JPH04174846A - マスク保護部材 - Google Patents

マスク保護部材

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Publication number
JPH04174846A
JPH04174846A JP2304351A JP30435190A JPH04174846A JP H04174846 A JPH04174846 A JP H04174846A JP 2304351 A JP2304351 A JP 2304351A JP 30435190 A JP30435190 A JP 30435190A JP H04174846 A JPH04174846 A JP H04174846A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
dust
reticle
membrane
protection member
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2304351A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadayuki Imanishi
貞之 今西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
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Publication of JPH04174846A publication Critical patent/JPH04174846A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はＩＣ，ＬＳＩなどの製造に用いられるフォトマ
スクを塵から保護するためのマスク保護部材に関する。
従来の技術 光を用いてウェハの上のレジストにパターンを形成する
方法の一つに投影露光法がある。最近は高集積化による
微細加工の要求から、５：１または１０：１の縮小投影
露光法が用いられる。縮小投影露光法はウェハの上に形
成すべきパターンの５倍または１０倍の大きさのパター
ンをガラス板上にクロム膜で形成したフォトマスク（以
下レチクルと称する）を使用する。
第２図は縮小投影露光法の一例を示す図である。図に示
すように、ウェハ１０の上にはレジスト１１が形成され
ており、光源１２からの光によりレチクル１３の像がレ
ンズ１４．１５を通してレジスト１１の上に結像する。
第３図（ａｌは保護部材を有しないレチクルを用いた縮
小投影露光法を示す図、第３図（ｂｌは保護部材を有す
るレチクルを用いた縮小投影露光法を示す図である。
保護部材を有しない場合は第３図＋ａ）に示すように、
レチクル１３の主面にはクロム膜でパターン１６が形成
されている。光源からの光（図では簡単のため省略した
）でパターン１６がレンズ１５を通してレジスト１１の
上に結像するが、このレチクル１３の主面に塵１７があ
ると、この塵１７はパターン１６と同一平面にあるため
、レジスト１１の上に結像する。そのためにパターン不
良を発生するが、これを防止するためにレチクル１３を
保護する保護部材が使用する。
保護部材を有する場合は第３図ｔｂ＋に示すように、レ
チクル１３の上下に一対の保護部材が取り付けられる。
保護部材はペリクル枠１８とその端面に貼られたペリク
ル膜１９からなり、このペリクル膜１９はニトロセルロ
ースの膜である。ペリクル膜１９の上に塵１７が付着し
た場合には塵１７がパターン１６とは異なる平面にある
ためにレジスト１１の上に結像せず、パターン不良が発
生しない。またペリクル膜１９の上に塵がついた場合、
エアーを吹き付けて取り除くことができる。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記の従来の構成では、ペリクル枠やペリ
クル膜の内側に付着した塵が工程作業やレチクル運搬時
にレチクルのパターンの上に移動するため、この塵を除
去するためにペリクル枠やペリクル膜を剥離し、この塵
を除去した後に再度ペリクル枠、ペリクル膜を取り付け
る作業をしなければならないという課題を有していた。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、ペリクル枠
、ペリクル膜に付着していた塵がレチクルの上に移動せ
ず、したがってマスク保護部材の交換回数を減らすこと
のできるマスク保護部材を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 この目的を達成するために本発明のマスク保護部材は、
その内面に粘着性を持たせた構成を有している。
作用 この構成によって、保護部材の内側に付着していた塵が
レチクルの上に移動することを防止でき、ペリクル枠や
ペリクル膜の交換回数を減少させることができる。
実施例 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
第１ｖ！Ｊは本発明の一実施例におけるマスク保護部材
の断面図である。
パターン１が形成されたレチクル２の両面にペリクル膜
４を貼り付けたペリクル枠３を接着している。このペリ
クル枠３およびペリクル膜４の内面には粘着剤５が予め
塗布されている。
このように構成されたマスク保護部材では、その内面に
塗布した粘着剤５に塵６が固定されてレチクル２の上に
移動することはない。
発明の効果 以上のように本発明はペリクル枠やペリクル膜の内面に
粘着剤を塗布しておくことにより、保護部材を装着後に
発生する塵がペリクル枠やペリクル膜からレチクルの王
に移動することがなくなり、塵によるパターン不良やペ
リクル枠またはペリクル膜の交換回数が減少するマスク
の保護部材を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例におけるマスク保護部材の断
面図、第２図は縮小投影露光法の一例を示す図、第３図
＋ａｌは保護部材を有しないレチクルである。 ２・・・・・・レチクル（フォトマスク）、３°°°゛
°°ペリクル枠（枠体）、４・・・・・・ペリクル膜（
透明膜）、５・・・・・・粘着剤。 代理人の氏名　弁理士小蝦治明　ほか２名Ｃ砕体） 第２図 第３図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. フォトマスクを保護するための枠体および前記枠体に貼
    り付けた透明膜からなり、前記枠体と前記透明膜のフォ
    トマスクと対向する面に粘着剤を塗布したことを特徴と
    するマスク保護部材。
JP2304351A 1990-11-08 1990-11-08 マスク保護部材 Pending JPH04174846A (ja)

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JPH04174846A true JPH04174846A (ja) 1992-06-23

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998022851A1 (fr) * 1996-11-19 1998-05-28 Mitsui Chemicals, Inc. Membrane
KR20150003769A (ko) * 2012-04-18 2015-01-09 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 발전된 어닐링 프로세스에서 입자를 감소시키기 위한 장치 및 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1998022851A1 (fr) * 1996-11-19 1998-05-28 Mitsui Chemicals, Inc. Membrane
KR20150003769A (ko) * 2012-04-18 2015-01-09 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 발전된 어닐링 프로세스에서 입자를 감소시키기 위한 장치 및 방법
JP2015521368A (ja) * 2012-04-18 2015-07-27 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ アドバンスアニールプロセスにおいて粒子を低減させる装置および方法

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