JPH05209045A - 熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物 - Google Patents
熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物Info
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- JPH05209045A JPH05209045A JP4221592A JP4221592A JPH05209045A JP H05209045 A JPH05209045 A JP H05209045A JP 4221592 A JP4221592 A JP 4221592A JP 4221592 A JP4221592 A JP 4221592A JP H05209045 A JPH05209045 A JP H05209045A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】耐久性を有し、熱可塑性合成高分子本来の物性
を低下させることなく優れた帯電防止性を付与できる、
熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体
組成物。 【構成】熱可塑性合成高分子用改質剤は、特定のホスホ
ニウムスルホイソフタレート単位を６０モル％以上含有
するジカルボン酸単位Ａと、特定のポリオキシアルキレ
ンジオール単位Ｂと、特定の２価アルコールより導かれ
るジオール単位Ｃとで構成され、且つジカルボン酸単位
Ａに属するホスホニウムスルホイソフタレート単位／ポ
リオキシアルキレンジオール単位Ｂ中に含まれるオキシ
エチレン単位＝１／５〜１／３５（モル比）の割合で構
成されたポリエーテルポリエステルから成る。また重合
体組成物は、上記の熱可塑性合成高分子用改質剤をスル
ホイソフタレート単位として０．１〜５重量％と、分子
中にスルホン酸基を有しない熱可塑性合成高分子とから
成る。
を低下させることなく優れた帯電防止性を付与できる、
熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体
組成物。 【構成】熱可塑性合成高分子用改質剤は、特定のホスホ
ニウムスルホイソフタレート単位を６０モル％以上含有
するジカルボン酸単位Ａと、特定のポリオキシアルキレ
ンジオール単位Ｂと、特定の２価アルコールより導かれ
るジオール単位Ｃとで構成され、且つジカルボン酸単位
Ａに属するホスホニウムスルホイソフタレート単位／ポ
リオキシアルキレンジオール単位Ｂ中に含まれるオキシ
エチレン単位＝１／５〜１／３５（モル比）の割合で構
成されたポリエーテルポリエステルから成る。また重合
体組成物は、上記の熱可塑性合成高分子用改質剤をスル
ホイソフタレート単位として０．１〜５重量％と、分子
中にスルホン酸基を有しない熱可塑性合成高分子とから
成る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は熱可塑性合成高分子用改
質剤及びこれを含有する重合体組成物に関する。熱可塑
性合成高分子は、材料として優れた特性を有するため、
種々の産業分野に広く利用されている。しかし、熱可塑
性合成高分子は一般に非極性的性質が大きいため、帯電
防止性に問題がある。本発明は、熱可塑性合成高分子
に、耐久性を有する、且つ該熱可塑性合成高分子本来の
物性を低下させることのない、優れた帯電防止性を付与
できる改質剤、及びこれを含有する重合体組成物に関す
るものである。
質剤及びこれを含有する重合体組成物に関する。熱可塑
性合成高分子は、材料として優れた特性を有するため、
種々の産業分野に広く利用されている。しかし、熱可塑
性合成高分子は一般に非極性的性質が大きいため、帯電
防止性に問題がある。本発明は、熱可塑性合成高分子
に、耐久性を有する、且つ該熱可塑性合成高分子本来の
物性を低下させることのない、優れた帯電防止性を付与
できる改質剤、及びこれを含有する重合体組成物に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、熱可塑性合成高分子に帯電防止性
を付与する手段として、該熱可塑性合成高分子に極性基
を有する化合物を添加する数多くの試みがなされてい
る。これには例えば、１）ポリアルキレンオキサイドを
添加する例（ＵＳＰ３６５５８２１）、２）ポリアルキ
レンオキサイドとスルホン酸塩とを添加する例（ＵＳＰ
３５６０５９１）、３）ポリアルキレングリコールエー
テル鎖及びポリエステル鎖を有するブロックポリエーテ
ルエステルとスルホン酸塩とを添加する例（ＵＳＰ４０
３８２５８）、４）分子中にスルホン酸塩を導入したポ
リエーテルエステルを添加する例（ＵＳＰ４００６１２
３）等がある。
を付与する手段として、該熱可塑性合成高分子に極性基
を有する化合物を添加する数多くの試みがなされてい
る。これには例えば、１）ポリアルキレンオキサイドを
添加する例（ＵＳＰ３６５５８２１）、２）ポリアルキ
レンオキサイドとスルホン酸塩とを添加する例（ＵＳＰ
３５６０５９１）、３）ポリアルキレングリコールエー
テル鎖及びポリエステル鎖を有するブロックポリエーテ
ルエステルとスルホン酸塩とを添加する例（ＵＳＰ４０
３８２５８）、４）分子中にスルホン酸塩を導入したポ
リエーテルエステルを添加する例（ＵＳＰ４００６１２
３）等がある。
【０００３】ところが上記１）の従来例には、所望の効
果を得るためにポリアルキレンオキサイドの添加量を高
める必要があるため、熱可塑性合成高分子本来の物性を
低下させるという欠点がある。また上記２）及び３）の
従来例には、添加したスルホン酸塩が水や溶剤等によっ
て容易に除去されるため、付与した帯電防止性の耐久性
