JPH05163335A - 熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物 - Google Patents
熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物Info
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- JPH05163335A JPH05163335A JP35220091A JP35220091A JPH05163335A JP H05163335 A JPH05163335 A JP H05163335A JP 35220091 A JP35220091 A JP 35220091A JP 35220091 A JP35220091 A JP 35220091A JP H05163335 A JPH05163335 A JP H05163335A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、熱可塑性合成高分子に、耐久性を有
する、且つ該熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させ
ることのない、優れた帯電防止性及び染色性を付与でき
る、熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重
合体組成物を提供するものである。 【構成】本発明の熱可塑性合成高分子用改質剤は、特定
のホスホニウムスルホイソフタレート単位を３０モル％
以上含有する芳香族ジカルボン酸単位と、特定の２価の
アルコールより導かれるジオール単位とで構成されるポ
リエステルから成ることを特徴としており、また本発明
の重合体組成物は、上記の熱可塑性合成高分子用改質剤
と、分子中にスルホン酸基を有しない熱可塑性合成高分
子とから成り、且つ該熱可塑性合成高分子用改質剤をス
ルホイソフタレート単位として０．１〜８重量％含有し
て成ることを特徴としている。
する、且つ該熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させ
ることのない、優れた帯電防止性及び染色性を付与でき
る、熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重
合体組成物を提供するものである。 【構成】本発明の熱可塑性合成高分子用改質剤は、特定
のホスホニウムスルホイソフタレート単位を３０モル％
以上含有する芳香族ジカルボン酸単位と、特定の２価の
アルコールより導かれるジオール単位とで構成されるポ
リエステルから成ることを特徴としており、また本発明
の重合体組成物は、上記の熱可塑性合成高分子用改質剤
と、分子中にスルホン酸基を有しない熱可塑性合成高分
子とから成り、且つ該熱可塑性合成高分子用改質剤をス
ルホイソフタレート単位として０．１〜８重量％含有し
て成ることを特徴としている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は熱可塑性合成高分子用改
質剤及びこれを含有する重合体組成物に関する。熱可塑
性合成高分子は、材料として優れた特性を有するため、
種々の産業分野に広く利用されている。しかし、熱可塑
性合成高分子は一般に非極性的性質が大きいため、帯電
防止性や染色性に問題がある。本発明は、熱可塑性合成
高分子に、耐久性を有する、且つ該熱可塑性合成高分子
本来の物性を低下させることのない、優れた帯電防止性
及び染色性を付与できる改質剤、及びこれを含有する重
合体組成物に関するものである。
質剤及びこれを含有する重合体組成物に関する。熱可塑
性合成高分子は、材料として優れた特性を有するため、
種々の産業分野に広く利用されている。しかし、熱可塑
性合成高分子は一般に非極性的性質が大きいため、帯電
防止性や染色性に問題がある。本発明は、熱可塑性合成
高分子に、耐久性を有する、且つ該熱可塑性合成高分子
本来の物性を低下させることのない、優れた帯電防止性
及び染色性を付与できる改質剤、及びこれを含有する重
合体組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、熱可塑性合成高分子に帯電防止性
や染色性を付与する手段として、該熱可塑性合成高分子
中にイオン性基を導入する数多くの試みがなされてい
る。これらのうちで熱可塑性合成高分子中へスルホン酸
基を導入する手段としては、スルホン酸基を有する非反
応性化合物を添加する例（特開昭６２−２３０８３
５）、スルホン酸基を有する反応性化合物を共重合する
例（特開昭６２−２９９５２６）がある。ところが、前
者の例には、非反応性化合物が水や溶剤等によって容易
に除去されるため、効果の耐久性が低いという欠点があ
り、また後者の例には、所望の効果を得るのに反応性化
合物の共重合比率を高める必要があるため、熱可塑性合
成高分子本来の物性を低下させるという欠点がある。そ
こでかかる欠点を改良するため、スルホン酸基を導入し
たポリエーテルエステルや脂肪族ポリエステルを添加す
る例（ＵＳ４００６１２３）、スルホン酸基を有する反
応性化合物を合成高分子の分子末端に導入する例（特開
昭６２−２３８８８３）が提案されている。ところが、
前者の例には、脂肪族ポリエステル部分やポリエーテル
部分の存在に起因して、耐熱性が不十分という欠点があ
り、また後者の例には、スルホン酸基の濃度を改質効果
を十分発揮し得る程度まで高めることができないため、
所望の効果が得られないという欠点がある。
や染色性を付与する手段として、該熱可塑性合成高分子
中にイオン性基を導入する数多くの試みがなされてい
る。これらのうちで熱可塑性合成高分子中へスルホン酸
基を導入する手段としては、スルホン酸基を有する非反
応性化合物を添加する例（特開昭６２−２３０８３
５）、スルホン酸基を有する反応性化合物を共重合する
例（特開昭６２−２９９５２６）がある。ところが、前
者の例には、非反応性化合物が水や溶剤等によって容易
