JPH0523255B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） 本発明は３−フエノキシカテコール類を安価に
高収率で製造する方法に関するものである。 （従来の技術） ３−フエノキシカテコール類は写真用化合物の
中間体として有用な化合物である。例えばその有
用性は特開昭61−53643号に記載されている。さ
らに防腐剤、防錆剤、保恒剤、医薬品または染料
などの中間体として用途の開発が見込まれる化合
物である。 （発明が解決しようとする問題点） しかしながらその合成法についてはこれまで具
体的に開示された例はなく、特に大規模なスケー
ルでの安価な製造法の開発が切に望まれていたの
が現状である。 （問題点を解決するための手段） 本発明者等は３−フエノキシカテコール類の合
成法について鋭意研究した結果以下に述べる方法
によつて目的物の得られることを見出し本発明を
完成した。 本発明の目的は、 １ 下記一般式（）で表わされる化合物を酸で
処理することを特徴とする一般式（）で表わ
される３−フエノキシカテコール類の製造方法
および、 ２ 一般式（）で表わされる化合物が、下記一
般式（）で表わされる化合物と下記一般式
（）で表わされる化合物とを塩基の存在下反
応させた反応生成物もしくはそれより誘導した
化合物であることを特徴とする上記１に記載の
３−フエノキシカテコール類の製造方法 によつて構成された。 式中、R₁およびR₂は各々フエニル基、炭素数
１〜10の脂肪族基または炭素数１〜10の脂肪族オ
キシ基を表わし（R₁およびR₂は２価基を表わし
連結して環を形成してもよい）、R₃は炭素数２〜
６の脂肪族オキシカルボニル基を表わし、R₄は
ベンゼン環に置換可能な炭素数10以下の置換基を
表わし、Ｘはハロゲン原子を表わし、R₅はニト
ロ基またはニトロ基より化学的に誘導される基を
表わし、R₆はR₄と同じ基またはR₄より誘導され
る基を表わし、R₇はR₃と同じ基またはR₃より誘
導される基を表わし、ａは０または１を表わし、
ｂは０ないし２の整数を表わす。ここでｂが複数
のとき２つのR₄および２つのR₆は各々同じもの
または異なるものを表わし、また２つのR₄およ
び２つのR₆は各々２価基を表わし環状構造を形
成してもよい。 以下に本発明の構成について詳しく説明する。 一般式（）においてR₁およびR₂が脂肪族基
を表わすとき代表的な例としてはメチル基、エチ
ル基、プロピル基またはベンジル基が挙げられ
る。R₁およびR₂が脂肪族オキシ基を表わすとき
代表的な例としてはメトキシ基およびエトキシ基
が挙げられる。R₁およびR₂が各々２価基を表わ
し環状構造を形成するときの例としては が挙げられる。 R₃で示される脂肪族オキシカルボニル基の代
表的な例としてはメトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、(i)ブ
トキシカルボニル基、または(i)ペンチルオキシカ
ルボニル基が挙げられる。 一般式（）においてR₄で示される置換基の
例としては脂肪族基（例えばメチル基、エチル基
など）、脂肪族オキシ基（例えばメトキシ基、エ
トキシ基など）、ニトロ基、ハロゲン原子（例え
ばクロール原子、ブロム原子）、脂肪族オキシカ
ルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、ドデ
シルオキシカルボニル基など）、シアノ基、また
は脂肪族カルボンアミド基（例えばアセトアミド
基、ピバロイルアミノ基）などが挙げられる。ま
たｂが２であり２つのR₄が２価基を表わし連結
して環状構造を形成するときの代表的な例として
は

【式】

【式】

【式】など が挙げられる。 一般式（）および（）で表わされる化合物
を塩基の存在下反応させその結果生成する生成物
は下記一般式（）で表わされる。反応スキーム
を以下に示す。 式中、R₁、R₂、R₃、R₄、Ｘ，ａおよびｂは既
に説明したのと同じ意味である。 本発明の目的とする一般式（）で示される化
合物は一般式（）で表わされる化合物から直接
得る場合、および