が低いという欠点がある。更に上記４）の従来例には、
熱可塑性合成高分子中にポリエーテルエステルを特殊な
多層構造の形態で存在させなければならないという欠点
がある。そして上記１）〜４）の従来例には、付与した
帯電防止性が低湿度条件下において急激に低下するとい
う欠点がある。
果を得るためにポリアルキレンオキサイドの添加量を高
める必要があるため、熱可塑性合成高分子本来の物性を
低下させるという欠点がある。また上記２）及び３）の
従来例には、添加したスルホン酸塩が水や溶剤等によっ
て容易に除去されるため、付与した帯電防止性の耐久性
が低いという欠点がある。更に上記４）の従来例には、
熱可塑性合成高分子中にポリエーテルエステルを特殊な
多層構造の形態で存在させなければならないという欠点
がある。そして上記１）〜４）の従来例には、付与した
帯電防止性が低湿度条件下において急激に低下するとい
う欠点がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来例では、もともと所望の帯電防止性を
付与できず、或はまたその耐久性が低かったり、熱可塑
性合成高分子本来の物性を低下させる点である。
する課題は、従来例では、もともと所望の帯電防止性を
付与できず、或はまたその耐久性が低かったり、熱可塑
性合成高分子本来の物性を低下させる点である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】しかして本発明者らは、
上記観点で鋭意研究した結果、スルホン酸ホスホニウム
を置換基とするイソフタル酸誘導体を所定量以上含有す
るジカルボン酸成分と、所定割合で特定のポリオキシア
ルキレンジオールと、特定の２価アルコールとを共重合
したポリエーテルポリエステルを用いることが正しく好
適であることを見出した。
上記観点で鋭意研究した結果、スルホン酸ホスホニウム
を置換基とするイソフタル酸誘導体を所定量以上含有す
るジカルボン酸成分と、所定割合で特定のポリオキシア
ルキレンジオールと、特定の２価アルコールとを共重合
したポリエーテルポリエステルを用いることが正しく好
適であることを見出した。
【０００６】すなわち本発明は、下記Ａのジカルボン酸
単位と、下記Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位
と、下記Ｃのジオール単位とで構成され、且つＡのジカ
ルボン酸単位に属するホスホニウムスルホイソフタレー
ト単位／Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位中に含
まれるオキシエチレン単位＝１／５〜１／３５（モル
比）の割合で構成されたポリエーテルポリエステルから
成ることを特徴とする熱可塑性合成高分子用改質剤、及
び該熱可塑性合成高分子用改質剤と、分子中にスルホン
酸基を有しない熱可塑性合成高分子とから成り、且つ該
熱可塑性合成高分子用改質剤を下記の式２で示されるス
ルホイソフタレート単位として０．１〜５重量％含有し
て成る重合体組成物に係わる。
単位と、下記Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位
と、下記Ｃのジオール単位とで構成され、且つＡのジカ
ルボン酸単位に属するホスホニウムスルホイソフタレー
ト単位／Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位中に含
まれるオキシエチレン単位＝１／５〜１／３５（モル
比）の割合で構成されたポリエーテルポリエステルから
成ることを特徴とする熱可塑性合成高分子用改質剤、及
び該熱可塑性合成高分子用改質剤と、分子中にスルホン
酸基を有しない熱可塑性合成高分子とから成り、且つ該
熱可塑性合成高分子用改質剤を下記の式２で示されるス
ルホイソフタレート単位として０．１〜５重量％含有し
て成る重合体組成物に係わる。
【０００７】Ａ：下記の式１で示されるホスホニウムス
ルホイソフタレート単位が６０〜１００モル％と、脂肪
族ジカルボン酸単位及び芳香族ジカルボン酸単位から選
ばれるジカルボン酸単位が４０〜０モル％とから成るジ
カルボン酸単位 Ｂ：オキシアルキレン単位としてオキシエチレン単位を
５０モル％以上含有するポリオキシアルキレンジオール
単位 Ｃ：炭素数２〜２０の２価アルコールより導かれるジオ
ール単位
ルホイソフタレート単位が６０〜１００モル％と、脂肪
族ジカルボン酸単位及び芳香族ジカルボン酸単位から選
ばれるジカルボン酸単位が４０〜０モル％とから成るジ
カルボン酸単位 Ｂ：オキシアルキレン単位としてオキシエチレン単位を
５０モル％以上含有するポリオキシアルキレンジオール
単位 Ｃ：炭素数２〜２０の２価アルコールより導かれるジオ
ール単位
【０００８】
【式１】
【０００９】［式１において、Ｒ1〜Ｒ4：同時に同一又
は異なる、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基、芳香族
炭化水素基、アラルキル基、アルキルアリル基］
は異なる、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基、芳香族
炭化水素基、アラルキル基、アルキルアリル基］
【００１０】
【式２】
【００１１】式１で示されるホスホニウムスルホイソフ
タレート単位において、そのカチオン部分を構成するホ
スホニウムとしては、１）テトラメチルホスホニウム、
テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウ
ム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブチルメチル
ホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウム、トリ