に除去されるため、効果の耐久性が低いという欠点があ
り、また後者の例には、所望の効果を得るのに反応性化
合物の共重合比率を高める必要があるため、熱可塑性合
成高分子本来の物性を低下させるという欠点がある。そ
こでかかる欠点を改良するため、スルホン酸基を導入し
たポリエーテルエステルや脂肪族ポリエステルを添加す
る例（ＵＳ４００６１２３）、スルホン酸基を有する反
応性化合物を合成高分子の分子末端に導入する例（特開
昭６２−２３８８８３）が提案されている。ところが、
前者の例には、脂肪族ポリエステル部分やポリエーテル
部分の存在に起因して、耐熱性が不十分という欠点があ
り、また後者の例には、スルホン酸基の濃度を改質効果
を十分発揮し得る程度まで高めることができないため、
所望の効果が得られないという欠点がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来手段では、もともと所望の帯電防止性
や染色性を付与できず、或はまたその耐久性が低かった
り、熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させる点であ
る。
する課題は、従来手段では、もともと所望の帯電防止性
や染色性を付与できず、或はまたその耐久性が低かった
り、熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させる点であ
る。
【０００４】
【課題を解決するための手段】しかして本発明者らは、
上記観点で鋭意研究した結果、スルホン酸ホスホニウム
を置換基とするイソフタル酸誘導体をジカルボン酸成分
として３０モル％以上共重合したポリエステルを用いる
ことが正しく好適であることを見出した。
上記観点で鋭意研究した結果、スルホン酸ホスホニウム
を置換基とするイソフタル酸誘導体をジカルボン酸成分
として３０モル％以上共重合したポリエステルを用いる
ことが正しく好適であることを見出した。
【０００５】すなわち本発明は、下記の式１で示される
ホスホニウムスルホイソフタレート単位を３０モル％以
上含有する芳香族ジカルボン酸単位と、下記の式２で示
される２価のアルコールより導かれるジオール単位とで
構成されるポリエステルから成ることを特徴とする熱可
塑性合成高分子用改質剤、及び該熱可塑性合成高分子用
改質剤と、分子中にスルホン酸基を有しない熱可塑性合
成高分子とから成り、且つ該熱可塑性合成高分子用改質
剤を下記の式３で示されるスルホイソフタレート単位と
して０．１〜８重量％含有して成る重合体組成物に係わ
る。
ホスホニウムスルホイソフタレート単位を３０モル％以
上含有する芳香族ジカルボン酸単位と、下記の式２で示
される２価のアルコールより導かれるジオール単位とで
構成されるポリエステルから成ることを特徴とする熱可
塑性合成高分子用改質剤、及び該熱可塑性合成高分子用
改質剤と、分子中にスルホン酸基を有しない熱可塑性合
成高分子とから成り、且つ該熱可塑性合成高分子用改質
剤を下記の式３で示されるスルホイソフタレート単位と
して０．１〜８重量％含有して成る重合体組成物に係わ
る。
【０００６】
【式１】
【０００７】
【式２】
【０００８】
【式３】
【０００９】［式１及び式２において、 Ｒ1〜Ｒ4：同時に同一又は異なる、炭素数１〜１８の脂
肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、ア
ルキルアリル基 Ａ：炭素数２〜２２の炭化水素基
肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、ア
ルキルアリル基 Ａ：炭素数２〜２２の炭化水素基
【００１０】式１で示されるホスホニウムスルホイソフ
タレート単位において、そのカチオン部分を構成するホ
スホニウムとしては、１）テトラメチルホスホニウム、
テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウ
ム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブチルメチル
ホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウム、トリ
ブチルエチルホスホニウム、トリメチルブチルホスホニ
ウム、トリエチルオクチルホスホニウム、トリブチルオ
クチルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウ
ム、トリメチルステアリルホスホニウム等の、炭素数１
〜１８の脂肪族炭化水素基を有するホスホニウム、２）
テトラフェニルホスホニウム、トリフェニルメチルホス
ホニウム、トリフェニルエチルホスホニウム等の、芳香
族炭化水素基を有するホスホニウム、３）トリフェニル
ベンジルホスホニウム、トリトルイルブチルホスホニウ
ム、トリブチルベンジルホスホニウム等の、アラルキル
基又はアルキルアリル基を有するホスホニウムが挙げら
れる。これらのうちでは、テトラブチルホスホニウム、
テトラフェニルホスホニウムが有利である。
タレート単位において、そのカチオン部分を構成するホ
スホニウムとしては、１）テトラメチルホスホニウム、
テトラエチルホスホニウム、テトラブチルホスホニウ
ム、トリエチルメチルホスホニウム、トリブチルメチル
ホスホニウム、トリオクチルメチルホスホニウム、トリ
ブチルエチルホスホニウム、トリメチルブチルホスホニ
ウム、トリエチルオクチルホスホニウム、トリブチルオ
クチルホスホニウム、トリメチルラウリルホスホニウ
ム、トリメチルステアリルホスホニウム等の、炭素数１
〜１８の脂肪族炭化水素基を有するホスホニウム、２）
テトラフェニルホスホニウム、トリフェニルメチルホス
ホニウム、トリフェニルエチルホスホニウム等の、芳香
族炭化水素基を有するホスホニウム、３）トリフェニル
ベンジルホスホニウム、トリトルイルブチルホスホニウ
ム、トリブチルベンジルホスホニウム等の、アラルキル
基又はアルキルアリル基を有するホスホニウムが挙げら
