発明化合物〔Ｉ−
１〕を得ることもできる。さらに、一般式〔II〕で示さ
れる化合物は、一般式〔III 〕で示されるイミノチアゾ
リジン誘導体を塩基と反応させることによって製造する
ことができる。この反応は、通常、溶媒中で行い、反応
温度の範囲は０〜２００℃、反応時間の範囲は１〜３０
時間であり、反応に供される試剤の量は、一般式〔III
〕で示されるイミノチアゾリジン誘導体１等量に対し
て塩基は１〜５０等量である。溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテル等の脂肪族炭
化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール、オク
タノール、シクロヘキサノール、２−メトキシエタノー
ル、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール
類、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ア
セトアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン等の硫黄化合物などあるいは、それらの混合物
があげられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムの無機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリ
ウムエトキシド、ナトリウム ｔ−ブトキシド等のアル
カリ金属アルコキシド等があげられる。反応終了後の反
応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の処理を行
い、必要ならば、クロマトグラフィー、再結晶等の操作
によって精製することにより、目的の化合物〔II〕を得
ることができる。なお、この方法により直接〔Ｉ−１〕
を得ることもできる。また、一般式〔VIII〕で示される
化合物は、一般式〔Ｉ−３〕において（Ｒ¹⁰＝臭素原
子）で示されるイミノチアゾリン誘導体を還元剤（水素
化トリブチルスズ等）と反応させることによって、製造
することができる。この反応は、通常、溶媒中で行い、
反応温度は０〜２００℃、反応時間は１〜３０時間であ
り、反応に供される試剤の量は、一般式〔Ｉ−３〕にお
いて（Ｒ¹⁰＝臭素原子）で示されるイミノチアゾリン誘
導体１等量に対して還元剤は１〜１００等量である。溶
媒としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテル等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノン等のケトン
類、蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸ジエチ
ル等のエステル類、ニトロエタン、ニトロベンゼン等の
ニトロ化合物、アセトニトリル、イソブチロニトリル等
のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸ア
ミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄化
合物などあるいは、それらの混合物があげられる。反応
終了後の反応液は、有機溶媒抽出および濃縮等の通常の
処理を行い、必要ならば、クロマトグラフィー、再結晶
等の操作によって精製することにより、目的の化合物を
得ることができる。本発明化合物〔Ｉ〕の原料化合物で
ある一般式〔III 〕で示される化合物は、J.Am.Chem.So
c.,p1079(1984)に記載の方法に準じて製造することがで
きる。即ち、一般式〔III 〕で示される化合物は、一般
式〔XVI 〕で示されるアニリン誘導体と、一般式〔Ｘ〕
で示されるイソチオシアネート誘導体とを反応させるこ
とによって、一般式〔XVII〕で示されるチオウレア誘導
体を製造し、これをハロゲン化試薬と反応させることに
よって製造することができる。また、一般式〔VII 〕で
示される化合物は、一般式〔XXVI〕で示されるチオウレ
ア誘導体と一般式〔XXVII 〕で示されるハライド誘導体
を反応させることによって一般式〔XXVIII〕で示される
イミノチアゾリン誘導体を製造し、これを製法（ｂ）と
同様の条件下、一般式〔Ｖ〕又は〔XIV 〕又は〔VI〕で
示される化合物と反応させることによって得ることがで
きる。また、一般式〔VII 〕で示される化合物は、一般
式〔XXX 〕で示されるチオウレア誘導体と一般式〔XXVI
I 〕で示されるハライド誘導体を反応させることによっ
て製造できる。また、一般式〔IV〕で示される化合物
は、一般式〔Ｉ−４〕で示される化合物を酸を用いて加
水分解することによって得ることができる。この反応
は、通常、溶媒中で行い、反応温度の範囲は３０〜２０
０℃、反応時間の範囲は１〜１００時間であり、反応に
供される試剤の量は、チアゾリン誘導体〔Ｉ−４〕１等
量に対して酸は１〜１０００等量である。溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、蟻酸、酢酸、オレイン
酸等の脂肪酸、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール、ｔ−ブタノール、オクタノール、シクロヘキサノ
ール、２−メトキシエタノール、ジエチレングリコー
ル、グリセリン等のアルコール類、水などあるいは、そ
れらの混合物があげられる。酸としては塩酸、硫酸等が
あげられ、塩酸が好ましい。反応終了後の反応液は、有
機溶媒抽出および濃縮等の通常の処理を行い、必要なら
ば、クロマトグラフィー等の操作によって精製すること
により、目的の一般式〔IV〕で示される化合物を得るこ
とができる。また、反応終了後、減圧濃縮を行うことに
より、一般式〔IV〕で示される化合物の塩を得ることが
できる。この一般式〔IV〕で示される化合物の塩に、通
常の中和処理を行うことによって、一般式〔IV〕で示さ
れる化合物を得ることができる。また、直接この塩を
一般式〔Ｉ−１〕で示される本発明化合物を製造するた
めの次の反応（製法ｂ）に用いることもできる。次にこ
の製造法によって製造できる一般式〔IV〕で示される化
合物を表４に示す。