ブチルエチルホスホニウム、トリメチルブチルホスホニ
ウム、トリエチルオクチルホスホニウム、トリブチルオ
クチルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウ
ム、トリメチルステアリルホスホニウム等の、脂肪族炭
化水素基を有するホスホニウム、２）テトラフェニルホ
スホニウム、トリフェニルメチルホスホニウム、トリフ
ェニルエチルホスホニウム等の、芳香族炭化水素基を有
するホスホニウム、３）トリフェニルベンジルホスホニ
ウム、トリトルイルブチルホスホニウム、トリブチルベ
ンジルホスホニウム等の、アラルキル基又はアルキルア
リル基を有するホスホニウムが挙げられる。これらのう
ちでは、テトラブチルホスホニウム、テトラフェニルホ
スホニウムが有利である。
タレート単位において、そのカチオン部分を構成するホ
スホニウムとしては、１）テトラメチルホスホニウム、
テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウ
ム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブチルメチル
ホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウム、トリ
ブチルエチルホスホニウム、トリメチルブチルホスホニ
ウム、トリエチルオクチルホスホニウム、トリブチルオ
クチルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウ
ム、トリメチルステアリルホスホニウム等の、脂肪族炭
化水素基を有するホスホニウム、２）テトラフェニルホ
スホニウム、トリフェニルメチルホスホニウム、トリフ
ェニルエチルホスホニウム等の、芳香族炭化水素基を有
するホスホニウム、３）トリフェニルベンジルホスホニ
ウム、トリトルイルブチルホスホニウム、トリブチルベ
ンジルホスホニウム等の、アラルキル基又はアルキルア
リル基を有するホスホニウムが挙げられる。これらのう
ちでは、テトラブチルホスホニウム、テトラフェニルホ
スホニウムが有利である。
【００１２】Ａのジカルボン酸単位は、前記したような
式１で示されるホスホニウムスルホイソフタレート単位
を、全ジカルボン酸単位中で６０モル％以上、好ましく
は７０モル％以上、更に好ましくは８０モル％以上含有
するものである。式１で示されるホスホニウムスルホイ
ソフタレート単位の占める割合が全ジカルボン酸単位中
で６０モル％未満の場合、帯電防止性を付与する上で、
熱可塑性合成高分子用改質剤を多量に添加する必要があ
り、このため熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させ
る。
式１で示されるホスホニウムスルホイソフタレート単位
を、全ジカルボン酸単位中で６０モル％以上、好ましく
は７０モル％以上、更に好ましくは８０モル％以上含有
するものである。式１で示されるホスホニウムスルホイ
ソフタレート単位の占める割合が全ジカルボン酸単位中
で６０モル％未満の場合、帯電防止性を付与する上で、
熱可塑性合成高分子用改質剤を多量に添加する必要があ
り、このため熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させ
る。
【００１３】Ａのジカルボン酸単位において、式１で示
されるホスホニウムスルホイソフタレート単位以外のジ
カルボン酸単位は脂肪族ジカルボン酸単位及び芳香族ジ
カルボン酸単位から選ばれる１種又は２種以上である。
かかる脂肪族ジカルボン酸単位としては、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、イコサン二酸等
の脂肪族ジカルボン酸から誘導される脂肪族ジカルボン
酸単位が挙げられ、また芳香族ジカルボン酸単位として
は、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボ
ン酸等の芳香族ジカルボン酸から誘導される芳香族ジカ
ルボン酸単位が挙げられるが、これらのうちではテレフ
タル酸単位が好ましい。Ａのジカルボン酸単位は、かか
る脂肪族ジカルボン酸単位及び／又は芳香族ジカルボン
酸単位を、全ジカルボン酸単位中で４０モル％以下、好
ましくは３０モル％以下、更に好ましくは２０モル％以
下含有するものである。
されるホスホニウムスルホイソフタレート単位以外のジ
カルボン酸単位は脂肪族ジカルボン酸単位及び芳香族ジ
カルボン酸単位から選ばれる１種又は２種以上である。
かかる脂肪族ジカルボン酸単位としては、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、イコサン二酸等
の脂肪族ジカルボン酸から誘導される脂肪族ジカルボン
酸単位が挙げられ、また芳香族ジカルボン酸単位として
は、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボ
ン酸等の芳香族ジカルボン酸から誘導される芳香族ジカ
ルボン酸単位が挙げられるが、これらのうちではテレフ
タル酸単位が好ましい。Ａのジカルボン酸単位は、かか
る脂肪族ジカルボン酸単位及び／又は芳香族ジカルボン
酸単位を、全ジカルボン酸単位中で４０モル％以下、好
ましくは３０モル％以下、更に好ましくは２０モル％以
下含有するものである。
【００１４】Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位と
しては、１）エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、１，６−ヘキサンジオール等の脂肪族グリコール、