れる。これらのうちでは、テトラブチルホスホニウム、
テトラフェニルホスホニウムが有利である。
【００１１】本発明の熱可塑性合成高分子用改質剤とし
て用いるポリエステルは、芳香族ジカルボン酸単位と、
式２で示される２価のアルコールより導かれるジオール
単位とで構成されるものである。そして該芳香族ジカル
ボン酸単位は、前記したような式１で示されるホスホニ
ウムスルホイソフタレート単位を、全芳香族ジカルボン
酸単位中で３０モル％以上、好ましくは５０モル％以
上、更に好ましくは７０モル％以上含有するものであ
る。式１で示されるホスホニウムスルホイソフタレート
単位の占める割合が全芳香族ジカルボン酸単位中で３０
モル％未満の場合、帯電防止性や染色性を付与する上
で、熱可塑性合成高分子用改質剤を多量に添加する必要
があり、このため熱可塑性合成高分子本来の物性を低下
させる。
て用いるポリエステルは、芳香族ジカルボン酸単位と、
式２で示される２価のアルコールより導かれるジオール
単位とで構成されるものである。そして該芳香族ジカル
ボン酸単位は、前記したような式１で示されるホスホニ
ウムスルホイソフタレート単位を、全芳香族ジカルボン
酸単位中で３０モル％以上、好ましくは５０モル％以
上、更に好ましくは７０モル％以上含有するものであ
る。式１で示されるホスホニウムスルホイソフタレート
単位の占める割合が全芳香族ジカルボン酸単位中で３０
モル％未満の場合、帯電防止性や染色性を付与する上
で、熱可塑性合成高分子用改質剤を多量に添加する必要
があり、このため熱可塑性合成高分子本来の物性を低下
させる。
【００１２】式１で示されるホスホニウムスルホイソフ
タレート単位以外の芳香族ジカルボン酸単位としては、
テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸
等の芳香族ジカルボン酸から誘導される芳香族ジカルボ
ン酸単位があるが、これらのうちではテレフタル酸単位
が好ましい。
タレート単位以外の芳香族ジカルボン酸単位としては、
テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸
等の芳香族ジカルボン酸から誘導される芳香族ジカルボ
ン酸単位があるが、これらのうちではテレフタル酸単位
が好ましい。
【００１３】式２で示される２価のアルコールとして
は、いずれも炭素数２〜２２の炭化水素基を有する、
１）エチレングリコール、プロピレングリコール、１，
４ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６ヘ
キサンジオール等の脂肪族グリコール、２）シクロヘキ
サンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール
等の脂環族グリコール、３）ｐ−キシリレングリコール
等の芳香族グリコールが挙げられる。かかる２価のアル
コールより導かれるジオール単位のうちでは、エチレン
グリコール単位が有利である。
は、いずれも炭素数２〜２２の炭化水素基を有する、
１）エチレングリコール、プロピレングリコール、１，
４ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６ヘ
キサンジオール等の脂肪族グリコール、２）シクロヘキ
サンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール
等の脂環族グリコール、３）ｐ−キシリレングリコール
等の芳香族グリコールが挙げられる。かかる２価のアル
コールより導かれるジオール単位のうちでは、エチレン
グリコール単位が有利である。
【００１４】本発明の熱可塑性合成高分子用改質剤とし
て用いるポリエステルは、芳香族ジカルボン酸又はその
エステル形成性誘導体、例えばそれらのメチルエステル
やヒドロキシエチルエステル等と、前記したようなグリ
コール類との公知のエステル化反応又はエステル交換反
応、及びこれに引き続いて行なわれる重縮合反応によっ
て得られる。
て用いるポリエステルは、芳香族ジカルボン酸又はその
エステル形成性誘導体、例えばそれらのメチルエステル
やヒドロキシエチルエステル等と、前記したようなグリ
コール類との公知のエステル化反応又はエステル交換反
応、及びこれに引き続いて行なわれる重縮合反応によっ
て得られる。
【００１５】本発明の熱可塑性合成高分子用改質剤とし
て用いるポリエステルは、その分子量が３０００〜３０
０００のものが好ましく、５０００〜２００００のもの
が更に好ましい。その分子量が３０００未満であると、
熱可塑性合成高分子中においてかかるポリエステルが移
動し易くなるため、耐久性が劣るようになる傾向を示
し、逆にその分子量が３００００を超えると、かかるポ
リエステルを製造するためには通常の縮重合に加えて固
相重合等の特別な反応が必要になるため、それだけ不利
である。
て用いるポリエステルは、その分子量が３０００〜３０
０００のものが好ましく、５０００〜２００００のもの
が更に好ましい。その分子量が３０００未満であると、
熱可塑性合成高分子中においてかかるポリエステルが移
動し易くなるため、耐久性が劣るようになる傾向を示
し、逆にその分子量が３００００を超えると、かかるポ
リエステルを製造するためには通常の縮重合に加えて固
相重合等の特別な反応が必要になるため、それだけ不利
である。
【００１６】本発明の重合体組成物は、以上説明したよ
うな熱可塑性合成高分子用改質剤と、分子中にスルホン
酸基を有しない熱可塑性合成高分子とから成り、且つ該
熱可塑性合成高分子用改質剤を式３で示される、スルホ
イソフタレート単位として０．１〜８重量％となるよう
に含有させて成るものである。この場合、その主目的が
帯電防止性の付与にある場合には式３で示されるスルホ
イソフタレート単位として０．２〜４重量％となるよう
に含有させるのが好ましく、またその主目的が染色性の
付与、例えばカチオン染料染色性の付与にある場合には
式３で示されるスルホイソフタレート単位として１〜５
重量％となるように含有させるのが好ましい。含有させ
