JPH05257267A - フォトマスク保護具 - Google Patents
フォトマスク保護具Info
- Publication number
- JPH05257267A JPH05257267A JP5528192A JP5528192A JPH05257267A JP H05257267 A JPH05257267 A JP H05257267A JP 5528192 A JP5528192 A JP 5528192A JP 5528192 A JP5528192 A JP 5528192A JP H05257267 A JPH05257267 A JP H05257267A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photomask
- protective film
- protector
- focusing
- foreign matter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は、フォトマスク表面への異物を付
着を防止でき、光学検査機による保護膜表面の焦点合わ
せを正確に簡便にできるフォトマスク保護具を得ること
を目的とする。 【構成】 フォトマスク保護具２は、枠体３に焦点合わ
せ用マーク５が形成された保護膜４をはりつけて構成さ
れている。このフォトマスク保護具２は、フォトマスク
１の両面のそれぞれに接着剤により装着され、フォトマ
クス１を外部から保護し、異物の付着を防止している。
光学検査機による保護膜４表面の焦点合わせは、保護膜
４に形成された焦点合わせ用マーク５を用いて行うこと
ができ、保護膜４上の異物や汚染状況を正確に検査でき
る。
着を防止でき、光学検査機による保護膜表面の焦点合わ
せを正確に簡便にできるフォトマスク保護具を得ること
を目的とする。 【構成】 フォトマスク保護具２は、枠体３に焦点合わ
せ用マーク５が形成された保護膜４をはりつけて構成さ
れている。このフォトマスク保護具２は、フォトマスク
１の両面のそれぞれに接着剤により装着され、フォトマ
クス１を外部から保護し、異物の付着を防止している。
光学検査機による保護膜４表面の焦点合わせは、保護膜
４に形成された焦点合わせ用マーク５を用いて行うこと
ができ、保護膜４上の異物や汚染状況を正確に検査でき
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、フォトマスクに装着
され、フォトマスク面への異物の付着を防止するフォト
マスク保護具に関するものである。
され、フォトマスク面への異物の付着を防止するフォト
マスク保護具に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のフォトマスク保護具の使用
状態の一例を示す斜視図であり、図において１は一方の
面にパターン１ａが形成されたフォトマスク、２は枠体
３に保護膜４が接着されてなるフォトマスク保護具であ
り、保護膜４としては例えばペリクル膜（ニトロセルロ
ーズ単層薄膜：特公昭５４ー２８７１６号公報）あるい
は反射防止膜を有する薄膜（特開平１ー１００５４９号
公報）が用いられる。
状態の一例を示す斜視図であり、図において１は一方の
面にパターン１ａが形成されたフォトマスク、２は枠体
３に保護膜４が接着されてなるフォトマスク保護具であ
り、保護膜４としては例えばペリクル膜（ニトロセルロ
ーズ単層薄膜：特公昭５４ー２８７１６号公報）あるい
は反射防止膜を有する薄膜（特開平１ー１００５４９号
公報）が用いられる。
【０００３】つぎに、従来のフォトマスク保護具２の使
用について説明する。まず、フォトマスク保護具２は、
フォトマスク１の両面のそれぞれに接着剤により装着さ
れる。フォトマスク保護具２が両面に装着されたフォト
マスク１は、フォトレジストが塗布された半導体ウエハ
上に位置合わせされて載置される。そこで、露光・現像
することにより、フォトマスク１のパターン１ａが半導
体ウエハのフォトレジストに形成される。
用について説明する。まず、フォトマスク保護具２は、
フォトマスク１の両面のそれぞれに接着剤により装着さ
れる。フォトマスク保護具２が両面に装着されたフォト
マスク１は、フォトレジストが塗布された半導体ウエハ
上に位置合わせされて載置される。そこで、露光・現像
することにより、フォトマスク１のパターン１ａが半導
体ウエハのフォトレジストに形成される。
【０００４】このように、フォトマスク１は一対のフォ
トマスク保護具２によりその両面が外部から保護されて
いるので、マスク面に異物が付着することがなく、パタ
ーン欠陥の発生を抑えることができ、集積回路などの半
導体装置の製造等に用いられている。
トマスク保護具２によりその両面が外部から保護されて
いるので、マスク面に異物が付着することがなく、パタ
ーン欠陥の発生を抑えることができ、集積回路などの半
導体装置の製造等に用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のフォトマスク保
