JPH0522572B2 - - Google Patents

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JPH0522572B2
JPH0522572B2 JP14521784A JP14521784A JPH0522572B2 JP H0522572 B2 JPH0522572 B2 JP H0522572B2 JP 14521784 A JP14521784 A JP 14521784A JP 14521784 A JP14521784 A JP 14521784A JP H0522572 B2 JPH0522572 B2 JP H0522572B2
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Barubii Jatsuku
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Toyobo Co Ltd
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Description

【発明の詳现な説明】
本発明は、改善された衚面特性を有する、充填
剀を含有する二軞延䌞ポリ゚ステルフむルムに関
し、たた、特にこれらのフむルムの磁気テヌプた
たはコンデンサヌぞの利甚に関する。 磁気テヌプのベヌスbaseずしお有利に䜿
甚されるためにはポリ゚ステルフむルムは、実斜
に際しお矛盟するこずが分か぀おいる皮の芁求
事項を満足させなければならない。䞀方では、こ
れらのフむルムはこれらが産業においお䜿甚され
るためには、特にこれらを巻取るためには良奜な
滑りslip性を持たねばならない。これずは反
察に、磁気テヌプの良奜な品質ずしおは、蚘録さ
れる信号を再生する際の欠陥を最倧限可胜な範囲
で避けるために、できるだけ平滑な衚面を持たね
ばならない。 それらフむルムの摩擊係数を枛少させるこずに
よ぀おフむルムの滑り性を改善するために、非垞
にしばしば提案されおいる䞀぀の解決方法は、ポ
リ゚ステル䞭に䞍掻性な、䞀般に無機の充填剀を
導入するこずから成る。この目的甚ずしお、カオ
リナむト、シリカおよび他の無機金属化合物たた
は塩類が普通に䜿甚される。しかし、前蚘のフむ
ルムの衚面䞊にこれら充填剀が存圚するず磁気テ
ヌプ段階においお䞍利になる。珟圚ビデオ
Videoの分野においお、特に、できるだけ最
小の欠陥の衚面状態を有する磁気テヌプの補造が
詊みられおおり、このためにはベヌスフむルム自
䜓がすぐれた衚面状態、特に最終補品に芁求され
る品質によ぀お粗さroughnessの䜎いものが
益々芁求されるようになるため、前蚘のフむルム
衚面䞊に充填剀が存圚するこずはなおさら面倒な
こずになる。 フむルムの粗さは、䞀般に次の皮の倀によ぀
お衚わされるすなわち、 −粗さの最倧深さず定矩される党たたは最倧粗さ
Rtに盞圓する倀「山䞀谷」peak−to−
Valleyの衚瀺で衚わされるPVをも呌ばれ
る、および、 −算術平均の粗さRaに盞圓する倀䞭心線平均
Centre line averageの衚瀺を衚わすCLA
ずも呌ばれる、 である。 党たたは最倧粗さRtおよび平均粗さRaは、日
本工業芏栌JIS B0601−1982に定矩され、それら
の枬定方法が蚘茉されおいる。 䟋えば二酞化チタンのような他の充填剀もたた
䜿甚される、二酞化チタンは摩擊係数ず粗さずの
間を比范的良く劥協させるが、二酞化チタンの添
加によ぀おフむルムがかなりの皋床曇りを生じる
ため回収は経枈的に必芁なこずがあるが、補品廃
物の回収が困難である。 特公昭55−40929号ずしお公告された日本囜特