る量が、式３で示されるスルホイソフタレート単位とし
て０．１重量％未満であると、所望の帯電防止性及び染
色性の改質効果が得られず、逆に８重量％を超えると、
重合体組成物の物性低下が著しくなる。
うな熱可塑性合成高分子用改質剤と、分子中にスルホン
酸基を有しない熱可塑性合成高分子とから成り、且つ該
熱可塑性合成高分子用改質剤を式３で示される、スルホ
イソフタレート単位として０．１〜８重量％となるよう
に含有させて成るものである。この場合、その主目的が
帯電防止性の付与にある場合には式３で示されるスルホ
イソフタレート単位として０．２〜４重量％となるよう
に含有させるのが好ましく、またその主目的が染色性の
付与、例えばカチオン染料染色性の付与にある場合には
式３で示されるスルホイソフタレート単位として１〜５
重量％となるように含有させるのが好ましい。含有させ
る量が、式３で示されるスルホイソフタレート単位とし
て０．１重量％未満であると、所望の帯電防止性及び染
色性の改質効果が得られず、逆に８重量％を超えると、
重合体組成物の物性低下が著しくなる。
【００１７】本発明が適用される熱可塑性合成高分子と
しては、１）ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリメチルメタアクリレート等のビニル重合型高
分子、２）ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミ
ド等の縮重合型高分子が挙げられる。これらのうちで
も、本発明は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
アミド等の加工温度の高い縮重合型高分子に対して、と
りわけポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレートに対して有効である。
しては、１）ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリメチルメタアクリレート等のビニル重合型高
分子、２）ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミ
ド等の縮重合型高分子が挙げられる。これらのうちで
も、本発明は、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
アミド等の加工温度の高い縮重合型高分子に対して、と
りわけポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレートに対して有効である。
【００１８】本発明の重合体組成物を調製するには、公
知の混練プロセスが適用できる。かかる混練プロセスと
しては、ミル、カレンダー、ニーダー、エクストルーダ
ー等が挙げられる。混練する温度は、熱可塑性合成高分
子の融点以上、一般には１６０〜３００℃である。本発
明の重合体組成物は各種の成形方法を用いて重合体成形
物に加工することができる。加工に際し、種々の目的
で、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、易滑剤、無機
微粒子等の任意の添加剤を、本発明の効果を損なわない
範囲内で併用することができる。
知の混練プロセスが適用できる。かかる混練プロセスと
しては、ミル、カレンダー、ニーダー、エクストルーダ
ー等が挙げられる。混練する温度は、熱可塑性合成高分
子の融点以上、一般には１６０〜３００℃である。本発
明の重合体組成物は各種の成形方法を用いて重合体成形
物に加工することができる。加工に際し、種々の目的
で、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、易滑剤、無機
微粒子等の任意の添加剤を、本発明の効果を損なわない
範囲内で併用することができる。
【００１９】
試験区分１（ホスホニウムスルホイソフタレートのエチ
レングリコール溶液等の製造） ・テトラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸
−ビス−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレン
グリコール溶液（ＤＣ−１）の製造 特開平２−１８８５９２に記載の方法に準じて得たテト
ラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸５０４
部（１モル、部は重量部、以下同じ）及びエチレングリ
コール５００部を反応容器に仕込み、窒素気流下に生成
する水を溜去しつつ、１８０℃で８時間加熱撹拌した。
次いで同温度にて、アスピレーター減圧下に濃縮し、テ
トラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸−ビ
ス−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレングリ
コール溶液（ＤＣ−１）を得た。このＤＣ−１は、酸価
２．７、鹸化価１５４であった。
レングリコール溶液等の製造） ・テトラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸
−ビス−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレン
グリコール溶液（ＤＣ−１）の製造 特開平２−１８８５９２に記載の方法に準じて得たテト
ラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸５０４
部（１モル、部は重量部、以下同じ）及びエチレングリ
コール５００部を反応容器に仕込み、窒素気流下に生成
する水を溜去しつつ、１８０℃で８時間加熱撹拌した。
次いで同温度にて、アスピレーター減圧下に濃縮し、テ
トラブチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸−ビ
ス−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレングリ
コール溶液（ＤＣ−１）を得た。このＤＣ−１は、酸価
２．７、鹸化価１５４であった。
【００２０】以下同様にして、テトラフェニルホスホニ
ウム−５−スルホイソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキ
シエチル）エステルのエチレングリコール溶液（ＤＣ−
２）、トリエチルベンジルホスホニウム−５−スルホイ
ソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチル）エステル
のエチレングリコール溶液（ＤＣ−３）、トリブチルオ
クチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸−ビス−
（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレングリコー
ル溶液（ＤＣ−４）を得た。ＤＣ−２は酸価２．１、鹸
化価１３４、ＤＣ−３は酸価３．２、鹸化価１７０、Ｄ
Ｃ−４は酸価３．０、鹸化価１３７であった。またＵＳ
Ｐ４０３５３４６に記載の方法に準じて、テトラブチル
ホスホニウム−５−スルホイソフタル酸−ジメチル（Ｄ
Ｃ−５）を得た。このＤＣ−５は酸価０．５、鹸化価２
１０であった。
ウム−５−スルホイソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキ
シエチル）エステルのエチレングリコール溶液（ＤＣ−
２）、トリエチルベンジルホスホニウム−５−スルホイ
ソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチル）エステル
のエチレングリコール溶液（ＤＣ−３）、トリブチルオ
クチルホスホニウム−５−スルホイソフタル酸−ビス−
（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレングリコー
ル溶液（ＤＣ−４）を得た。ＤＣ−２は酸価２．１、鹸
化価１３４、ＤＣ−３は酸価３．２、鹸化価１７０、Ｄ
Ｃ−４は酸価３．０、鹸化価１３７であった。またＵＳ
Ｐ４０３５３４６に記載の方法に準じて、テトラブチル
ホスホニウム−５−スルホイソフタル酸−ジメチル（Ｄ
Ｃ−５）を得た。このＤＣ−５は酸価０．５、鹸化価２
１０であった。
【００２１】・テトラブチルホスホニウム−ｍ−スルホ
安息香酸−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレ
ングリコール溶液（ＤＣ−１０）の製造 ＵＳＰ４０３５３４６に記載の方法に準じて得たテトラ
ブチルホスホニウム−ｍ−スルホ安息香酸４６０部（１
モル）及びエチレングリコール６００部を反応容器に仕
込み、窒素気流下に生成する水を溜去しつつ、１８０℃
で８時間加熱撹拌した。次いで同温度にて、アスピレー
ター減圧下に濃縮し、テトラブチルホスホニウム−ｍ−
スルホ安息香酸−（２−ヒドロキシエチル）エステルの
エチレングリコール溶液（ＤＣ−１０）を得た。このＤ
Ｃ−１０は、酸価２．３、鹸化価６１であった。
安息香酸−（２−ヒドロキシエチル）エステルのエチレ
ングリコール溶液（ＤＣ−１０）の製造 ＵＳＰ４０３５３４６に記載の方法に準じて得たテトラ
ブチルホスホニウム−ｍ−スルホ安息香酸４６０部（１
モル）及びエチレングリコール６００部を反応容器に仕
込み、窒素気流下に生成する水を溜去しつつ、１８０℃
で８時間加熱撹拌した。次いで同温度にて、アスピレー
ター減圧下に濃縮し、テトラブチルホスホニウム−ｍ−
スルホ安息香酸−（２−ヒドロキシエチル）エステルの
エチレングリコール溶液（ＤＣ−１０）を得た。このＤ
Ｃ−１０は、酸価２．３、鹸化価６１であった。
【００２２】試験区分２（熱可塑性合成高分子用改質剤
として用いるポリエステルの製造） ・実施例１｛ポリエステル（Ａ）の製造｝ 試験区分１で得たＤＣ−１を７１５部、触媒としてテト
ラブチルチタネートを０．５部及びテトラブチルホスホ
ニウムハイドロオキサイドを１．０部反応容器に仕込
み、アスピレーター減圧下に２００℃まで昇温撹拌し、
次いで減圧度を高めつつ２４０℃まで昇温撹拌した。更
に同温度で１mmHg以下の真空下に２時間重合反応を行な
い、ポリエステル（Ａ）を得た。このＡは、外観が淡黄
色透明固体状で、酸価４．３、水酸基価６．６、平均分
子量１０３００（酸価及び水酸基価より計算、以下同
じ）であった。
として用いるポリエステルの製造） ・実施例１｛ポリエステル（Ａ）の製造｝ 試験区分１で得たＤＣ−１を７１５部、触媒としてテト
ラブチルチタネートを０．５部及びテトラブチルホスホ
ニウムハイドロオキサイドを１．０部反応容器に仕込
み、アスピレーター減圧下に２００℃まで昇温撹拌し、
次いで減圧度を高めつつ２４０℃まで昇温撹拌した。更
に同温度で１mmHg以下の真空下に２時間重合反応を行な
い、ポリエステル（Ａ）を得た。このＡは、外観が淡黄
色透明固体状で、酸価４．３、水酸基価６．６、平均分
子量１０３００（酸価及び水酸基価より計算、以下同
じ）であった。
【００２３】・実施例２〜７｛ポリエステル（Ｂ）〜
（Ｇ）の製造｝ 実施例１の場合と同様にして、ポリエステル（Ｂ）〜
（Ｇ）を得た。
（Ｇ）の製造｝ 実施例１の場合と同様にして、ポリエステル（Ｂ）〜
（Ｇ）を得た。
【００２４】・実施例８｛ポリエステル（Ｈ）の製造｝ 試験区分１で得たＤＣ−５を４２６部、テレフタル酸ジ
メチルを３９部、１，４−ブタンジオールを３６０部、
触媒としてテトラブチルチタネートを１．０部及びテト
ラブチルホスホニウムハイドロオキサイドを１．０部反
応容器に仕込み、常圧下に１８０℃でエステル交換を行
なった。次いでアスピレーター減圧下に２００℃まで昇
温撹拌し、引き続き減圧度を高めつつ２４０℃まで昇温
撹拌した。更に同温度で１mmHg以下の真空下に２時間重
合反応を行ない、ポリエステル（Ｈ）を得た。このＨ
は、外観が淡黄色透明固体状で、酸価８．５、水酸基価
６．５、平均分子量７５００であった。実施例１〜８で