２）シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−１，４
−ジメタノール等の脂環族グリコール、３）ｐ−キシリ
レングリコール等の芳香族炭化水素基を有するグリコー
ルに、炭素数２〜４のアルキレンオキサイドを付加した
ポリオキシアルキレンジオールから誘導されるポリオキ
シアルキレンジオール単位が挙げられる。Ｂのポリオキ
シアルキレンジオール単位は、オキシアルキレン単位と
してオキシエチレン単位を５０モル％以上、好ましくは
７０モル％以上含有するもので、オキシエチレン単位と
オキシプロピレン単位やオキシブチレン単位等のその他
のオキシアルキレン単位とはブロック構造をとるものが
好ましく、またその分子量は２００〜６０００、なかで
も４００〜４０００のものが好ましい。
しては、１）エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコー
ル、１，６−ヘキサンジオール等の脂肪族グリコール、
２）シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−１，４
−ジメタノール等の脂環族グリコール、３）ｐ−キシリ
レングリコール等の芳香族炭化水素基を有するグリコー
ルに、炭素数２〜４のアルキレンオキサイドを付加した
ポリオキシアルキレンジオールから誘導されるポリオキ
シアルキレンジオール単位が挙げられる。Ｂのポリオキ
シアルキレンジオール単位は、オキシアルキレン単位と
してオキシエチレン単位を５０モル％以上、好ましくは
７０モル％以上含有するもので、オキシエチレン単位と
オキシプロピレン単位やオキシブチレン単位等のその他
のオキシアルキレン単位とはブロック構造をとるものが
好ましく、またその分子量は２００〜６０００、なかで
も４００〜４０００のものが好ましい。
【００１５】Ｃのジオール単位は、炭素数２〜２０の２
価アルコールから誘導されるジオール単位である。かか
る２価アルコールとしては、１）エチレングリコール、
プロピレングリコール、１，４ブタンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、１，６ヘキサンジオール等の脂肪族
グリコール、２）シクロヘキサンジオール、シクロヘキ
サン−１，４−ジメタノール等の脂環族グリコール、
３）ｐ−キシリレングリコール等の芳香族炭化水素基を
有するグリコールが挙げられる。かかる２価アルコール
から誘導されるジオール単位のうちでは、エチレングリ
コール単位が有利である。
価アルコールから誘導されるジオール単位である。かか
る２価アルコールとしては、１）エチレングリコール、
プロピレングリコール、１，４ブタンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、１，６ヘキサンジオール等の脂肪族
グリコール、２）シクロヘキサンジオール、シクロヘキ
サン−１，４−ジメタノール等の脂環族グリコール、
３）ｐ−キシリレングリコール等の芳香族炭化水素基を
有するグリコールが挙げられる。かかる２価アルコール
から誘導されるジオール単位のうちでは、エチレングリ
コール単位が有利である。
【００１６】本発明の熱可塑性合成高分子用改質剤とし
て用いるポリエーテルポリエステルは、Ａのジカルボン
酸単位と、Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位と、
Ｃのジオール単位とで構成され、且つＡのジカルボン酸
単位に属するホスホニウムスルホイソフタレート単位／
Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位中に含まれるオ
キシエチレン単位＝１／５〜１／３５（モル比）、好ま
しくは１／８〜１／２０（モル比）の割合で構成されて
成るものである。かかるホスホニウムスルホイソフタレ
ート単位とオキシエチレン単位との割合は、熱可塑性合
成高分子に耐久性を有する所望の帯電防止性を付与する
上で極めて重要である。
て用いるポリエーテルポリエステルは、Ａのジカルボン
酸単位と、Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位と、
Ｃのジオール単位とで構成され、且つＡのジカルボン酸
単位に属するホスホニウムスルホイソフタレート単位／
Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位中に含まれるオ
キシエチレン単位＝１／５〜１／３５（モル比）、好ま
しくは１／８〜１／２０（モル比）の割合で構成されて
成るものである。かかるホスホニウムスルホイソフタレ
ート単位とオキシエチレン単位との割合は、熱可塑性合
成高分子に耐久性を有する所望の帯電防止性を付与する
上で極めて重要である。
【００１７】本発明の熱可塑性合成高分子用改質剤とし
て用いるポリエーテルポリエステルは、Ａのジカルボン
酸単位となるジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導
体、例えばそれらのメチルエステルやヒドロキシエチル
エステル等と、Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位
となるポリオキシアルキレンジオールと、Ｃのジオール
単位となる２価アルコールとの公知のエステル化反応又
はエステル交換反応、及びこれに引き続いて行なわれる
重縮合反応によって得られる。
て用いるポリエーテルポリエステルは、Ａのジカルボン
酸単位となるジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導
体、例えばそれらのメチルエステルやヒドロキシエチル