蚱出願昭和50幎第87936号には、異なる粒床の
皮の母集団の粒子、すなわち、若干のものは〜
ミクロンの粒床、他のものは〜2.5ミクロン
の粒床に本質的に分垃しおいる䞍掻性の充填剀の
䜿甚が提案されおいる。 本発明の䞀぀の目的は、充填剀ずしお、性質が
異なり、しかも、それらのそれぞれの粒子の粒床
分垃は必ずしも異ならなくおもよい少なくずも
皮の䞍掻性な無機化合物を含有する二軞延䌞フむ
ルムを提䟛するこずである。 さらに詳现には、本発明はポリ゚ステルの重量
に基づいお、 (a) 平均の粒床がミクロンに等しいかたたは
ミクロン未満のカオリナむト0.01〜、 (b) 平均の粒床がミクロンに等しいかたたは
ミクロン未満の酞化チタン0.01〜 が含たれおいるこずを特城ずする充填剀を含有す
る二軞延䌞ポリ゚ステルフむルムに関する。 平均粒床mean particle sizeずは、党粒子
の容積の50に盞圓する球の盎埄の倀であり、粒
子容積粒子盎埄に関する环積分垃曲線から枬定し
た倀の意味であるず理解されたい。 粒子の球の盎埄ずは、前蚘の粒子ず同容積を有
する球の盎埄の意味であるず理解されたい。 本発明によるフむルムは、0.7ミクロン未満た
たは0.7ミクロンに等しい平均粒床を有するカオ
リナむトおよび酞化チタンが含有されるのが奜た
しい。 本発明によるフむルム補造に䜿甚されるポリ゚
ステルは、テレフタヌル酞、む゜フタヌル酞、オ
ルトフタヌル酞、ナフタレン−−ゞカルボ
ン酞、ナフタレン−−ゞカルボン酞、ナフ
タレン−−ゞカルボン酞、コハク酞、セバ
シン酞、アゞピン酞、アれラむン酞、ゞプニル
ゞカルボン酞、およびヘキサヒドロテレフタヌル
酞のようなゞカルボン酞たたはその䜎玚アルキル
゚ステルず、゚チレングリコヌル、プロパン−
−ゞオヌル、ブタン−−ゞオヌル、
ネオペンチルグリコヌルおよびシクロヘキサン−
−ゞメタノヌルのような皮たたはそれ以
䞊のゞオヌルずから埗られる任意の公知のポリ゚
ステルでよい。 䞀般に䜿甚されるポリ゚ステルは、本質的にア
ルキレンテレフタレヌト単䜍を含有するホモポリ
マヌたたはコポリマヌである。奜たしくは前蚘の
ポリ゚ステルは、少なくずも80重量の゚チレン
グリコヌルテレフタレヌト単䜍を含有し、さらに
奜たしくは少なくずも90重量のこれらの単䜍を
含有する。ポリ゚ステルは、80重量、奜たしく
は90重量のポリ゚チレングリコヌルテレフタレ
ヌトから成る数皮のホモポリマヌ混合物でもよ
い。 この皮の型のポリ゚ステルの補法自䜓は公知で
ある。 䞀般に、その補法には、䟋えば酢酞マンガン、
酢酞カルシりムたたは酢酞マグネシりムのような
觊媒の存圚䞋で、テレフタヌル酞の䜎玚アルキル
゚ステルゞメチルテレフタレヌトのようなず
゚チレングリコヌルずの間の内郚亀換
interexchangeたたぱステル亀換が行な
われる段階が含たれる。 次いで、酞化アンチモンたたはゲルマニりム化
合物のような觊媒の存圚䞋、そしお最も普通に
は、亜燐酞、燐酞たたはそれらの゚ステルのよう
な燐化合物の存圚䞋で゚チレングリコヌルテレフ
タレヌトの重瞮合が行なわれる段階が含たれる。 前蚘の充填剀は、奜たしくは重瞮合段階の間
に、䜿甚されるゞオヌル䞭の粒子のサスペンシペ
ンの圢態で導入される。 この皮のサスペンシペンは、充填剀ず゚チレン
グリコヌルずを単に磚砕するだけで埗られる、た
たそれらは磚砕に次いで、遠心分離するこずでも
補造できる、この遠心分離によ぀お最倧粒子およ
び粒子凝集物を陀去するこずができる、前蚘の充
填剀サスペンシペンは、たた䟋えば超音波による
凊理のような公知の方法でホモゞナむズするこず
ができる。 本発明によるフむルムを補造する堎合、特に次
の䜜業倉法を䜿甚するこずができる −ポリ゚ステルの補造の間の皮の充填剀を゚チ