得たポリエステル（Ａ）〜（Ｈ）の内容を表１にまとめ
て示した。
メチルを３９部、１，４−ブタンジオールを３６０部、
触媒としてテトラブチルチタネートを１．０部及びテト
ラブチルホスホニウムハイドロオキサイドを１．０部反
応容器に仕込み、常圧下に１８０℃でエステル交換を行
なった。次いでアスピレーター減圧下に２００℃まで昇
温撹拌し、引き続き減圧度を高めつつ２４０℃まで昇温
撹拌した。更に同温度で１mmHg以下の真空下に２時間重
合反応を行ない、ポリエステル（Ｈ）を得た。このＨ
は、外観が淡黄色透明固体状で、酸価８．５、水酸基価
６．５、平均分子量７５００であった。実施例１〜８で
得たポリエステル（Ａ）〜（Ｈ）の内容を表１にまとめ
て示した。
【００２５】・比較例１｛ポリエステル（Ｒ−１）の製
造｝ Ｎａ−５−スルホイソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキ
シエチル）エステルのエチレングリコール溶液（鹸化価
１２６）２６７部、テレフタル酸−ビス−（２−ヒドロ
キシエチルエステル）２５４部、触媒としてテトラブチ
ルチタネート０．５部及びテトラブチルホスホニウムハ
イドロオキサイド１．０部を反応容器に仕込み、以下実
施例１の場合と同様にして反応を行なった。反応の進行
にともない粘度が著しく上昇し、撹拌不能となったた
め、反応を中断して内容物であるポリエステル（Ｒ−
１）を取り出した。このＲ−１は外観が白色固体状で、
酸価８．２、水酸基価４１．８、平均分子量２２００で
あった。
造｝ Ｎａ−５−スルホイソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキ
シエチル）エステルのエチレングリコール溶液（鹸化価
１２６）２６７部、テレフタル酸−ビス−（２−ヒドロ
キシエチルエステル）２５４部、触媒としてテトラブチ
ルチタネート０．５部及びテトラブチルホスホニウムハ
イドロオキサイド１．０部を反応容器に仕込み、以下実
施例１の場合と同様にして反応を行なった。反応の進行
にともない粘度が著しく上昇し、撹拌不能となったた
め、反応を中断して内容物であるポリエステル（Ｒ−
１）を取り出した。このＲ−１は外観が白色固体状で、
酸価８．２、水酸基価４１．８、平均分子量２２００で
あった。
【００２６】・比較例２〜４｛ポリエステル（Ｒ−２）
〜（Ｒ−４）の製造｝ 実施例１の場合と同様にして、ポリエステル（Ｒ−２）
〜（Ｒ−４）を得た。比較例１〜４で得たポリエステル
（Ｒ−１）〜（Ｒ−４）の内容を表１にまとめて示し
た。
〜（Ｒ−４）の製造｝ 実施例１の場合と同様にして、ポリエステル（Ｒ−２）
〜（Ｒ−４）を得た。比較例１〜４で得たポリエステル
（Ｒ−１）〜（Ｒ−４）の内容を表１にまとめて示し
た。
【００２７】
【表１】
【００２８】表１において、 ＤＣ−１〜ＤＣ−５，ＤＣ−１０：試験区分１で得たも
の ＤＣ−６：テレフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＤＣ−７：イソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＤＣ−８：テレフタル酸ジメチル ＤＣ−９：Ｎａ−５−スルホイソフタル酸−ビス−（２
−ヒドロキシエチル）エステルのエチレングリコール溶
液 ＤＣ−１１：アジピン酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＨＤ：１，６−ヘキサンジオール ＢＧ：１，４−ブタンジオール ポリマー組成：ポリエステルを構成する芳香族ジカルボ
ン酸単位とジオール単位とをそれぞれ相当するジカルボ
ン酸とジオールとして表示した ＩＰＳ−１：テトラブチルホスホニウム−５−スルホイ
ソフタル酸 ＩＰＳ−２：テトラフェニルホスホニウム−５−スルホ
イソフタル酸 ＩＰＳ−３：トリエチルベンジルホスホニウム−５−ス
ルホイソフタル酸 ＩＰＳ−４：トリブチルオクチルホスホニウム−５−ス
ルホイソフタル酸 ＩＰＳ−５：Ｎａ−５−スルホイソフタル酸 ＴＰＡ：テレフタル酸 ＩＰＡ：イソフタル酸 ＡＡ：アジピン酸 ＥＧ：エチレングリコール ＢＳ：テトラブチルホスホニウム−ｍ−スルホ安息香酸 ＭＷ：分子量
の ＤＣ−６：テレフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＤＣ−７：イソフタル酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＤＣ−８：テレフタル酸ジメチル ＤＣ−９：Ｎａ−５−スルホイソフタル酸−ビス−（２
−ヒドロキシエチル）エステルのエチレングリコール溶
液 ＤＣ−１１：アジピン酸−ビス−（２−ヒドロキシエチ
ル）エステル ＨＤ：１，６−ヘキサンジオール ＢＧ：１，４−ブタンジオール ポリマー組成：ポリエステルを構成する芳香族ジカルボ
ン酸単位とジオール単位とをそれぞれ相当するジカルボ
ン酸とジオールとして表示した ＩＰＳ−１：テトラブチルホスホニウム−５−スルホイ
ソフタル酸 ＩＰＳ−２：テトラフェニルホスホニウム−５−スルホ
イソフタル酸 ＩＰＳ−３：トリエチルベンジルホスホニウム−５−ス
ルホイソフタル酸 ＩＰＳ−４：トリブチルオクチルホスホニウム−５−ス
ルホイソフタル酸 ＩＰＳ−５：Ｎａ−５−スルホイソフタル酸 ＴＰＡ：テレフタル酸 ＩＰＡ：イソフタル酸 ＡＡ：アジピン酸 ＥＧ：エチレングリコール ＢＳ：テトラブチルホスホニウム−ｍ−スルホ安息香酸 ＭＷ：分子量
【００２９】試験区分３（重合体組成物の調製及びその
評価） 熱可塑性合成高分子と試験区分２で得たポリエステルと
を、表３に示す配合量で２軸押し出し機にて練り込み、
ペレット化した。このペレットを熱風乾燥後、射出成型
機（日精樹脂工業社製）を用いて、試験片を作製した。
この試験片について、引張強度及び表面抵抗を測定し
た。結果を表２に示した。尚、引張強度はＡＳＴＭ−Ｄ
６３８に基づき測定した。また表面抵抗は試験片を２０
℃×６５％ＲＨの恒温恒湿室に一夜放置後、超絶縁抵抗
