JPH0520721A - 光磁気記録方式 - Google Patents
光磁気記録方式Info
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- JPH0520721A JPH0520721A JP20002091A JP20002091A JPH0520721A JP H0520721 A JPH0520721 A JP H0520721A JP 20002091 A JP20002091 A JP 20002091A JP 20002091 A JP20002091 A JP 20002091A JP H0520721 A JPH0520721 A JP H0520721A
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- Japan
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- laser beam
- recording
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- optical recording
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁壁移動型オーバーライト方式においてレー
ザビームの利用効率を向上させ、装置の小型化、コスト
ダウンを図ると共に、トラック−トラック間の磁化状態
のトラック横方向からの影響を小さくし、オーバーライ
トの確実性を向上させ、高トラック密度化への対応を容
易にする。 【構成】 垂直磁化膜を有する光磁気記録媒体に照射す
る記録レーザビームの照射パワー及び／又はパルス幅を
変化させることにより該垂直磁化膜の磁壁エネルギー又
は反磁界の状態に変化を与えて磁壁の移動量を制御して
磁区の形成、消去を行う。記録レーザビームスポット２
の形状をトラック１の方向に長い楕円形状にして記録媒
体に照射する。
ザビームの利用効率を向上させ、装置の小型化、コスト
ダウンを図ると共に、トラック−トラック間の磁化状態
のトラック横方向からの影響を小さくし、オーバーライ
トの確実性を向上させ、高トラック密度化への対応を容
易にする。 【構成】 垂直磁化膜を有する光磁気記録媒体に照射す
る記録レーザビームの照射パワー及び／又はパルス幅を
変化させることにより該垂直磁化膜の磁壁エネルギー又
は反磁界の状態に変化を与えて磁壁の移動量を制御して
磁区の形成、消去を行う。記録レーザビームスポット２
の形状をトラック１の方向に長い楕円形状にして記録媒
体に照射する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録方式に関し、
特に、いわゆる磁壁移動型オーバーライト方式に関す
る。
特に、いわゆる磁壁移動型オーバーライト方式に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、光磁気記録は、従来の磁気記録等
に比べて大容量記録であり、しかも、情報の書き換えが
可能であることから活発な開発がなされており、一部で
は既に市販されてもいる。
に比べて大容量記録であり、しかも、情報の書き換えが
可能であることから活発な開発がなされており、一部で
は既に市販されてもいる。
【０００３】しかしながら、現在市販されている光磁気
記録装置の多くは、情報を書き換える際に、元の情報を
予め消去し、その後に、新しい情報を書くという工程を
踏む必要があるため、消去操作に時間がかかり、時間的
なロスとなっている。また、オーバーライトを可能とす
る光磁気記録方法も種々提案されているが、問題点が多
く実用化には至っていない。
記録装置の多くは、情報を書き換える際に、元の情報を
予め消去し、その後に、新しい情報を書くという工程を
踏む必要があるため、消去操作に時間がかかり、時間的
なロスとなっている。また、オーバーライトを可能とす
る光磁気記録方法も種々提案されているが、問題点が多
く実用化には至っていない。
【０００４】ここで、従来の光磁気記録方法としては、
以下のものが知られている。 一般的光変調方式（例えば応用磁気学会誌 Vol. 8,
No.5 (1984) 等)。 固定磁石による磁界変調方式（電気学会マグネティ
ックス研究会資料 MAG-86-95 (1986)等。 浮上ヘッドによる磁界変調方式（電気学会マグネテ
ィックス研究会資料 MAG-87-178 (1987) 、特開昭63-2
04532 号公報、特開昭63-217548 号公報等）。 共振回路を持つ磁気ヘッド及びパルス状レーザを使
用したオーバーライト方式（IEEE Trans. Magn. 24, P.