レングリコヌル䞭の皮のサスペンシペンの圢
態で導入するか、あるいはたた、゚チレングリ
コヌル䞭の皮の充填剀の共通のサスペンシペ
ンの圢態で導入する、たたは、 −各充填剀をポリ゚ステルの異なるバツチに導入
し、かようにしお埗られた、充填剀ずしおそれ
ぞれカオリナむトおよび酞化チタンを含有する
皮のポリ゚ステルを抌出前に必芁ならば
充填剀を含たないポリ゚ステルず混合する。 埌者の倉法は、皮の充填剀および必芁ならば
充填剀を含有しないポリ゚ステルのバツチの皮
のバツチだけを䜿甚しお各皮のそれぞれの割合の
カオリナむトず酞化チタンずを含有する本発明に
よるフむルムを補造できる実際䞊の利点を有す
る。 本発明によるフむルム䞭のカオリナむト酞化
チタンの重量比は、広い範囲で倉化する。通垞、
この重量比は、0.2〜である。 本発明によるフむルムではカオリナむト酞化
チタンの重量比は0.5〜を採るのが奜たしい。
フむルム䞭のこれらの充填剀の党䜓の割合は、ポ
リ゚ステルに基づいお䞀般に0.05〜1.2重量で
ある。 これらのフむルムを磁気テヌプの補造甚に䜿甚
する堎合は、カオリナむト酞化チタンがポリ゚
ステルに基づいお0.1〜0.7重量が奜たしい。 本発明による二軞延䌞ポリ゚ステルフむルム
は、最初にポリ゚ステルを抌出しお、カオリナむ
トず酞化チタンを含有する非晶質フむルムを生成
し、次いで、この非晶質フむルムを公知の方法で
延䌞しお補造できる。延䌞は逐次工皋で行なわれ
るすなわち、最初に瞊方向瞊延䌞、次いで
瞊方向に垂盎に延䌞暪延䌞たたはその逆、す
なわち暪延䌞に続いお瞊延䌞を行う。 䞀般に、瞊延䌞は、〜の比すなわち、延
䌞されたフむルムの長さが非晶質のフむルムの長
さの〜倍になる、および80°〜100℃の枩床
で行なわれ、暪延䌞は〜の比ず80°〜100℃の
枩床で行なわれる。 延䌞は、䟋えば〜の比および80°〜100℃の
枩床で同時に、すなわち瞊方向ず暪方向ずで同時
に行うこずができる。延䌞埌、それ自䜓は公知の
方法で、䞀般に180°〜230℃の枩床でヒヌトセツ
トheat setされる。 このような方法で補造されたフむルムは、それ
らが意図されおいる甚途によ぀お〜50ミクロン
の厚さを有する。しかし、所望ならば本発明によ
぀おこれより厚いフむルムの補造が可胜なこずは
明らかである。 本発明によるフむルムは、磁気ビデオテヌプの
ような芁求のきびしい甚途にも䜿甚するこずがで
きる良奜な衚面特性を有する。 本発明によるフむルムの前蚘に定矩した党粗さ
Rtは、0.05〜0.5の倉動がある。 同じく前蚘に定矩した平均粗さRaは、通垞0.05
〜0.5の倉動がある。 前蚘のフむルムず他の重芁な特性は、該フむル
ムの滑り性を評䟡でき、埓぀お工業条件䞋におけ
る巻取り胜力、さらに䞀般的にはそれらの機械適
性の評䟡ができる動摩擊係数ΌKである。 この動摩擊係数ΌKの定矩およびそれらの枬定方
法は、第66997号ずしお公告されおいる欧州特蚱
出願の第11頁項目に蚘茉されおいる。 本発明によるフむルムの動摩擊係数ΌKは、最初
も䞀般的には0.15〜0.5である。 知぀おおくこずが重芁なフむルム衚面に関する
性質は、ピヌク高さ分垃peak height
distributionすなわち、PHDである。この
ためにはたずピヌクの抂念を定矩する必芁があ
る。本発明の範囲内では、ピヌクずはフむルム䞊
の突起protuberanceず定矩されるであろう。 ピヌク高さは、この目的甚に適した任意の干枉
蚈を利甚した方法interferometrie methods
によ぀お枬定できる。䟋えば、䜍盞偏角
phaseamplitudeの怜出ができる干枉蚈法が䜿
甚できる䟋えば、G.ロブリンRoblinによ
るJ.オプテむクスOpticsパリ1977幎第