計（ＳＭ−５Ｅ型、東亜電波工業社製）を用いて測定
し、次いで同試験片を市水で水道流水下に５分間洗浄
し、２０℃×６５％ＲＨの恒温恒湿室に一夜放置後、同
様にして測定した。
評価） 熱可塑性合成高分子と試験区分２で得たポリエステルと
を、表３に示す配合量で２軸押し出し機にて練り込み、
ペレット化した。このペレットを熱風乾燥後、射出成型
機（日精樹脂工業社製）を用いて、試験片を作製した。
この試験片について、引張強度及び表面抵抗を測定し
た。結果を表２に示した。尚、引張強度はＡＳＴＭ−Ｄ
６３８に基づき測定した。また表面抵抗は試験片を２０
℃×６５％ＲＨの恒温恒湿室に一夜放置後、超絶縁抵抗
計（ＳＭ−５Ｅ型、東亜電波工業社製）を用いて測定
し、次いで同試験片を市水で水道流水下に５分間洗浄
し、２０℃×６５％ＲＨの恒温恒湿室に一夜放置後、同
様にして測定した。
【００３０】
【表２】
【００３１】表２において、 ＰＥＴ：ポリエチレンテレフタレート（引張強度＝５５
０kg/cm2） ＰＢＴ：ポリブチレンテレフタレート（引張強度＝５５
０kg/cm2） ＰＣ：ポリカーボネート（引張強度＝５８０kg/cm2） ＰＳ：ポリスチレン（引張強度＝３８０kg/cm2） ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート（引張強度＝６０
０kg/cm2） ＳＩＰ単位：スルホイソフタレート単位の重合体組成物
中で占める割合 引張強度比：ブランクに対する引張強度比
０kg/cm2） ＰＢＴ：ポリブチレンテレフタレート（引張強度＝５５
０kg/cm2） ＰＣ：ポリカーボネート（引張強度＝５８０kg/cm2） ＰＳ：ポリスチレン（引張強度＝３８０kg/cm2） ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート（引張強度＝６０
０kg/cm2） ＳＩＰ単位：スルホイソフタレート単位の重合体組成物
中で占める割合 引張強度比：ブランクに対する引張強度比
【００３２】試験区分４（重合体組成物の調製、紡糸延
伸及びその評価） 熱可塑性合成高分子としてのポリエチレンテレフタレー
トと試験区分２で得たポリエステルとを、表３に示す配
合量で、２軸押し出し機を用い、２９０℃にて溶融混合
し、ペレット化した。このペレットを、１３０℃で５時
間乾燥した後、孔径０．２５mmの円形紡糸孔を２４個穿
設の紡糸口金を使用した紡糸機（ＳＭ−９０７、帝人エ
ンジニアリング社製）を用い、２９５℃で溶融紡糸し、
引き取り速度２５００ｍ／分で引き取った。そして常法
で延伸し、７５デニール２４フィラメントのポリエステ
ル糸を得た。このポリエステル糸を０．５％の水酸化ナ
トリウム水溶液で９０℃×３０分間処理し、アルカリ減
量処理を行なった。アルカリ減量処理後の糸強度低下率
と重量減量率を測定しこれらを耐アルカリ加水分解性の
指標とした。また上記で得たポリエステル糸をカチオン
染料 ( CathionCD-FRLH／Cathion Blue CD-FBLH＝１／
１、保土谷化学社製）を２％ＯＷＦ含む染浴（助剤とし
て Na2SO4 ３部／リットル、 CH3COOH ０．３部／リッ
トルを含む）で１２０℃×６０分間染色し、染色糸を得
た。この染色糸について、染色性を目視にて観察し、下
記に示す基準で評価した。更にこの染色糸をザブ（商品
名）の０．１％水溶液により４０℃×１０分間家庭用洗
濯機で洗濯した後、流水で充分に水洗し、耐洗濯性を洗
濯前の物と目視にて比較観察した。結果を表３に示し
た。
伸及びその評価） 熱可塑性合成高分子としてのポリエチレンテレフタレー
トと試験区分２で得たポリエステルとを、表３に示す配
合量で、２軸押し出し機を用い、２９０℃にて溶融混合
し、ペレット化した。このペレットを、１３０℃で５時
間乾燥した後、孔径０．２５mmの円形紡糸孔を２４個穿
設の紡糸口金を使用した紡糸機（ＳＭ−９０７、帝人エ
ンジニアリング社製）を用い、２９５℃で溶融紡糸し、
引き取り速度２５００ｍ／分で引き取った。そして常法
で延伸し、７５デニール２４フィラメントのポリエステ
ル糸を得た。このポリエステル糸を０．５％の水酸化ナ
トリウム水溶液で９０℃×３０分間処理し、アルカリ減
量処理を行なった。アルカリ減量処理後の糸強度低下率
と重量減量率を測定しこれらを耐アルカリ加水分解性の
指標とした。また上記で得たポリエステル糸をカチオン
染料 ( CathionCD-FRLH／Cathion Blue CD-FBLH＝１／
１、保土谷化学社製）を２％ＯＷＦ含む染浴（助剤とし
て Na2SO4 ３部／リットル、 CH3COOH ０．３部／リッ
トルを含む）で１２０℃×６０分間染色し、染色糸を得
た。この染色糸について、染色性を目視にて観察し、下
記に示す基準で評価した。更にこの染色糸をザブ（商品
名）の０．１％水溶液により４０℃×１０分間家庭用洗
濯機で洗濯した後、流水で充分に水洗し、耐洗濯性を洗
濯前の物と目視にて比較観察した。結果を表３に示し
た。
【００３３】染色性の基準 ○：鮮明な濃青色 ×：くすんだ濃青色 耐洗濯性の基準 ○：色落ちなし △：僅かに色落ちあり ×：色落ちあり
【００３４】
【表３】
【００３５】表３において、 ＰＥＴ，ＳＩＰ単位：表２の場合と同じ ＰＥＴの糸強度：４．８ｇ／ｄ（ｄはデニール）
【００３６】
【発明の効果】既に明らかなように、以上説明した本発
明には、熱可塑性合成高分子に、耐久性を有する、且つ
該熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させることのな
い、優れた帯電防止性及び染色性を付与できるという効
果がある。
明には、熱可塑性合成高分子に、耐久性を有する、且つ
該熱可塑性合成高分子本来の物性を低下させることのな
い、優れた帯電防止性及び染色性を付与できるという効
果がある。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記の式１で示されるホスホニウムスル
ホイソフタレート単位を３０モル％以上含有する芳香族
ジカルボン酸単位と、下記の式２で示される２価のアル