【表４】 本発明化合物は、畑地の茎葉処理および土壌処理におい
て、問題となる種々の雑草、例えば、スベリヒユ、ハコ
ベ、シロザ、アオゲイトウ、ダイコン、ノハラガラシ、
ナズナ、アメリカツノクサネム、エビスグサ、イチビ、
アメリカキンゴジカ、フィールドパンジー、ヤエムグ
ラ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、セイヨウヒル
ガオ、ヒメオドリコソウ、ホトケノザ、シロバナチョウ
センアサガオ、イヌホオズキ、オオイヌノフグリ、オナ
モミ、ヒマワリ、イヌカミツレ、コーンマリーゴールド
等の広葉雑草、ヒエ、イヌビエ、エノコログサ、メヒシ
バ、スズメノカタビラ、ノスズメノテッポウ、エンバ
ク、カラスムギ、セイバンモロコシ、シバムギ、ウマノ
チャヒキ、ギョウギシバ等のイネ科雑草に対して除草効
力を有し、しかも本発明化合物は、トウモロコシ、コム
ギ、オオムギ、イネ、ダイズ、ワタ、テンサイ等の主要
作物に対して問題となるような薬害を示さない。また、
本発明化合物は、水田の湛水処理において、問題となる
種々の雑草、例えば、タイヌビエ等のイネ科雑草、アゼ
ナ、キカシグサ、ミゾハコベ等の広葉雑草、タマガヤツ
リ、ホタルイ、マツバイ、ミズガヤツリ等のカヤツリグ
サ科雑草、コナギ、ウリカワ等に対して除草効力を有
し、しかもイネに対しては問題となるような薬害を示さ
ない。本発明化合物は通常固体担体、液体担体、界面活
性剤その他の製剤用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、
懸濁剤、粒剤、顆粒水和剤等に製剤して除草剤の有効成
分として用いる。これらの製剤には有効成分として本発
明化合物を、重量比で0.02〜９０％、好ましくは、0.05
〜８０％含有する。固体担体としては、カオリンクレ
ー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、酸性白
土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石、クル
ミ殻粉、尿素、硫酸アンモニウム、合成含水酸化珪素等
の微粉末あるいは粒状物があげられ、液体担体として
は、キシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素
類、イソプロパノール、エチレングリコール、セロソル
ブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イ
ソホロン等のケトン類、大豆油、綿実油等の植物油、ジ
メチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
アセトニトリル、水等があげられる。乳化、分散、湿展
等のために用いられる界面活性剤としては、アルキル硫
酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリー
ルスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオ
キシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル
塩等の陰イオン界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエー
テル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロッ
クコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活
性剤等があげられる。製剤用補助剤としては、リグニン
スルホン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコール、
アラビアガム、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロー
ス）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）等があげられ
る。本発明化合物は、通常製剤化して雑草の出芽前また
は出芽後に土壌処理、茎葉処理または湛水処理する。土
壌処理には、土壌表面処理、土壌混和処理等があり、茎
葉処理には、植物体の上方からの処理のほか、作物に付
着しないよう雑草に限って処理する局部処理等がある。
本発明化合物を除草剤の有効成分として用いる場合、そ
の処理量は、気象条件、製剤形態、処理時期、方法、場
所、対象作物、対象雑草等によっても異なるが、通常１
ヘクタールあたり１０ｇ〜５０００ｇ、好ましくは、２
０ｇ〜２０００ｇであり、乳剤、水和剤、懸濁剤等は、
通常その所定量を１ヘクタールあたり１００リットル〜
１０００リットルの（必要ならば、展着剤等の補助剤を
添加した）水で希釈して処理し、粒剤等は、通常なんら
希釈することなくそのまま処理する。展着剤としては、
前記の界面活性剤のほか、ポリオキシエチレン樹脂酸
（エステル）、リグニンスルホン酸塩、アビエチン酸
塩、ジナフチルメタンジスルホン酸塩、パラフィン等が
あげられる。さらに、本発明化合物は、水田、畑地、果
樹園、牧草地、芝生地、森林あるいは非農耕地等の除草
剤として用いることができ、また、他の除草剤と混合し
て用いることにより、除草効力の増強を期待できる。さ
らに、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、植物生長
調節剤、肥料、土壌改良剤等と混合して用いることもで
きる。

