KR960005804A - 웨이퍼 노광방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 웨이퍼의 노광방법에 관한 것으로, 반도체 제조공정 중 포토 마스크를 이용한 노광(exposure)시 포커스 위치(focus position)를 선정함에 있어 필드영역의 중앙(center)부위 뿐만 아니라 모든 부위를 포커스 위치로 이용하여 특정부위에서의 패턴불량을 감소시키고, 촛점심도(depth of focus)를 향상시키며, 토플러지(topology)차이로 발생되는 넥킹(necking)및 스컴(scum) 현상을 제거할 수 있는 웨이퍼의 노광방법에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 웨이퍼 노광방법을 설명하기 위해 도시한 웨이퍼 평면도이다.
제2도는 본 발명의 제2실시예에 의한 웨이퍼 노광방법을 설명하기 위해 도시한 웨이퍼 평면도이다.
제3도는 본 발명의 제3실시예에 의한 웨이퍼 노광방법을 설명하기 위해 도시한 웨이퍼 평면도이다.
Claims (3)
- 웨이퍼 노광방법에 있어서, 웨이퍼(1)의 필드영역(2)내의 모든 부위를 포커스 위치로 이용하되 필드영역(2)에 다수의 포커스 위치를 정한 다음 이들 포커스 위치를 각각 검사장비로 검사한 후 검사한 결과들의 평균치를 최종 베스트 포커스 위치로 선정하여 노광공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 노광방법.
- 웨이퍼 노광방법에 있어서, 웨이퍼(1)의 필드영역(2)내에 포커스 위치를 노광기의 스테이지위에 웨이퍼(1)를 로딩할 때 좌표 조정방식으로 임의로 선택하여 특정부위를 집중 포커스하여 노광공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 노광방법.
- 웨이퍼 노광방법에 있어서, 웨이퍼(1)의 필드영역(2)상에 소정의 두께로 도포되는 감광막을 반사율 측정장비를 이용하여 다수의 부위에 각각 반사율을 측정하고, 측정된 반사율의 최대치에서 최소치를 뺀 값의 반사율을 구하고, 이 반사율을 갖는 두께로 감광막을 도포하여 노광공정을 실시하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 노광방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940016094A KR960005804A (ko) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 웨이퍼 노광방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940016094A KR960005804A (ko) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 웨이퍼 노광방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960005804A true KR960005804A (ko) | 1996-02-23 |
Family
ID=66689109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940016094A KR960005804A (ko) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 웨이퍼 노광방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960005804A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980015613A (ko) * | 1996-08-23 | 1998-05-25 | 문정환 | 노광장치의 포커스 조절방법 |
-
1994
- 1994-07-06 KR KR1019940016094A patent/KR960005804A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980015613A (ko) * | 1996-08-23 | 1998-05-25 | 문정환 | 노광장치의 포커스 조절방법 |
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