【式】基を残したまま他の 置換基を化学的に修飾し誘導体（）とした後

【式】基を開裂する場合がある。その反応過 程は下記スキームにより示される。 式中、ｎは０ないし10の整数を表わし、ｎが１
以上のときにはｎ個の中間体の存在することを意
味する。ここでｎが複数のとき複数個の中間体は
異なる構造を意味するが、それはR₁およびR₂以
外の置換基（R₅，（R₆）_b、および（R₇）_a）の少な
くとも１個が順次化学的に変換されることを意味
する。化学的な変換とは例えばニトロ基→アミノ
基→カルボンアミド基、またはアルコキシカルボ
ニル基→カルボン酸のような変換を意味する。 前記スキームにおいてR₁、R₂、R₃、R₄、ａお
よびｂは一般式（）および（）において既に
詳しく説明した。R₅、R₆およびR₇について以下
に詳しく説明する。 R₅はニトロ基またはニトロ基より誘導される
アミノ基もしくはカルボンアミド基が代表的な例
である。カルボンアミド基の典型的な例としては
アセトアミド基、ブタンアミド基、ベンズアミド
基、２−（２，４−ジ−ｔ−アミルフエノキシ）
ブタンアミド基、２−（２，４−ジ−ｔ−アミル
フエノキシ）オクタンアミド基またはテトラデカ
ンアミド基が挙げられる。 R₆はR₄と同じ意味の基またはR₄より化学的に
誘導される基を表わし、後者の例としては、ヒド
ロキシル基、アミノ基、カルボンアミド基（例え
ばアセトアミド基、ヘプタフルオロブタンアミド
基など）またはカルボキシル基などが典型的な例
である。 R₇はR₃と同じ意味の基またはR₃より誘導され
る基を表わす。ここでR₃より誘導される基の例
としてはカルボキシル基、カルバモイル基、脂肪
族カルバモイル基（例えばプロピルカルバモイル
基、ｔ−ブチルカルバモイル基、など）、または
芳香族カルバモイル基（たとえばフエニルカルバ
モイル基）などが挙げられる。 次に本発明を構成する製造方法における反応条
件について詳しく説明する。 スキーム（Ｉ）に示した反応において塩基とし
ては金属水酸化物（例えば水酸化カリウム、水酸
化ナトリウムなど）、金属アリコキシド（例えば
ソデイウムメトキシド、ｔ−ブトキシカリなど）、
金属ハイドライド（例えばソデイウムハイドライ
ドなど）、または有機塩基（例えば１，５−ジア
ザビシクロ〔３，４，０〕ノネン−５，１，４−
ジアザビシクロ〔２，２，２〕オクタンなど）な
どが用いられる。使用量は一般式（）の化合物
１モルに対し0.8〜1.5モル、好ましくは0.85〜
1.10モルが適切である。反応溶媒としてはエーテ
ル類（例えばジメトキシエタン、ジグライムな
ど）、アミド類（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなど）、
スルホン類（例えばジメチルスルホン、スルホラ
ンなど）、スルホキシド類（例えばジメチルスル
ホキシド）、または芳香族類（例えばトルエン、
アニソールなど）が用いられる。これらの溶媒は
混合して用いてもよい。反応温度は40℃ないし
200℃、好ましくは70℃ないし150℃である。一般
式（）で表わされる化合物と一般式（）で表
わされる化合物の仕込みモル比は（）／（）
＝0.5〜2.0、好ましくは0.8〜1.5で適宜選択され
る。 スキーム（）に示した反応では触媒を用いて
もよい。用いるときにはU11mann反応として知
られるCu，Cu⁺（例えばCuI，Cuclなど）、Cu²⁺
（例えばCucl₂、CuBr₂など）に代表される金属あ
るいは金属イオンが選択される。 スキーム（）の反応において、NO₂基（R₄）
ｈ基および（R₃）_a基の化学的な変換は例えば還
元反応、加水分解反応、縮合反応または置換反応
など、一般的に公知の反応が適用できる。それら
の反応は常法によつて行なわれる。 スキーム（）の反応において

【式】基の 開裂反応は酸の存在下行なわれる。酸としては、
有機酸または無機酸が使用でき、例えば有機スル
ホン酸類（例えばメタンスルホン酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸など）、有機カルボン酸類（例えば
酢酸、ギ酸など）、無機酸（例えば硫酸、塩酸な
ど）、およびルイス酸（例えば塩化アルミニウム、
塩化亜鉛など）、などが選択される。 これらの酸のなかで、好ましいものは塩酸、硫
酸、または有機スルホン酸類である。酸の使用量
としては触媒量ないし溶媒量いずれでも良くその
使用量によつて反応時間および反応温度が変化す
る。すなわち反応温度は０℃ないし150℃、好ま
しくは40℃ないし100℃で選択される。反応溶媒
としてはアルコール類（例えばメタノール、エタ
ノールなど）、エーテル類（例えばテトラヒドロ
フラン、ジクライムなど）、ハロゲン化炭化水素
類（例えばジクロロメタン、クロロホルムなど）、
ニトリル類（例えばアセトニトリル）、アミド類
（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メ
チルピロリドンなど）、またはスルホキシド類
（例えばジメチルスルホキシド）などが用いられ
る。 一般式（）で表わされる化合物の合成法およ
び、