エステル等と、Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位
となるポリオキシアルキレンジオールと、Ｃのジオール
単位となる２価アルコールとの公知のエステル化反応又
はエステル交換反応、及びこれに引き続いて行なわれる
重縮合反応によって得られる。
【００１８】本発明の熱可塑性合成高分子用改質剤とし
て用いるポリエーテルポリエステルは、その分子量が３
０００〜３００００のものが好ましく、５０００〜２０
０００のものが更に好ましい。その分子量が３０００未
満であると、熱可塑性合成高分子中においてかかるポリ
エーテルポリエステルが移動し易くなるため、耐久性が
劣るようになる傾向を示し、逆にその分子量が３０００
０を超えると、かかるポリエーテルポリエステルを製造
するためには通常の縮重合に加えて固相重合等の特別な
反応が必要になるため、それだけ不利である。
て用いるポリエーテルポリエステルは、その分子量が３
０００〜３００００のものが好ましく、５０００〜２０
０００のものが更に好ましい。その分子量が３０００未
満であると、熱可塑性合成高分子中においてかかるポリ
エーテルポリエステルが移動し易くなるため、耐久性が
劣るようになる傾向を示し、逆にその分子量が３０００
０を超えると、かかるポリエーテルポリエステルを製造
するためには通常の縮重合に加えて固相重合等の特別な
反応が必要になるため、それだけ不利である。
【００１９】本発明の重合体組成物は、以上説明したよ
うな熱可塑性合成高分子用改質剤と、分子中にスルホン
酸基を有しない熱可塑性合成高分子とから成り、且つ該
熱可塑性合成高分子用改質剤を式２で示されるスルホイ
ソフタレート単位として０．１〜５重量％、好ましくは
０．５〜２重量％、更に好ましくは１〜３重量％となる
ように含有させて成るものである。含有させる量が、式
２で示されるスルホイソフタレート単位として０．１重
量％未満であると、所望の帯電防止性が得られず、逆に
５重量％を超えると、重合体組成物の物性低下が著しく
なる。
うな熱可塑性合成高分子用改質剤と、分子中にスルホン
酸基を有しない熱可塑性合成高分子とから成り、且つ該
熱可塑性合成高分子用改質剤を式２で示されるスルホイ
ソフタレート単位として０．１〜５重量％、好ましくは
０．５〜２重量％、更に好ましくは１〜３重量％となる
ように含有させて成るものである。含有させる量が、式
２で示されるスルホイソフタレート単位として０．１重
量％未満であると、所望の帯電防止性が得られず、逆に
５重量％を超えると、重合体組成物の物性低下が著しく
なる。
【００２０】本発明が適用される熱可塑性合成高分子と
しては、１）ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリメチルメタアクリレート等のビニル重合型高
分子、２）ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミ
ド等の縮重合型高分子が挙げられる。これらのうちで
も、本発明は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
アミド等の加工温度の高い縮重合型高分子に対して、と
りわけポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレートに対して有効である。
しては、１）ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリメチルメタアクリレート等のビニル重合型高
分子、２）ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミ
ド等の縮重合型高分子が挙げられる。これらのうちで
も、本発明は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
アミド等の加工温度の高い縮重合型高分子に対して、と
りわけポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレートに対して有効である。
【００２１】本発明の重合体組成物を調製するには、公
知の混練プロセスが適用できる。かかる混練プロセスと
しては、ミル、カレンダー、ニーダー、エクストルーダ
ー等が挙げられる。混練する温度は、熱可塑性合成高分
子の融点以上、一般には１６０〜３００℃である。本発
明の重合体組成物は各種の成形方法を用いて重合体成形
物に加工することができる。例えば、溶融紡糸方法を用
いて繊維状に成形することができる。また射出成形方法
やブロー成形方法により各種の形状の成形物とすること
ができる。更にインフレーション成形方法や延伸製膜方
法により、シートやフィルム状に成形することができ
る。加工に際し、種々の目的で、酸化防止剤、紫外線吸
収剤、難燃剤、易滑剤、無機微粒子等の任意の添加剤
を、本発明の効果を損なわない範囲内で併用することが
できる。
知の混練プロセスが適用できる。かかる混練プロセスと
しては、ミル、カレンダー、ニーダー、エクストルーダ
ー等が挙げられる。混練する温度は、熱可塑性合成高分
子の融点以上、一般には１６０〜３００℃である。本発
明の重合体組成物は各種の成形方法を用いて重合体成形
物に加工することができる。例えば、溶融紡糸方法を用
いて繊維状に成形することができる。また射出成形方法
やブロー成形方法により各種の形状の成形物とすること
ができる。更にインフレーション成形方法や延伸製膜方
法により、シートやフィルム状に成形することができ
る。加工に際し、種々の目的で、酸化防止剤、紫外線吸
収剤、難燃剤、易滑剤、無機微粒子等の任意の添加剤
を、本発明の効果を損なわない範囲内で併用することが
できる。
【００２２】
試験区分１（ホスホニウムスルホイソフタレートのエチ