【０００５】

【発明の効果】本発明化合物は、畑地の土壌処理および
茎葉処理、さらに水田の湛水処理において種々の雑草に
対して優れた除草効力を有し、しかもある化合物は主要
作物に対して問題となるような薬害を示さないことか
ら、除草剤の有効成分として種々の用途に用いることが
できる。

【０００６】

【実施例】以下、本発明を製造例、製剤例および試験例
により、さらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。まず、本発明化合物の
製造例を示す。 製造例１ アセチルクロライド2.75ｇをアセトニトリル７０mlに混
合し、０℃に冷却後、チオシアン酸カリウム3.57ｇを加
え、室温で６時間攪拌した。再び０℃に冷却後、３−ト
リフルオロメチル−４−フルオロ−Ｎ−プロパルギルア
ニリン 7.6ｇを加えた。その後、室温で３時間攪拌し
た。溶媒を減圧下留去後、酢酸エチル３００mlで抽出
し、水で洗浄した。溶媒を留去し、結晶を 8.5ｇ得た。
２５mlの硫酸を０℃に冷却し、その中に得られた結晶を
徐々に加えた。０℃で３０分、さらに室温で１時間攪拌
後、溶液を氷水に注いだ。溶液を注いだ氷水を水酸化ナ
トリウムで中和後、得られた結晶を濾別し、２−アセチ
ルイミノ−３−（３−トリフルオロメチル−４−フルオ
ロフェニル）−５−メチルチアゾリン（本発明化合物
（１））８ｇを得た。（融点 179.0℃） 製造例２ ２−イミノ−３−（３−トリフルオロメチル−４−フル
オロフェニル）−５−メチルチアゾリン塩酸塩0.62ｇと
トリエチルアミン0.61ｇを酢酸エチル２０mlに混合し、
０℃でトリフルオロ酢酸無水物0.42ｇを加えた。室温で
３時間攪拌後、酢酸エチル１００mlで抽出し、水で洗浄
した。減圧下溶媒を留去した後、得られた結晶を濾別、
ヘキサンで洗浄することにより、２−（トリフルオロア
セチルイミノ）−３−（３−トリフルオロメチル−４−
フルオロフェニル）−５−メチルチアゾリン（本発明化
合物（２））0.45ｇを得た。（融点 119.4℃） 次にこれらの製造法によって製造した本発明化合物を、
まとめて表５−６に示す。