【式】基の開裂反応は例えばシンセシス （SYNTHESIS）、626頁、1985年に記載されてい
る。また一般式（）で表わされる化合物と類似
の化合物の合成法が、同、122頁、1986年に記載
されている。これらと類似の方法により一般式
（）の化合物は合成される。 次に本発明を具体的に例を挙げて説明する。た
だし本発明はこれらに限定されるわけではない。 この例では５１〜、５２〜、５３〜および５４〜は各
々
一般式（）で示される中間体（ｎ＝４）に相当
する。 −６ １４〜→５１〜（以下、−１と同じ） この例では５１〜、５２〜、５９〜、６０〜、６１〜
およ
び６２〜が各々一般式（）で示される中間体（ｎ
＝６）に相当する。 以下に同様にして合成される化合物の具体的例
を示す。

【式】

【式】

【式】

【式】

【式】

（実施例） 次に、代表的な化合物についてその合成方法を
具体的に示す。他の化合物も同様に合成すること
ができる。 実施例（１） 化合物（55）の合成 既に説明したスキーム−１およびスキーム
−１に従つて合成した。以下に詳しく説明する。 第１工程（１〜＋２〜→３〜） １〜、147.7ｇ、水酸化カリウム、24.6ｇおよび
水15mlをトルエン1lに加え１時間攪拌下加熱還流
した。水およびトルエンを供沸で留去した。残渣
にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド500ml、２〜を70
ｇおよび塩化第一銅0.5ｇを加え120℃で４時間反
応させた、室温に冷却した後塩酸12ml、水150ml
およびメタノール500mlを加えた。析出した結晶
を口取することにより３〜を120ｇ得た。 第２工程（３〜→５１〜） ３〜の55.9ｇをエタノール300mlと水100mlの混合
溶媒に加え窒素ガスを通じた。この溶液に水酸化
カリウムの31.4ｇを加え６時間加熱還流した。室
温にまで冷却し塩酸を加えて中和した。酢酸エチ
ル500mlを加え分液ロートに移し水洗浄した。油
層を分離し減圧下溶媒を留去した。残渣（46.2
ｇ）を全量次工程に用いた。 第３工程（５１〜→５２〜） 段階で得た化合物５１〜の46.2ｇを酢酸エチル
500mlに溶解した。室温で無水ヘプタフルオロブ
タン酸の47.3ｇを滴下した。40分間その温度で反
応させた後、炭酸ナトリウム水を加え中和した。
分液ロートに移し油層をとり水洗浄した。油層を
分離し減圧下溶媒を留去し残渣にクロロホルムを
入れると結晶が析出した。これを除去しロ液を濃
縮することにより５２〜の52.2ｇを得た。 第４工程（５２〜→５３〜→５４〜） ５２〜の29.9ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
40mlおよびアセトニトリル100mlの混合溶媒に溶
解し室温（25℃）で塩化チオニル10.47ｇを滴下
した。10分後−５℃〜−10℃に冷却しプロピルア
ミン15.6ｇを滴下した。その温度で30分間攪拌し
た後酢酸エチル500mlを加え分液ロートに移し水
洗浄した。さらに希塩酸で洗浄した後中性になる
まで水洗浄した。油層をとり減圧で溶媒を留去し
残渣にクロロホルムおよびヘキサンの混合溶媒を
加えることにより結晶化させた。13.5ｇの５４〜を
得た。 第５工程（５４〜→５５〜） ５４〜の13.5ｇをメタノール100mlに加え塩酸
（36％）を4.7ｇ添加し１時間加熱還流した。室温
に冷却後15mlの水を添加した。析出した結晶をロ
取することにより7.6ｇの５５〜を得た。 実施例(1) 化合物例５６〜の合成 スキーム−２およびスキーム−２に従つて
以下のように合成した。下記の例では（４〜＋２〜→
５→５６〜）の２工程を連続して行なつた。 ４の79.1ｇおよび水酸化カリウム18.0ｇをトル
エン2lに添加し攪拌下加熱還流した。１時間後溶
媒を留去しＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド600ml
を加えた。さらに２〜を50.0ｇ加え100°〜110℃で
２時間反応させた（４〜＋２〜→５〜）。室温に冷却し
た後塩酸（36％）30mlを加え40℃で２時間反応さ
せた（５→５６〜。室温に冷却し酢酸エチル1lを加
え分液ロートに移し水洗浄した。油層をとり溶媒
を減圧で留去した。残渣をメタノールで再結晶す
ることにより５６〜を75.3ｇ得た。融点は222℃〜
236℃（dec.）であつた。 実施例(3) 化合物例５７〜の合成 既に説明したスキーム−３および−３に従
つて合成した。化合物１〜の150ｇ、化合物６〜の74
ｇおよびｔ−ブトキシカリの45ｇをテトラヒドロ
フラン500mlに溶解し、室温（25〜27℃）で３時
間反応させた。この反応溶液にメタンスルホン酸