666 (1988)、特開昭63-37842号公報）。 ２層膜を使用した光強度変化によるオーバーライト
方式（H. Iida et. al.:J. J. of Appl. Phys., Vol.28
(1989) P.367 、Y. Mutoh et. al.: 第１４回応用磁気
学会学術講演概要集 (1990) P.376)。 磁壁移動型オーバーライト方式 (Y. Suzuki et. a
l.: J. J. of Appl. Phys., Suppl. 28-3, Vol.28 (198
9) P.33、Han-Ping D.S.:Appl. Phys. Lett., Vol.49
(1986) P.473)。
以下のものが知られている。 一般的光変調方式（例えば応用磁気学会誌 Vol. 8,
No.5 (1984) 等)。 固定磁石による磁界変調方式（電気学会マグネティ
ックス研究会資料 MAG-86-95 (1986)等。 浮上ヘッドによる磁界変調方式（電気学会マグネテ
ィックス研究会資料 MAG-87-178 (1987) 、特開昭63-2
04532 号公報、特開昭63-217548 号公報等）。 共振回路を持つ磁気ヘッド及びパルス状レーザを使
用したオーバーライト方式（IEEE Trans. Magn. 24, P.
666 (1988)、特開昭63-37842号公報）。 ２層膜を使用した光強度変化によるオーバーライト
方式（H. Iida et. al.:J. J. of Appl. Phys., Vol.28
(1989) P.367 、Y. Mutoh et. al.: 第１４回応用磁気
学会学術講演概要集 (1990) P.376)。 磁壁移動型オーバーライト方式 (Y. Suzuki et. a
l.: J. J. of Appl. Phys., Suppl. 28-3, Vol.28 (198
9) P.33、Han-Ping D.S.:Appl. Phys. Lett., Vol.49
(1986) P.473)。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】光磁気記録は他の方式
と比較し、光の利用効率が低く、高速記録を行うために
は高出力レーザが必要となり、装置の大型化、コストア
ップにつながる。特に上記のの磁壁移動型オーバーラ
イト方式においては、記録バイアス磁界が“０”に近い
状態で記録を行い、磁界による補助が期待できないた
め、記録に大きなレーザパワーが必要となる。また、こ
の磁壁移動型オーバーライト方式では、記録時の磁性層
の面内方向の温度分布が重要なポイントとなるが、通常
の円形ビームを照射した場合にはトラックに対して垂直
方向の磁化の状態（トラック−トラック間の記録に使用
しない部分、隣接トラック等）の影響を大きく受ける。
従って、トラック−トラック間の磁化状態の制御が必要
となる、高密度トラック化への対応が困難である、等の
問題がある。
と比較し、光の利用効率が低く、高速記録を行うために
は高出力レーザが必要となり、装置の大型化、コストア
ップにつながる。特に上記のの磁壁移動型オーバーラ
イト方式においては、記録バイアス磁界が“０”に近い
状態で記録を行い、磁界による補助が期待できないた
め、記録に大きなレーザパワーが必要となる。また、こ
の磁壁移動型オーバーライト方式では、記録時の磁性層
の面内方向の温度分布が重要なポイントとなるが、通常
の円形ビームを照射した場合にはトラックに対して垂直
方向の磁化の状態（トラック−トラック間の記録に使用
しない部分、隣接トラック等）の影響を大きく受ける。
従って、トラック−トラック間の磁化状態の制御が必要
となる、高密度トラック化への対応が困難である、等の
問題がある。
【０００６】本発明はこのような従来技術の問題点を解
決するためになされたもので、光ヘッドのレーザ光利用
効率を上げ、必要とするレーザ出力を低減させ、装置の
小型化、コストダウンを図ると共に、トラック横方向か
らの影響を小さくし、オーバーライトの確実性を向上さ
せ、高トラック密度化への対応を容易にする光磁気記録
方式を提供することを目的とする。