コールより導かれるジオール単位とで構成されるポリエ
ステルから成ることを特徴とする熱可塑性合成高分子用
改質剤。 【式１】 【式２】 ［式１及び式２において、 Ｒ1〜Ｒ4：同時に同一又は異なる、炭素数１〜１８の脂
肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、アラルキル基、ア
ルキルアリル基 Ａ：炭素数２〜２２の炭化水素基 - 【請求項２】 請求項１記載の熱可塑性合成高分子用改
質剤と、分子中にスルホン酸基を有しない熱可塑性合成
高分子とから成り、且つ該熱可塑性合成高分子用改質剤
を下記の式３で示されるスルホイソフタレート単位とし
て０．１〜８重量％含有して成る重合体組成物。 【式３】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03352200A JP3090519B2 (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03352200A JP3090519B2 (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05163335A true JPH05163335A (ja) | 1993-06-29 |
| JP3090519B2 JP3090519B2 (ja) | 2000-09-25 |
Family
ID=18422455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03352200A Expired - Lifetime JP3090519B2 (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 熱可塑性合成高分子用改質剤及びこれを含有する重合体組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3090519B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005272678A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Teijin Chem Ltd | 帯電防止性ポリカーボネート樹脂組成物 |
| EP2746287A1 (en) * | 2012-12-24 | 2014-06-25 | Cheil Industries Inc. | Quaternary phosphonium salt, epoxy resin composition for encapsulating semiconductor device including the quaternary phosphonium salt and semiconductor device encapsulated with the epoxy resin composition |
| US10160829B2 (en) * | 2015-08-20 | 2018-12-25 | 3M Innovative Properties Company | Functionalized polyester polymers and film articles |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7693553B2 (en) | 2004-06-30 | 2010-04-06 | Avaya Inc. | Intelligent ringtone service |
-
1991
- 1991-12-13 JP JP03352200A patent/JP3090519B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005272678A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-10-06 | Teijin Chem Ltd | 帯電防止性ポリカーボネート樹脂組成物 |
| EP2746287A1 (en) * | 2012-12-24 | 2014-06-25 | Cheil Industries Inc. | Quaternary phosphonium salt, epoxy resin composition for encapsulating semiconductor device including the quaternary phosphonium salt and semiconductor device encapsulated with the epoxy resin composition |
| US9428632B2 (en) | 2012-12-24 | 2016-08-30 | Cheil Industries, Inc. | Quaternary phosphonium salt, epoxy resin composition for encapsulating semiconductor device and including the quaternary phosphonium salt, and semiconductor device encapsulated with the epoxy resin composition |
| US10160829B2 (en) * | 2015-08-20 | 2018-12-25 | 3M Innovative Properties Company | Functionalized polyester polymers and film articles |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3090519B2 (ja) | 2000-09-25 |
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