レングリコール溶液等の製造） ・テトラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸
−ビス−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレン
グリコール溶液（ＤＣ−１）の製造 特開平２−１８８５９２に記載の方法に準じて得たテト
ラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸５０４
部（１モル、部は重量部、以下同じ）及びエチレングリ
コール５００部を反応容器に仕込み、窒素気流下に生成
する水を溜去しつつ、１８０℃で８時間加熱撹拌した。
次いで同温度にて、アスピレーター減圧下に濃縮し、テ
トラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸−ビ
ス−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレングリ
コール溶液（ＤＣ−１）を得た。このＤＣ−１は、酸価
２．７、鹸化価１５４であった。
レングリコール溶液等の製造） ・テトラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸
−ビス−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレン
グリコール溶液（ＤＣ−１）の製造 特開平２−１８８５９２に記載の方法に準じて得たテト
ラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸５０４
部（１モル、部は重量部、以下同じ）及びエチレングリ
コール５００部を反応容器に仕込み、窒素気流下に生成
する水を溜去しつつ、１８０℃で８時間加熱撹拌した。
次いで同温度にて、アスピレーター減圧下に濃縮し、テ
トラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸−ビ
ス−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレングリ
コール溶液（ＤＣ−１）を得た。このＤＣ−１は、酸価
２．７、鹸化価１５４であった。
【００２３】以下同様にして、テトラフェニルホスホニ
ウム−５−スルホイソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキ
シエチル）エステルのエチレングリコール溶液（ＤＣ−
２）、トリエチルベンジルホスホニウム−５−スルホイ
ソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチル）エステル
のエチレングリコール溶液（ＤＣ−３）を得た。ＤＣ−
２は酸価２．１、鹸化価１３４、ＤＣ−３は酸価３．
２、鹸化価１７０であった。
ウム−５−スルホイソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキ
シエチル）エステルのエチレングリコール溶液（ＤＣ−
２）、トリエチルベンジルホスホニウム−５−スルホイ
ソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチル）エステル
のエチレングリコール溶液（ＤＣ−３）を得た。ＤＣ−
２は酸価２．１、鹸化価１３４、ＤＣ−３は酸価３．
２、鹸化価１７０であった。
【００２４】試験区分２（熱可塑性合成高分子用改質剤
として用いるポリエーテルポリエステルの製造） ・実施例１｛ポリエーテルポリエステル（Ａ）の製造｝ 試験区分１で得たＤＣ−１を７１５部、ポリエチレング
リコール（分子量６００）を３６０部、触媒としてテト
ラブチルチタネートを０．５部及びテトラブチルホスホ
ニウムハイドロオキサイドを１．０部、更に酸化防止剤
としてイルガノックス１０１０（ＩＲＧＡＮＯＸ１０１
０、商品名、チバガイギー社製）を５．０部反応容器に
仕込み、アスピレーター減圧下に２００℃まで昇温撹拌
し、次いで減圧度を高めつつ２４０℃まで昇温撹拌し
た。更に同温度で１mmHg以下の真空下に２時間重合反応
を行ない、ポリエーテルポリエステル（Ａ）を得た。こ
のＡは、外観が淡黄色透明軟固体状で、酸価６．１、水
酸基価６．０、平均分子量９３００（酸価及び水酸基価
より計算、以下同じ）であった。
として用いるポリエーテルポリエステルの製造） ・実施例１｛ポリエーテルポリエステル（Ａ）の製造｝ 試験区分１で得たＤＣ−１を７１５部、ポリエチレング
リコール（分子量６００）を３６０部、触媒としてテト
ラブチルチタネートを０．５部及びテトラブチルホスホ
ニウムハイドロオキサイドを１．０部、更に酸化防止剤
としてイルガノックス１０１０（ＩＲＧＡＮＯＸ１０１
０、商品名、チバガイギー社製）を５．０部反応容器に
仕込み、アスピレーター減圧下に２００℃まで昇温撹拌
し、次いで減圧度を高めつつ２４０℃まで昇温撹拌し
た。更に同温度で１mmHg以下の真空下に２時間重合反応
を行ない、ポリエーテルポリエステル（Ａ）を得た。こ
のＡは、外観が淡黄色透明軟固体状で、酸価６．１、水
酸基価６．０、平均分子量９３００（酸価及び水酸基価
より計算、以下同じ）であった。
【００２５】・実施例２〜５，比較例１〜４｛ポリエー
テルポリエステル（Ｂ）〜（Ｅ），ポリエーテルポリエ
ステル（Ｒ−１）〜（Ｒ−４）の製造｝ 実施例１の場合と同様にして、ポリエーテルポリエステ
ル（Ｂ）〜（Ｅ）及びポリエーテルポリエステル（Ｒ−
１）〜（Ｒ−４）を得た。実施例１〜５で得たポリエー
テルポリエステル（Ａ）〜（Ｅ）及び比較例１〜４で得
たポリエーテルポリエステル（Ｒ−１）〜（Ｒ−４）の
内容を表１及び表２にまとめて示した。
テルポリエステル（Ｂ）〜（Ｅ），ポリエーテルポリエ