【表５】

【表６】 上記の化合物のうち、（１）および（７）は製造例１に
準じて製造され、その他の化合物は製造例２に準じて製
造された。 製造例３ （ｉ）２−アセチルイミノ−３−（３−トリフルオロメ
チル−４−フルオロフェニル）−５−メチルチアゾリン
３．５ｇと塩酸（３６％）３．５ｍｌとエタノール３５
ｍｌを混合し、３時間還流した。冷却後、溶媒を減圧下
留去し、得られた結晶をろべつし、少量のイソプロパノ
ールとヘキサンで洗浄し、２−イミノ−３−（３−トリ
フルオロメチル−４−フルオロフェニル）−５−メチル
チアゾリン塩酸塩（化合物（ｉ）） 2.8ｇを得た。 (ii) ３−（３−トリフルオロメチル−４−フルオロフ
ェニル）−５−メチル−２−イミノチアゾリン塩酸塩１
ｇを酢酸エチル５０ml及び炭酸カリウム水溶液２０mlに
加え、攪拌した。有機層を分別し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧下、溶媒を留去することにより、３−
（３−トリフルオロメチル−４−フルオロフェニル）−
５−メチル−２−イミノチアゾリン（油状） 0.7ｇを得
た。 このようにして製造したイミノチアゾリン誘導体〔IV〕
を表７に示す。

【表７】 次に製剤例を示す。なお、本発明化合物は表５−６の化
合物番号で示す。部は重量部である。 製剤例１ 本発明化合物（１）〜（21）、（23）〜（25）各５０
部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸
ナトリウム２部および合成含水酸化珪素４５部をよく粉
砕混合して各々の水和剤を得る。 製剤例２ 本発明化合物（１）〜（25）各５部、トキサノンＰ８Ｌ
（三洋化成登録商標）１５部、シクロヘキサノン８０部
をよく混合して各々の乳剤を得る。 製剤例３ 本発明化合物（１）〜（21）、（23）〜（25）各２部、
合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム
２部、ベントナイト３０部およびカオリンクレー６５部
をよく粉砕混合し、水を加えてよく練り合せた後、造粒
乾燥して各々の粒剤を得る。 製剤例４ 本発明化合物（１）〜（21）、（23）〜（25）各２５
部、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３
部、ＣＭＣ３部、水６９部を混合し、粒度が５ミクロン
以下になるまで湿式粉砕して各々の懸濁剤を得る。次
に、本発明化合物が除草剤の有効成分として有用である
ことを試験例で示す。なお、本発明化合物は、表5-6 の
化合物番号で示し、比較対照に用いた化合物は表8 の化
合物記号で示す。

【表８】 また、除草効力は、調査時の供試植物の出芽および生育
阻害の程度を肉眼観察し、化合物を供試していない場合
と全くないしほとんど違いがないものを「０」とし、供
試植物が枯死ないし生育が完全に阻害されているものを
「10」として、０〜10の11段階に評価し、０、１、２、
３、４、５、６、７、８、９、10で示す。 試験例１ 畑地土壌表面処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、ヒエ、マルバアサガオ、イチビを播種
し、覆土した。製剤例２に準じて供試化合物を乳剤に
し、その所定量を１ヘクタールあたり1000リットル相当
の水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に処理した。処理
後２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その
結果を表９、１０に示す。

【表９】

【表１０】 試験例２ 畑地茎葉処理試験 直径１０cm、深さ１０cmの円筒型プラスチックポットに
畑地土壌を詰め、ヒエ、アサガオ、ダイコン、イチビを
播種し、温室内で１０日間育成した。その後、製剤例２
に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタ
ールあたり1000リットル相当の展着剤を含む水で希釈
し、小型噴霧器で植物体の上方から茎葉処理した。処理
後２０日間温室内で育成し、除草効力を調査した。その
結果を表11、12に示す。

【表11】

【表12】 試験例３ 水田湛水処理試験 直径８cm、深さ１２cmの円筒型プラスチックポットに水
田土壌を詰め、タイヌビエ、ホタルイの種子を１〜２cm
の深さに混ぜ込んだ。湛水して水田状態にした後、２葉
期のイネを移植し、温室内で育成した。６日後（各雑草
の発生初期）に製剤例２に準じて供試化合物を乳剤に
し、その所定量を 2.5ミリリットルの水で希釈し、水面
に処理した。処理後１９日間温室内で育成し、除草効力
および薬害を調査した。その結果を表13に示す。