決するためになされたもので、光ヘッドのレーザ光利用
効率を上げ、必要とするレーザ出力を低減させ、装置の
小型化、コストダウンを図ると共に、トラック横方向か
らの影響を小さくし、オーバーライトの確実性を向上さ
せ、高トラック密度化への対応を容易にする光磁気記録
方式を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、垂直磁化膜を有する光磁気記録媒
体に照射する記録レーザビームの照射パワー及び／又は
パルス幅を変化させることにより該垂直磁化膜における
磁壁の移動量を制御してオーバーライト可能な光磁気記
録を行う光磁気記録方式であって、前記記録レーザビー
ムをトラック方向に長い楕円形状で光磁気記録媒体に照
射することを特徴とする光磁気記録方式が提供される。
め、本発明によれば、垂直磁化膜を有する光磁気記録媒
体に照射する記録レーザビームの照射パワー及び／又は
パルス幅を変化させることにより該垂直磁化膜における
磁壁の移動量を制御してオーバーライト可能な光磁気記
録を行う光磁気記録方式であって、前記記録レーザビー
ムをトラック方向に長い楕円形状で光磁気記録媒体に照
射することを特徴とする光磁気記録方式が提供される。
【０００８】
【発明の構成及び作用】以下本発明の光磁気記録方式に
つき詳細に説明する。一般に光記録に使用する半導体レ
ーザの出力ビーム形状は楕円であり、このまま使用する
と媒体面に集光した時にビームスポットは楕円に広が
り、記録密度が低下するため、 (i) 出力ビームの中心の円形部分だけを使用する。 (ii) プリズムを使用してビーム形状を円形に整形する (iii)複数の円筒レンズを使用してビーム形状を円形に
整形する。 等の処理が行われるが、いずれも光の利用効率を低下さ
せる。(ii),(iii)の方法は利用効率の低下幅は比較的小
さいが、装置が複雑になるという欠点がある。
つき詳細に説明する。一般に光記録に使用する半導体レ
ーザの出力ビーム形状は楕円であり、このまま使用する
と媒体面に集光した時にビームスポットは楕円に広が
り、記録密度が低下するため、 (i) 出力ビームの中心の円形部分だけを使用する。 (ii) プリズムを使用してビーム形状を円形に整形する (iii)複数の円筒レンズを使用してビーム形状を円形に
整形する。 等の処理が行われるが、いずれも光の利用効率を低下さ
せる。(ii),(iii)の方法は利用効率の低下幅は比較的小
さいが、装置が複雑になるという欠点がある。
【０００９】一方、発明者らは、特願平２−６４９５９
号明細書等において、垂直磁化膜を有する光磁気記録媒
体に照射する記録レーザビームの照射パワー及び／又は
パルス幅を変化させることにより該垂直磁化膜の磁壁エ
ネルギー又は反磁界の状態に変化を与えて磁壁の移動量
を制御してオーバーライトを達成する磁壁移動型の新規
な光磁気記録方式を提案した。この方式によれば、基本
的に光磁気記録媒体の磁性膜が単層でよく、２層膜記録
媒体と比べ低レーザパワーで書込みができ、しかも以前
書込まれていた信号とは無関係に新しい信号を書込むこ
とができる上、磁区長のコントロールが容易で、簡単な
装置にて高速なオーバーライトが行える利点がある。
号明細書等において、垂直磁化膜を有する光磁気記録媒
体に照射する記録レーザビームの照射パワー及び／又は
パルス幅を変化させることにより該垂直磁化膜の磁壁エ
ネルギー又は反磁界の状態に変化を与えて磁壁の移動量
を制御してオーバーライトを達成する磁壁移動型の新規
な光磁気記録方式を提案した。この方式によれば、基本
的に光磁気記録媒体の磁性膜が単層でよく、２層膜記録
媒体と比べ低レーザパワーで書込みができ、しかも以前
書込まれていた信号とは無関係に新しい信号を書込むこ
とができる上、磁区長のコントロールが容易で、簡単な
装置にて高速なオーバーライトが行える利点がある。
【００１０】ところで、この新規な光磁気記録方式にお
いては、冷却過程におけるトラック方向の温度勾配が重
要であり、トラックに対し平行方向のビームスポット径
と記録線密度とは直接は関係しないため、記録レーザビ
