JPH04174846A - マスク保護部材 - Google Patents
マスク保護部材Info
- Publication number
- JPH04174846A JPH04174846A JP2304351A JP30435190A JPH04174846A JP H04174846 A JPH04174846 A JP H04174846A JP 2304351 A JP2304351 A JP 2304351A JP 30435190 A JP30435190 A JP 30435190A JP H04174846 A JPH04174846 A JP H04174846A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- dust
- reticle
- membrane
- protection member
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 19
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 18
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 abstract 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 238000011112 process operation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
- G03F1/64—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof characterised by the frames, e.g. structure or material, including bonding means therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はIC,LSIなどの製造に用いられるフォトマ
スクを塵から保護するためのマスク保護部材に関する。
スクを塵から保護するためのマスク保護部材に関する。
従来の技術
光を用いてウェハの上のレジストにパターンを形成する
方法の一つに投影露光法がある。最近は高集積化による
微細加工の要求から、5:1または10:1の縮小投影
露光法が用いられる。縮小投影露光法はウェハの上に形
成すべきパターンの5倍または10倍の大きさのパター
ンをガラス板上にクロム膜で形成したフォトマスク(以
下レチクルと称する)を使用する。
方法の一つに投影露光法がある。最近は高集積化による
微細加工の要求から、5:1または10:1の縮小投影
露光法が用いられる。縮小投影露光法はウェハの上に形
成すべきパターンの5倍または10倍の大きさのパター
ンをガラス板上にクロム膜で形成したフォトマスク(以
下レチクルと称する)を使用する。
第2図は縮小投影露光法の一例を示す図である。図に示
すように、ウェハ10の上にはレジスト11が形成され
ており、光源12からの光によりレチクル13の像がレ
ンズ14.15を通してレジスト11の上に結像する。
すように、ウェハ10の上にはレジスト11が形成され
ており、光源12からの光によりレチクル13の像がレ
ンズ14.15を通してレジスト11の上に結像する。
第3図(alは保護部材を有しないレチクルを用いた縮
小投影露光法を示す図、第3図(blは保護部材を有す
るレチクルを用いた縮小投影露光法を示す図である。
小投影露光法を示す図、第3図(blは保護部材を有す
るレチクルを用いた縮小投影露光法を示す図である。
保護部材を有しない場合は第3図+a)に示すように、
レチクル13の主面にはクロム膜でパターン16が形成
されている。光源からの光(図では簡単のため省略した
)でパターン16がレンズ15を通してレジスト11の
上に結像するが、このレチクル13の主面に塵17があ
ると、この塵17はパターン16と同一平面にあるため
、レジスト11の上に結像する。そのためにパターン不
良を発生するが、これを防止するためにレチクル13を
保護する保護部材が使用する。
レチクル13の主面にはクロム膜でパターン16が形成
されている。光源からの光(図では簡単のため省略した
)でパターン16がレンズ15を通してレジスト11の
上に結像するが、このレチクル13の主面に塵17があ
ると、この塵17はパターン16と同一平面にあるため
、レジスト11の上に結像する。そのためにパターン不
良を発生するが、これを防止するためにレチクル13を
保護する保護部材が使用する。
保護部材を有する場合は第3図tb+に示すように、レ
チクル13の上下に一対の保護部材が取り付けられる。
チクル13の上下に一対の保護部材が取り付けられる。
保護部材はペリクル枠18とその端面に貼られたペリク
ル膜19からなり、このペリクル膜19はニトロセルロ
ースの膜である。ペリクル膜19の上に塵17が付着し
た場合には塵17がパターン16とは異なる平面にある
ためにレジスト11の上に結像せず、パターン不良が発
生しない。またペリクル膜19の上に塵がついた場合、
エアーを吹き付けて取り除くことができる。
ル膜19からなり、このペリクル膜19はニトロセルロ
ースの膜である。ペリクル膜19の上に塵17が付着し
た場合には塵17がパターン16とは異なる平面にある
ためにレジスト11の上に結像せず、パターン不良が発
生しない。またペリクル膜19の上に塵がついた場合、
エアーを吹き付けて取り除くことができる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記の従来の構成では、ペリクル枠やペリ
クル膜の内側に付着した塵が工程作業やレチクル運搬時
にレチクルのパターンの上に移動するため、この塵を除
去するためにペリクル枠やペリクル膜を剥離し、この塵
を除去した後に再度ペリクル枠、ペリクル膜を取り付け
る作業をしなければならないという課題を有していた。
クル膜の内側に付着した塵が工程作業やレチクル運搬時
にレチクルのパターンの上に移動するため、この塵を除
去するためにペリクル枠やペリクル膜を剥離し、この塵
を除去した後に再度ペリクル枠、ペリクル膜を取り付け
る作業をしなければならないという課題を有していた。
本発明は上記従来の課題を解決するもので、ペリクル枠