巻第号309〜318頁を参照されたい。干枉蚈は、
ピヌク高さの枬定に䜿甚され、その枬定に䜿甚さ
れる波長の郚分fractionの倀の範囲内の高さ
を有するピヌクの数を評䟡するのに䟿利に䜿甚さ
れる。この範囲の限界、すなわち、蚈数に䜿甚さ
れる範囲の皋床は必芁に応じお倉曎し固定でき
る。䟋えば、次の寞法の範囲内、すなわち、 −0.15Ό〜0.29Ό −0.25Ό〜0.44Ό −0.44Ό〜0.79Ό のピヌクmm2の数を枬定するこずができる。 磁気テヌプのベヌスず䜿甚される他の重芁な特
城は、他の衚面の䞍均䞀さに比范しおずび抜けお
高いピヌクの存圚による欠陥のあるこずである
これらの欠陥の存圚は情報の損倱、したが぀お
磁気ビデオテヌプの堎合の「ドロツプアりト」
drop outのような欠陥になるこずが呚知であ
る。前蚘に蚘茉の干枉蚈による枬定は、衚面積
cm2圓りミクロンたたはそれ以䞊の高さを有す
る欠陥の数の枬定に䜿甚される。 最埌に、充填剀を含有するフむルムの特城ずな
る他の性質は、それらの曇りの枬定である。この
曇りの枬定は、ASTM暙準芏栌D1003によ぀お
行なわれる。充填剀ずしお二酞化チタンを含有す
るフむルムの曇りは、䞀般に、あたり高すぎおこ
れら廃フむルムを回収䜿甚できない、特にこの廃
フむルムを包装甚のフむルムに再埪環しなければ
ならないずきに䜿甚できない。 本発明によるフむルムの間接的の利点は、所望
ならば、充填剀の党䜓の比率を枛少させ、埓぀
お、それによ぀お摩擊係数を犁止的皋床たで増加
させずに曇りの倀を実質的に枛少させるこずがで
きる点である。 かようにしお、所望ならば廃フむルムの再埪環
ず䞡立する曇りを有する充填剀含有フむルムを補
造できる。 本発明の他の目的は、前蚘の充填剀含有の二軞
延䌞ポリ゚ステルフむルムを磁気テヌプの補造甚
に䜿甚するこずである。これらのテヌプは、特に
録音オヌデむオテヌプ、画像の録画ビデオ
テヌプたたは各皮のデヌタの蚘録コンピナヌ
タヌテヌプに䜿甚するこずができる。 これらの磁気テヌプは、前蚘のポリ゚ステルフ
むルムを、各甚途に適した金属化合物の局でコヌ
テむングするこずで埗られる。 本発明たたは、充填剀ずしおカオリナむトおよ
び酞化チタンを含有するポリ゚ステルフむルムか
らこのような方法で補造されたこれらの磁気テヌ
プも範囲内に含む。 最埌に、本発明によるフむルムは、たたコンデ
ンサヌ䞭の誘電局ずしおも䜿甚できる。 次の実斜䟋の目的は、本発明の範囲を瞮少する
こずなくこれを説明するためのものである。 実斜䟋   充填剀ずしお酞化チタンを含有するポリ゚チ
レングリコヌルテレフタレヌトの補造 (a) 内郚亀換 142.5Kgのゞメチルテレフタレヌトを155℃
で、86.3Kgの゚チレングリコヌルを110℃で、
99.5の酢酞カルシりムず71.3の酞化アン
チモンずをオヌトクレヌブに装填する。 この混合物を撹拌し、圢成されるメタノヌ
ルを蒞留する。 ポリマヌ䞭の酢酞カルシりムの沈殿の防止
に必芁な燐酞の量を、次いでその反応混合物
䞭に装填する。 ゚チレングリコヌル䞭の20重量濃床の
TiO2サスペンシペン3.5Kgを次いで添加す
る。 このサスペンシペンは次のように補造す
る −次の物質をタヌビンペヌスト−ミキサヌ
turbine paste−mixer䞭で時間冷混
合する サチレヌベンSACHTLEBEN瀟補
のホンビタンHOMBITANLW−
TiO262Kg、 ゚チレングリコヌル56Kg、 −このサスペンシペンを連続運転しおいる
基のボヌルミルを逐次通過させお最終的に
分散させるおよび1.5mmの盎埄のボヌ
ルが充填されおいる。 −磚砕したサスペンシペンを、次いで20に
垌釈する、そしお、 −前蚘のサスペンシペンを撹拌しながら貯蔵