【表13】 試験例４ 畑地土壌表面処理試験 面積３３×２３cm² 、深さ１１cmのバットに畑地土壌を
詰め、ワタ、マルバアサガオ、イヌホオヅキ、アキノエ
ノコログサ、イヌビエおよびセイバンモロコシを播種
し、１〜２cmの深さに覆土した。製剤例２に準じて供試
化合物を乳剤にし、その所定量を１ヘクタールあたり10
00リットル相当の水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に
処理した。処理後２０日間温室内で育成し、除草効力お
よび薬害を調査した。その結果を表14に示す。

【表14】 試験例５ 水田湛水処理試験 １／5000ａワグネルポットに水田土壌を詰め、タイヌビ
エ、広葉雑草（アゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ、ヒメ
ミソハギの種子を１〜２cmの厚さに混ぜ込んだ。湛水し
て水田状態にした後、３葉期のイネを移植し、温室内で
育成した。５日後、（タイヌビエの発芽始期）に、製剤
例２に準じて供試化合物を乳剤にし、その所定量を１０
ミリリットルの水で希釈し水面に処理し、その水深を４
cmとした。処理後１９日間温室内で育成し、除草効力お
よび薬害を調査した。その結果を表１５、１６に示す。
なお、処理の翌日から２日間は、１日あたり３cmの水深
に相当する量の漏水を行った。

【表15】

【表16】 試験例６ 畑地土壌処理試験 面積３３×２３cm² 、深さ１１cmのバットに畑地土壌を
詰め、オオイヌノフグリ、コムギの種子を播種し、１〜
２cmの深さに覆土した。製剤例２に準じて供試化合物を
乳剤にし、その所定量を１ヘクタールあたり1000リット
ル相当の水で希釈し、自動噴霧器で土壌表面に処理し
た。処理後２５日間温室内で育成し、除草効力および薬
害を調査した。その結果を表17に示す。

【表17】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 実光 穣 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 佐藤 良 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 浜田 達裕 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内 (72)発明者 柴田 秀之 兵庫県宝塚市高司４丁目２番１号 住友化 学工業株式会社内

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 化１ 【化１】 〔式中、Ｒ¹ はハロゲン原子、低級ハロアルキル基、低
   級ハロアルコキシ基または低級ハロアルキルチオ基を表
   わし、Ｒ² はメチル基、エチル基、塩素原子、臭素原子
   またはよう素原子を表わし、Ｒ⁴ はハロゲン原子を表わ
   す。Ｒ³ は低級アルキルカルボニル基、低級シクロアル
   キルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル基、低級
   シクロアルコキシカルボニル基または低級アルキルスル
   ホニル基を表わす。ここで、低級アルキルカルボニル
   基、低級シクロアルキルカルボニル基、低級アルコキシ
   カルボニル基、低級シクロアルコキシカルボニル基また
   は低級アルキルスルホニル基は、ハロゲン原子、低級ア
   ルキル基、低級アルコキシ基、低級シクロアルキル基お
   よび低級シクロアルコキシ基から選ばれる同一又は相異
   なる１以上の置換基で置換されていてもよい。〕で示さ
   れるイミノチアゾリン誘導体。
2. 【請求項２】一般式 化２ 【化２】 〔式中、Ｒ¹ はハロゲン原子、低級ハロアルキル基、低
   級ハロアルコキシ基または低級ハロアルキルチオ基を表
   わし、Ｒ⁶ は水素原子またはメチル基を表わし、Ｒ⁴ は
   ハロゲン原子を表わす。〕で示されるイミノチアゾリン
   誘導体。
3. 【請求項３】請求項１記載のイミノチアゾリン誘導体を
   有効成分として含有することを特徴とする除草剤。