、ペリクル膜に付着していた塵がレチクルの上に移動せ
ず、したがってマスク保護部材の交換回数を減らすこと
のできるマスク保護部材を提供することを目的とする。
、ペリクル膜に付着していた塵がレチクルの上に移動せ
ず、したがってマスク保護部材の交換回数を減らすこと
のできるマスク保護部材を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
この目的を達成するために本発明のマスク保護部材は、
その内面に粘着性を持たせた構成を有している。
その内面に粘着性を持たせた構成を有している。
作用
この構成によって、保護部材の内側に付着していた塵が
レチクルの上に移動することを防止でき、ペリクル枠や
ペリクル膜の交換回数を減少させることができる。
レチクルの上に移動することを防止でき、ペリクル枠や
ペリクル膜の交換回数を減少させることができる。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
明する。
第1v!Jは本発明の一実施例におけるマスク保護部材
の断面図である。
の断面図である。
パターン1が形成されたレチクル2の両面にペリクル膜
4を貼り付けたペリクル枠3を接着している。このペリ
クル枠3およびペリクル膜4の内面には粘着剤5が予め
塗布されている。
4を貼り付けたペリクル枠3を接着している。このペリ
クル枠3およびペリクル膜4の内面には粘着剤5が予め
塗布されている。
このように構成されたマスク保護部材では、その内面に
塗布した粘着剤5に塵6が固定されてレチクル2の上に
移動することはない。
塗布した粘着剤5に塵6が固定されてレチクル2の上に
移動することはない。
発明の効果
以上のように本発明はペリクル枠やペリクル膜の内面に
粘着剤を塗布しておくことにより、保護部材を装着後に
発生する塵がペリクル枠やペリクル膜からレチクルの王
に移動することがなくなり、塵によるパターン不良やペ
リクル枠またはペリクル膜の交換回数が減少するマスク
の保護部材を実現できるものである。
粘着剤を塗布しておくことにより、保護部材を装着後に
発生する塵がペリクル枠やペリクル膜からレチクルの王
に移動することがなくなり、塵によるパターン不良やペ
リクル枠またはペリクル膜の交換回数が減少するマスク
の保護部材を実現できるものである。
第1図は本発明の一実施例におけるマスク保護部材の断
面図、第2図は縮小投影露光法の一例を示す図、第3図
+alは保護部材を有しないレチクルである。 2・・・・・・レチクル(フォトマスク)、3°°°゛
°°ペリクル枠(枠体)、4・・・・・・ペリクル膜(
透明膜)、5・・・・・・粘着剤。 代理人の氏名 弁理士小蝦治明 ほか2名C砕体) 第2図 第3図
面図、第2図は縮小投影露光法の一例を示す図、第3図
+alは保護部材を有しないレチクルである。 2・・・・・・レチクル(フォトマスク)、3°°°゛
°°ペリクル枠(枠体)、4・・・・・・ペリクル膜(
透明膜)、5・・・・・・粘着剤。 代理人の氏名 弁理士小蝦治明 ほか2名C砕体) 第2図 第3図
Claims (1)
- フォトマスクを保護するための枠体および前記枠体に貼
り付けた透明膜からなり、前記枠体と前記透明膜のフォ
トマスクと対向する面に粘着剤を塗布したことを特徴と
するマスク保護部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2304351A JPH04174846A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | マスク保護部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2304351A JPH04174846A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | マスク保護部材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04174846A true JPH04174846A (ja) | 1992-06-23 |
Family
ID=17931973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2304351A Pending JPH04174846A (ja) | 1990-11-08 | 1990-11-08 | マスク保護部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04174846A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998022851A1 (fr) * | 1996-11-19 | 1998-05-28 | Mitsui Chemicals, Inc. | Membrane |
KR20150003769A (ko) * | 2012-04-18 | 2015-01-09 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 발전된 어닐링 프로세스에서 입자를 감소시키기 위한 장치 및 방법 |
-
1990
- 1990-11-08 JP JP2304351A patent/JPH04174846A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998022851A1 (fr) * | 1996-11-19 | 1998-05-28 | Mitsui Chemicals, Inc. | Membrane |
KR20150003769A (ko) * | 2012-04-18 | 2015-01-09 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 발전된 어닐링 프로세스에서 입자를 감소시키기 위한 장치 및 방법 |
JP2015521368A (ja) * | 2012-04-18 | 2015-07-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | アドバンスアニールプロセスにおいて粒子を低減させる装置および方法 |
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