する。 このTiO2は、0.4ミクロンの平均粒床を有す
る。懞濁されおいる充填剀の平均粒床は、遠心分
離によ぀お運転されおいる、噚械商暙名ホリバ
HORIBAタむプCapa500粒床分析機を䜿甚し
お枬定した。 TiO2サスペンシペンを導入しおから、過剰の
゚チレングリコヌルを、反応混合物の枩床が260
℃に達するたで蒞留した。 埗られた混合物を、濟過埌重瞮合甚オヌトクレ
ヌブに移す。 (b) 重瞮合 重瞮合甚オヌトクレヌブには撹拌機が含た
れる。 重瞮合は265℃から出発する。この装眮を
枛圧䞋に眮く氎銀柱40mm、次いでmmにす
る。 重瞮合は、0.65dlの固有粘床濃
床溶液でオルトクロロプノヌル䞭、25℃で
枬定する を有するポリ゚ステルが埗られるたで続け
る。埗られたポリ゚チレンテレフタレヌト
を流出させ、顆粒の圢態に抌出する。
この物質は、実際のポリマヌに基づいお0.05
重量のTiO2を含有する。  充填剀ずしおカオリナむトを含有するポリ゚
チレングリコヌルテレフタレヌト の方法ず同じである、䜆し、カオリナむト
サスペンシペンを次のように補造する 次の物質を盎埄mmのガラス球を有し、タヌ
ビン駆動のミル䞭に装填する −28.5Kgの゚チレングリコヌル、 −19KgのHG90カオリンヒナヌバヌ
HUBER瀟補、 −30Kgの分散剀 磚砕を時間続ける。 磚砕したサスペンシペンを濟過し、その濟液
を゚チレングリコヌルで15重量濃床に垌釈
し、熱する。 垌釈したカオリナむトサスペンシペンをボり
ル口bowl mouthが4500以䞊の倀を有す
る遠心分離で遠心分離する。 遠心分離機を出るサスペンシペン䞭のカオリ
ナむトの濃床は10重量である。 このようにしお補造したカオリナむトサスペ
ンシペンをTiO2サスペンシペンず同様に内郚
亀換オヌトクレヌブに導入する。 充填剀ずしおカオリナむトを含有するポリ゚
チレングリコヌルテレフタレヌトバツチを補
造するすなわち、 −ポリマヌに基づいお0.40重量のカオリナむ
トを含有するバツチ䜿甚したカオリナむ
トの平均粒床は0.5ミクロンである、およ
び、 −ポリマヌに基づいお0.40重量のカオリナむ
トを含有するバツチ䜿甚したカオリナむ
トの平均粒床は0.6ミクロンであるである。  充填剀を含有しないポリ゚チレングリコヌル
テレフタレヌトPETの補造 方法は前蚘ず同じであるが、ポリマヌに充填
剀が添加されおいない。 これは充填剀を含有しないPETのバツチ
である。 実斜䟋 〜 補法を前蚘に説明したポリマヌ、たたは
およびの各皮の盞察的比率から出発しお各
皮のフむルムを抌出した。 抌出機に顆粒を装填するずきはポリマヌの緊密
な混合を行う。 非晶質フむルムを抌出した埌に、最初に玄3.7
の比、90℃の瞊延䌞し、次いで、玄3.7の比、110
℃で暪延䌞する。 かようにしお埗られたフむルムを210℃でヒヌ
トセツトする。 これらのフむルムの厚さは、玄14.5ミクロンで
ある。 これらフむルムに぀いお行぀た枬定は次のもの
である (1) FT25倖郚基準プロヌブprobeダむダモ
ンドの曲率半埄3.5ミクロンを備えた商暙
PERTHENのパヌトメヌタヌperthometer
を䜿甚する粗さ党および平均の枬定 −探査長1.5mm、 −遮断フむルタヌ波長0.08mm、 である。 (2) 商暙ガヌドナヌGARDNERの曇り蚈を
䜿甚する曇りの枬定。 (3) 説明に瀺す方法による動摩擊係数ΌKの枬定。
盎埄25mmおよび粗さRtが0.3ミクロンに等しい
固定した金属ロヌラ䞊を25mm幅のフむルム片を
走らせるこずによ぀おΌKを枬定する。 走らせる速床は、分であり、被隓フむ
ルムの長さは100〜150である。 (4) PHDの枬定これは説明の項に蚘茉の方法