ステル（Ｒ−１）〜（Ｒ−４）の製造｝ 実施例１の場合と同様にして、ポリエーテルポリエステ
ル（Ｂ）〜（Ｅ）及びポリエーテルポリエステル（Ｒ−
１）〜（Ｒ−４）を得た。実施例１〜５で得たポリエー
テルポリエステル（Ａ）〜（Ｅ）及び比較例１〜４で得
たポリエーテルポリエステル（Ｒ−１）〜（Ｒ−４）の
内容を表１及び表２にまとめて示した。
【００２６】
【表１】
【００２７】
【表２】
【００２８】表１及び表２において、 ＤＣ−１〜ＤＣ−３：試験区分１で得たもの ＤＣ−４：テレフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＤＣ−５：イソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＤＣ−６：アジピン酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＰＥＧ−１：ポリエチレングリコール（ＭＷ６００） ＰＥＧ−２：ポリエチレングリコール（ＭＷ１０００） ＰＥＧ−３：ポリエチレングリコール（ＭＷ２０００） ＰＥＧ−４：ポリエチレングリコール（ＭＷ４０００） ＰＥ−１：ポリエチレングリコール（ＭＷ４００）・ポ
リプロピレングリコール（ＭＷ２００）・ポリエチレン
グリコール（ＭＷ４００）ブロックポリマー ＰＥ−２：ビスフェノールＡエチレンオキサイド２０モ
ル付加物 ＰＥ−３：ポリエチレングリコール（ＭＷ２００）・ポ
リプロピレングリコール（ＭＷ１０００）・ポリエチレ
ングリコール（ＭＷ２００）ブロックポリマー ＮＰＧ：ネオペンチルグリコール ＨＤ：１，６−ヘキサンジオール 組成：ポリエーテルポリエステルを構成するＡのジカル
ボン酸単位、Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位及
びＣのジオール単位をそれぞれ相当するジカルボン酸、
ポリオキシアルキレンジオール及び２価アルコールとし
て表示した ＩＰＳ−１：テトラブチルホスホニウム−５−スルホイ
ソフタル酸 ＩＰＳ−２：テトラフェニルホスホニウム−５−スルホ
イソフタル酸 ＩＰＳ−３：トリエチルベンジルホスホニウム−５−ス
ルホイソフタル酸 ＴＰＡ：テレフタル酸 ＩＰＡ：イソフタル酸 ＡＡ：アジピン酸 ＥＧ：エチレングリコール ＭＷ：分子量 ｒ：ポリエーテルポリエステル中における、Ａのジカル
ボン酸単位に属するホスホニウムスルホイソフタレート
単位／Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位中に含ま
れるオキシエチレン単位（モル比）
ル）エステル ＤＣ−５：イソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＤＣ−６：アジピン酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＰＥＧ−１：ポリエチレングリコール（ＭＷ６００） ＰＥＧ−２：ポリエチレングリコール（ＭＷ１０００） ＰＥＧ−３：ポリエチレングリコール（ＭＷ２０００） ＰＥＧ−４：ポリエチレングリコール（ＭＷ４０００） ＰＥ−１：ポリエチレングリコール（ＭＷ４００）・ポ
リプロピレングリコール（ＭＷ２００）・ポリエチレン
グリコール（ＭＷ４００）ブロックポリマー ＰＥ−２：ビスフェノールＡエチレンオキサイド２０モ
ル付加物 ＰＥ−３：ポリエチレングリコール（ＭＷ２００）・ポ
リプロピレングリコール（ＭＷ１０００）・ポリエチレ
ングリコール（ＭＷ２００）ブロックポリマー ＮＰＧ：ネオペンチルグリコール ＨＤ：１，６−ヘキサンジオール 組成：ポリエーテルポリエステルを構成するＡのジカル
ボン酸単位、Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位及
びＣのジオール単位をそれぞれ相当するジカルボン酸、
ポリオキシアルキレンジオール及び２価アルコールとし
て表示した ＩＰＳ−１：テトラブチルホスホニウム−５−スルホイ
ソフタル酸 ＩＰＳ−２：テトラフェニルホスホニウム−５−スルホ
イソフタル酸 ＩＰＳ−３：トリエチルベンジルホスホニウム−５−ス
ルホイソフタル酸 ＴＰＡ：テレフタル酸 ＩＰＡ：イソフタル酸 ＡＡ：アジピン酸 ＥＧ：エチレングリコール ＭＷ：分子量 ｒ：ポリエーテルポリエステル中における、Ａのジカル
ボン酸単位に属するホスホニウムスルホイソフタレート
単位／Ｂのポリオキシアルキレンジオール単位中に含ま
れるオキシエチレン単位（モル比）
【００２９】試験区分３（重合体組成物の調製及びその
評価） 熱可塑性合成高分子と試験区分２で得たポリエーテルポ
リエステルとを、表３に示す配合量で２軸押し出し機に
て練り込み、ペレット化した。このペレットを熱風乾燥
後、射出成型機（日精樹脂工業社製）を用いて、試験片
を作製した。この試験片について、引張強度及び表面抵
抗を測定した。結果を表３に示した。尚、引張強度はＡ
ＳＴＭ−Ｄ６３８に基づき測定し、用いた熱可塑性合成
高分子の引張強度に対する割合、すなわち引張強度比と
して示した。また表面抵抗は試験片を２５℃×６５％Ｒ
Ｈの恒温恒湿室に一夜放置後、超絶縁抵抗計（ＳＭ−５
Ｅ型、東亜電波工業社製）を用いて測定し、次いで同試
験片を２０℃×３０％ＲＨの恒温恒湿室に一夜放置後、
同様にして測定した。更に同試験片を市水で水道流水下
に５分間洗浄し、２５℃×６５％ＲＨの恒温恒湿室に一
夜放置後、同様にして測定した。
評価） 熱可塑性合成高分子と試験区分２で得たポリエーテルポ
リエステルとを、表３に示す配合量で２軸押し出し機に
て練り込み、ペレット化した。このペレットを熱風乾燥
後、射出成型機（日精樹脂工業社製）を用いて、試験片
を作製した。この試験片について、引張強度及び表面抵
抗を測定した。結果を表３に示した。尚、引張強度はＡ