護具は以上のように、保護膜４としてペリクル膜や反射
防止膜を有する薄膜等の透明な膜を用いているので、保
護膜４上に異物が付着したり、保護膜４が汚染されたり
しても、その状況を光学検査機で目視する際に保護膜４
上に焦点を合わせることが困難となり、目視での検査を
不正確なものとするという課題があった。
護具は以上のように、保護膜４としてペリクル膜や反射
防止膜を有する薄膜等の透明な膜を用いているので、保
護膜４上に異物が付着したり、保護膜４が汚染されたり
しても、その状況を光学検査機で目視する際に保護膜４
上に焦点を合わせることが困難となり、目視での検査を
不正確なものとするという課題があった。
【０００６】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、保護膜上に光学検査機の焦点合
わせをしやすくし、保護膜上の異物等の目視確認の精度
を向上できるフォトマスク保護具を得ることを目的とす
る。
ためになされたもので、保護膜上に光学検査機の焦点合
わせをしやすくし、保護膜上の異物等の目視確認の精度
を向上できるフォトマスク保護具を得ることを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係るフォトマ
スク保護具は、保護膜に焦点合わせ用マークを設けるも
のである。
スク保護具は、保護膜に焦点合わせ用マークを設けるも
のである。
【０００８】
【作用】この発明においては、焦点合わせ用マークに光
学検査機の焦点を合わせることにより保護膜表面の焦点
合わせができ、保護膜表面に付着している異物や汚染の
状況を正確に目視できる。
学検査機の焦点を合わせることにより保護膜表面の焦点
合わせができ、保護膜表面に付着している異物や汚染の
状況を正確に目視できる。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。 実施例１．図１はこの発明の一実施例を示すフォトマス
ク保護具の使用状態の斜視図であり、図において図２に
示した従来のフォトマスク保護具と同一または相当部分
には同一符号を付し、その説明を省略する。図におい
て、５はペリクル膜からなる保護膜４の縁に沿って色素
で着色形成した複数の焦点合わせ用マークであり、この
焦点合わせ用マーク５はフォトマスク１のパターン１ａ
外の領域に設けられている。
る。 実施例１．図１はこの発明の一実施例を示すフォトマス
ク保護具の使用状態の斜視図であり、図において図２に
示した従来のフォトマスク保護具と同一または相当部分
には同一符号を付し、その説明を省略する。図におい
て、５はペリクル膜からなる保護膜４の縁に沿って色素
で着色形成した複数の焦点合わせ用マークであり、この
焦点合わせ用マーク５はフォトマスク１のパターン１ａ
外の領域に設けられている。
【００１０】つぎに、上記実施例１の動作について説明
する。フォトマスク保護具２は、図２に示した従来の保
護具と同様に、フォトマクス１の両面のそれぞれに接着
剤により装着されて用いられる。そこで、保護膜４に形
成された焦点合わせ用マーク５を用いて光学検査機の焦
点合わせを行う。同時に、保護膜４表面の焦点合わせが
行われることになる。ついで、光学検査機により保護膜
４上に付着している異物や保護膜４の汚染状況を目視検
査する。この時、保護膜４の表面は光学検査機の焦点に
あるので、保護膜４上に付着している異物や保護膜４の
汚染状況が高精度に目視検査でき、異物等を容易に除去
できる。さらに、焦点合わせ用マーク５の見え方の違い
により、保護膜４のはり具合も検査することができる。
する。フォトマスク保護具２は、図２に示した従来の保
護具と同様に、フォトマクス１の両面のそれぞれに接着
剤により装着されて用いられる。そこで、保護膜４に形
成された焦点合わせ用マーク５を用いて光学検査機の焦
点合わせを行う。同時に、保護膜４表面の焦点合わせが
行われることになる。ついで、光学検査機により保護膜
４上に付着している異物や保護膜４の汚染状況を目視検
査する。この時、保護膜４の表面は光学検査機の焦点に
あるので、保護膜４上に付着している異物や保護膜４の
汚染状況が高精度に目視検査でき、異物等を容易に除去
できる。さらに、焦点合わせ用マーク５の見え方の違い
により、保護膜４のはり具合も検査することができる。
【００１１】このように、上記実施例１によれば、フォ
トマスク１の表面への異物の付着を防止できるととも
に、保護膜４に焦点合わせ用マーク５を設けているの
で、透明な保護膜４表面の焦点合わせが簡便に行え、保
護膜４上に付着している異物や保護膜４の汚染状況を正
確に目視検査でき、フォトマスク１の露光の際のパター
ン欠陥等の発生を抑えることができる。
トマスク１の表面への異物の付着を防止できるととも
に、保護膜４に焦点合わせ用マーク５を設けているの
で、透明な保護膜４表面の焦点合わせが簡便に行え、保
護膜４上に付着している異物や保護膜４の汚染状況を正
確に目視検査でき、フォトマスク１の露光の際のパター