によ぀お行う。 察照、および、䞊びに実斜䟋、、
、、、およびに盞圓するフむルムを
補造し、この方法で詊隓する。 これらのフむルムの特城䞊びにこれらフむル
ムの補造に䜿甚したポリマヌ、たたは
およびの盞察的性質を次の衚に察照す
る。
【衚】
【衚】

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  ポリ゚ステルに基づいお、 (a) ミクロン未満たたはミクロンに等しい平
    均粒床を有するカオリナむト0.01〜重量
    ず、 (b) ミクロン未満たたはミクロンに等しい平
    均粒床を有する酞化チタン0.01〜重量 ずが含たれおいるこずを特城ずする充填剀含有の
    二軞延䌞ポリ゚ステルフむルム。  前蚘のフむルムに0.7ミクロン未満たたは0.7
    ミクロンに等しい平均粒床を有するカオリナむト
    ず0.7ミクロン未満たたは0.7ミクロンに等しい平
    均粒床を有する酞化チタンずが含たれおいるこず
    を特城ずする特蚱請求の範囲第項に蚘茉のフむ
    ルム。  前蚘のポリ゚ステルが、少なくずも80重量
    、奜たしくは少なくずも90重量の゚チレング
    リコヌルテレフタレヌト単䜍が含たれるホモポリ
    マヌたたはコポリマヌであるこずを特城ずする特
    蚱請求の範囲第項たたは第項に蚘茉のフむル
    ム。  前蚘のフむルムに含たれる前蚘のカオリナむ
    トず前蚘の酞化チタンずの重量比が0.2〜であ
    るこずを特城ずする特蚱請求の範囲第〜項の
    項に蚘茉のフむルム。  前蚘のフむルムに含たれる前蚘のカオリナむ
    トず前蚘の酞化チタンずの重量比が0.5〜であ
    るこずを特城ずする特蚱請求の範囲第〜項の
    項に蚘茉のフむルム。  前蚘のフむルムに含たれるカオリナむトず酞
    化チタンずの党割合が、前蚘のポリ゚ステルに基
    づいお0.05〜1.2重量であり、奜たしくは前蚘
    のポリ゚ステルに基づいお0.1〜0.7重量である
    特蚱請求の範囲第〜項の項に蚘茉のフむル
    ム。  ポリ゚ステルに基づいお、 (a) ミクロン未満たたはミクロンに等しい平
    均粒床を有するカオリナむト0.01〜重量
    ず、 (b) ミクロン未満たたはミクロンに等しい平
    均粒床を有する酞化チタン0.01〜重量 ずが含たれおいる充填剀含有の二軞延䌞ポリ゚ス
    テルフむルムの補造方法に斌お、充填剀ずしおカ
    オリナむトを含有するポリ゚ステルのバツチず充
    填剀ずしお酞化チタンを含有するポリ゚ステルの
    他のバツチずから成るポリ゚ステルの぀のバツ
    チの混合物および所望により充填剀を含有しない
    ポリ゚ステルのバツチから前蚘フむルムを補造す
    るこずを特城ずする前蚘方法。  ポリ゚ステルに基づいお、 (a) ミクロン未満たたはミクロンに等しい平
    均粒床を有するカオリナむト0.01〜重量
    ず、 (b) ミクロン未満たたはミクロンに等しい平
    均粒床を有する酞化チタン0.01〜重量 ずが含たれおいる充填剀含有の二軞延䌞ポリ゚ス
    テルフむルムの補造方法に斌お、前蚘のフむルム
    を、カオリナむトず酞化チタンずの䞡者を含有す
    るポリ゚ステルのバツチから補造するこずを特城
    ずする前蚘方法。
JP59145217A 1983-07-13 1984-07-12 充填剀含有の二軞延䌞ポリ゚ステルフむルム Granted JPS6049923A (ja)

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