ＳＴＭ−Ｄ６３８に基づき測定し、用いた熱可塑性合成
高分子の引張強度に対する割合、すなわち引張強度比と
して示した。また表面抵抗は試験片を２５℃×６５％Ｒ
Ｈの恒温恒湿室に一夜放置後、超絶縁抵抗計（ＳＭ−５
Ｅ型、東亜電波工業社製）を用いて測定し、次いで同試
験片を２０℃×３０％ＲＨの恒温恒湿室に一夜放置後、
同様にして測定した。更に同試験片を市水で水道流水下
に５分間洗浄し、２５℃×６５％ＲＨの恒温恒湿室に一
夜放置後、同様にして測定した。
【００３０】
【表３】
【００３１】表３において、 ＰＥＴ：ポリエチレンテレフタレート（引張強度＝５５
０kg/cm2） ＰＢＴ：ポリブチレンテレフタレート（引張強度＝５５
０kg/cm2） ＰＣ：ポリカーボネート（引張強度＝５８０kg/cm2） ＰＡ：ナイロン６６（引張強度＝８００kg/cm2） ＰＳ：ポリスチレン（引張強度＝３８０kg/cm2） ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート（引張強度＝６０
０kg/cm2） ＳＩＰ単位：式２で示されるスルホイソフタレート単位
の重合体組成物中で占める割合
０kg/cm2） ＰＢＴ：ポリブチレンテレフタレート（引張強度＝５５
０kg/cm2） ＰＣ：ポリカーボネート（引張強度＝５８０kg/cm2） ＰＡ：ナイロン６６（引張強度＝８００kg/cm2） ＰＳ：ポリスチレン（引張強度＝３８０kg/cm2） ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート（引張強度＝６０
０kg/cm2） ＳＩＰ単位：式２で示されるスルホイソフタレート単位
の重合体組成物中で占める割合
【００３２】
【発明の効果】既に明らかなように、以上説明した本発
明には、熱可塑性合成高分子に、耐久性を有する、且つ
該熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させることのな
い、優れた帯電防止性を付与できるという効果がある。
明には、熱可塑性合成高分子に、耐久性を有する、且つ
該熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させることのな
い、優れた帯電防止性を付与できるという効果がある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０８Ｌ 23/00 ＬＣＵ 7107−4Ｊ (Ｃ０８Ｌ 101/00 67:02） 8933−4Ｊ
Claims (2)
- 【請求項１】 下記Ａのジカルボン酸単位と、下記Ｂの
ポリオキシアルキレンジオール単位と、下記Ｃのジオー
ル単位とで構成され、且つＡのジカルボン酸単位に属す
るホスホニウムスルホイソフタレート単位／Ｂのポリオ
キシアルキレンジオール単位中に含まれるオキシエチレ
ン単位＝１／５〜１／３５（モル比）の割合で構成され
たポリエーテルポリエステルから成ることを特徴とする
熱可塑性合成高分子用改質剤。 Ａ：下記の式１で示されるホスホニウムスルホイソフタ
レート単位が６０〜１００モル％と、脂肪族ジカルボン
酸単位及び芳香族ジカルボン酸単位から選ばれるジカル
ボン酸単位が４０〜０モル％とから成るジカルボン酸単
位 Ｂ：オキシアルキレン単位としてオキシエチレン単位を
５０モル％以上含有するポリオキシアルキレンジオール
単位 Ｃ：炭素数２〜２０の２価アルコールより導かれるジオ
ール単位 【式１】 ［式１において、 Ｒ1〜Ｒ4：同時に同一又は異なる、炭素数１〜１８の脂
肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、ア
ルキルアリル基］ - 【請求項２】 請求項１記載の熱可塑性合成高分子用改
質剤と、分子中にスルホン酸基を有しない熱可塑性合成
高分子とから成り、且つ該熱可塑性合成高分子用改質剤
を下記の式２で示されるスルホイソフタレート単位とし
て０．１〜５重量％含有して成る重合体組成物。 【式２】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4221592A JP3090523B2 (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4221592A JP3090523B2 (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05209045A true JPH05209045A (ja) | 1993-08-20 |
| JP3090523B2 JP3090523B2 (ja) | 2000-09-25 |
Family
ID=12629816
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4221592A Expired - Lifetime JP3090523B2 (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3090523B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102241410B (zh) * | 2010-05-14 | 2013-07-10 | 东北大学 | 一种粉煤灰生态化综合利用方法 |
-
1992
- 1992-01-30 JP JP4221592A patent/JP3090523B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3090523B2 (ja) | 2000-09-25 |
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