10mlおよび水10mlを加え40〜50℃で３時間反応さ
せた。反応混合物にジクロロメタン1lおよび水1l
を加え攪拌した。油層をとり溶媒を留去した。残
渣に水および少量のメタノールを加え析出した結
晶をロ取することにより125.3ｇの化合物５７〜を
得た。融点は82〜85.5℃であつた。 実施例(4) 化合物例６３〜の合成 実施例(1)の第３工程で得た52を用いて、スキー
ム−７に従つて合成した。 第１工程（５２〜→５９〜） ５２〜の52.2ｇ、還元鉄50ｇ、塩化アンモニウム
３ｇ、および酢酸３mlをイソプロパノール280ml
と水40mlの混合溶媒に加え１時間加熱還流した。
熱いうちにロ過しロ液を減圧で濃縮した。結晶が
析出したところで濃縮をとめ冷却した。析出した
結晶をロ別することにより45.2ｇの化合物５９〜を
得た。 第２工程（５９〜→６０〜） ５９〜の45.2ｇをアセトニトリル500mlに加え加
熱還流下２−（２，４−ジ−ｔ−アミルフエノキ
シ）ブタノイルクロリドの28.3ｇを滴下した。30
分間還流下反応させた。室温に冷却し酢酸エチル
500mlを加え水洗浄した。油層を分離し減圧で溶
媒を留去した。残渣を酢酸エチルとヘキサンより
再結晶し６０〜の56.7ｇを得た。 第３工程（６０〜→６１〜→６２〜） ６０〜の56.7ｇをアセトニトリル250mlとＮ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド250mlの混合溶媒に加え
室温で塩化チオニルの42.4ｇを滴下した。30分間
反応させた後−10℃に冷却した。この溶液にプロ
ピルアミン67.7ｇを０℃以下で滴下した。30分後
酢酸エチルを加え水洗浄した。油層をとり減圧で
溶媒を留去した。残渣をクロロホルムとヘキサン
の混合溶媒により再結晶することにより６２〜を
45.2ｇを得た。 第４工程（６２〜→６３〜） ６２〜の45.2ｇをメタノール300mlと塩酸15mlの
混合溶媒に加え１時間加熱還流した。室温に冷却
後水200mlを加え析出した結晶をロ取することに
より28.6ｇの６３〜を得た。融点は213〜215℃であ
つた。 実施例(5) 化合物例６９〜の合成 実施例(4)の第３工程において用いたプロピルア
ミンの代りにｔ−ブチルアミンを用いて同様にし
て（69）を得た。融点は254〜255℃であつた。 実施例(6) 化合物例７０〜の合成 実施例(4)の第３工程において用いたプロピルア
ミンの代りにアンモニア水（28％水溶液）を用い
て同様にして（70）を得た。融点は149〜151℃で
あつた。 実施例(7) 化合物例７２〜の合成 実施例(4)の第２工程まで同様にして60を53.4ｇ
得た。その53.4ｇの６０〜をＮ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミド200mlに溶解した。塩酸（36％）の50ml
を加え室温で５時間反応させた。水200mlを加え
析出した結晶をロ取することにより72の32.5ｇを
得た。さらにクロロホルムとヘキサンの混合溶媒
より再結晶することにより72の25.3ｇを得た。融
点は236〜238℃（dec.）であつた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記一般式（）で表わされる化合物を酸で
   処理することを特徴とする一般式（）で表わさ
   れる３−フエノキシカテコール類の製造方法。 ２ 一般式（）で表わされる化合物が、下記一
   般式（）で表わされる化合物と下記一般式
   （）で表わされる化合物とを塩基の存在下反応
   させた反応生成物もしくはそれより誘導した化合
   物であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
   に記載の３−フエノキシカテコール類の製造方
   法。 式中、R₁およびR₂は各々フエニル基、炭素数
   １〜10の脂肪族基または炭素数１〜10の脂肪族基
   を表わし、（R₁およびR₂は２価基を表わし連結し
   て環を形成してもよい）、R₃は炭素数２〜６の脂
   肪族オキシカルボニル基を表わし、R₄はベンゼ
   ン環に置換可能な炭素数10以下の置換基を表わ
   し、Ｘはハロゲン原子を表わし、R₅はニトロ基
   またはニトロ基より化学的に誘導される基を表わ
   し、R₆はR₄と同じ基またはR₄より誘導される基
   を表わし、R₇はR₃と同じ基またはR₃より誘導さ
   れる基を表わし、ａは０または１を表わし、ｂは
   ０ないし２の整数を表わす。ここでｂが複数のと
   き２つのR₄および２つのR₆は各々同じものまた
   は異なるものを表わし、また２つのR₄および２
   つのR₆は各々２価基を表わし環状構造を形成し
   てもよい。