ン欠陥等の発生を抑えることができる。
【００１２】実施例２．上記実施例１では、保護膜４を
色素で着色して焦点合わせ用マーク５を形成するものと
しているが、この実施例２では、マーク状の膜を保護膜
４に接着して焦点合わせ用マーク５を形成するものと
し、同様の効果を奏する。
色素で着色して焦点合わせ用マーク５を形成するものと
しているが、この実施例２では、マーク状の膜を保護膜
４に接着して焦点合わせ用マーク５を形成するものと
し、同様の効果を奏する。
【００１３】なお、上記各実施例では、保護膜４として
ペリクル膜を用いるものとして説明しているが、保護膜
４は露光の障害とならぬものであればよく、例えば特開
平１ー１００５４９号公報に記載された反射防止膜を有
する薄膜でもよい。
ペリクル膜を用いるものとして説明しているが、保護膜
４は露光の障害とならぬものであればよく、例えば特開
平１ー１００５４９号公報に記載された反射防止膜を有
する薄膜でもよい。
【００１４】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、保護膜
に焦点合わせ用マークを設けているので、光学検査機の
焦点合わせが高精度に簡便にでき、保護膜上に付着して
いる異物や保護膜の汚染状況を正確に目視検査できるフ
ォトマスク保護具が得られる効果がある。
に焦点合わせ用マークを設けているので、光学検査機の
焦点合わせが高精度に簡便にでき、保護膜上に付着して
いる異物や保護膜の汚染状況を正確に目視検査できるフ
ォトマスク保護具が得られる効果がある。
【図１】この発明の実施例１を示すフォトマスク保護具
の使用状態の斜視図である。
の使用状態の斜視図である。
【図２】従来のフォトマスク保護具の使用状態の斜視図
である。
である。
２ フォトマスク保護具 ３ 枠体 ４ 保護膜 ５ 焦点合わせ用マーク
Claims (1)
- 【請求項１】 枠体と、前記枠体にはりつけられた保護
膜とを備えたフォトマスク保護具において、前記保護膜
に焦点合わせ用マークを設けたことを特徴とするフォト
マスク保護具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5528192A JPH05257267A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | フォトマスク保護具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5528192A JPH05257267A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | フォトマスク保護具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05257267A true JPH05257267A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=12994210
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5528192A Pending JPH05257267A (ja) | 1992-03-13 | 1992-03-13 | フォトマスク保護具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05257267A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100492908B1 (ko) * | 1997-12-27 | 2005-08-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 렌즈의 수차 효과가 고려된 자동 초점 조정/편평도 조정 방법 |
| JP2007147941A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Toppan Printing Co Ltd | フォーカスモニターマークを有するフォトマスク及び転写シミュレーション方法 |
-
1992
- 1992-03-13 JP JP5528192A patent/JPH05257267A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100492908B1 (ko) * | 1997-12-27 | 2005-08-25 | 주식회사 하이닉스반도체 | 렌즈의 수차 효과가 고려된 자동 초점 조정/편평도 조정 방법 |
| JP2007147941A (ja) * | 2005-11-28 | 2007-06-14 | Toppan Printing Co Ltd | フォーカスモニターマークを有するフォトマスク及び転写シミュレーション方法 |
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