ームスポットの形状が楕円形であっても記録密度の低下
は起こらない。即ち、トラックに対し垂直方向のビーム
スポット径は上記(i) 〜(iii) の処理を行った場合と変
わらないので、記録できる磁区の密度は変わらない。そ
こで、本発明においては半導体レーザの楕円出力ビーム
をそのまま利用する。トラックと記録レーザビームスポ
ットとの関係は図１のようになる。図中１がトラック、
２がレーザビームスポットである。このようなトラック
方向に長い楕円形状の記録レーザビームスポットを照射
すると、トラックに対して垂直方向の温度勾配は急にな
り、トラックに平行方向の温度勾配はなだらかになっ
て、磁壁はトラック方向には動きやすく、トラックに垂
直方向には動きにくくなる。このため、トラック横方向
からの影響が小さくなる。本発明で用いる楕円形状の記
録レーザビームスポットの長軸と短軸の比は１．５：１
〜１０：１が適当である。
いては、冷却過程におけるトラック方向の温度勾配が重
要であり、トラックに対し平行方向のビームスポット径
と記録線密度とは直接は関係しないため、記録レーザビ
ームスポットの形状が楕円形であっても記録密度の低下
は起こらない。即ち、トラックに対し垂直方向のビーム
スポット径は上記(i) 〜(iii) の処理を行った場合と変
わらないので、記録できる磁区の密度は変わらない。そ
こで、本発明においては半導体レーザの楕円出力ビーム
をそのまま利用する。トラックと記録レーザビームスポ
ットとの関係は図１のようになる。図中１がトラック、
２がレーザビームスポットである。このようなトラック
方向に長い楕円形状の記録レーザビームスポットを照射
すると、トラックに対して垂直方向の温度勾配は急にな
り、トラックに平行方向の温度勾配はなだらかになっ
て、磁壁はトラック方向には動きやすく、トラックに垂
直方向には動きにくくなる。このため、トラック横方向
からの影響が小さくなる。本発明で用いる楕円形状の記
録レーザビームスポットの長軸と短軸の比は１．５：１
〜１０：１が適当である。
【００１１】具体例を上げて説明すると、図２は半導体
レーザの端面３を示すものであるが、図示のように、再
生用ビーム出射面４は縦横比をほぼ１：１とし、記録用
ビーム出射面５は横方向に大きくとる。一般の半導体レ
ーザは記録と再生のレーザビーム出射面が共用であるた
め、記録用レーザビーム出射面の縦横比はあまり大きく
取れないが、本発明では別々としているため多く取るこ
とができる。このようにすると、再生用ビームの出力パ
ワーはあまり大きく取れないが、図３の（ａ）のように
出力ビームは円形になり、さらに図４の７のようにビー
ムスポットは小さく絞れる。一方、記録用ビームの出力
パワーの出射面積が大きくなることで出力パワーは増大
し、出力ビームは図３の（ｂ）のように楕円形になり、
ビームスポットも図４の８のように楕円形となる。これ
により、記録用ビームには高出力のパワーを効率良く利
用できるようになる。また、再生用レーザビームの出力
は上述したようにあまり大きく取れないが、再生には高
いパワーは必要ないので問題はなく、ビームを小さく絞
れるので高記録密度にも充分対応できる。
レーザの端面３を示すものであるが、図示のように、再
生用ビーム出射面４は縦横比をほぼ１：１とし、記録用
ビーム出射面５は横方向に大きくとる。一般の半導体レ
ーザは記録と再生のレーザビーム出射面が共用であるた
め、記録用レーザビーム出射面の縦横比はあまり大きく
取れないが、本発明では別々としているため多く取るこ
とができる。このようにすると、再生用ビームの出力パ
ワーはあまり大きく取れないが、図３の（ａ）のように
出力ビームは円形になり、さらに図４の７のようにビー
ムスポットは小さく絞れる。一方、記録用ビームの出力
パワーの出射面積が大きくなることで出力パワーは増大
し、出力ビームは図３の（ｂ）のように楕円形になり、
ビームスポットも図４の８のように楕円形となる。これ
により、記録用ビームには高出力のパワーを効率良く利
用できるようになる。また、再生用レーザビームの出力
は上述したようにあまり大きく取れないが、再生には高
いパワーは必要ないので問題はなく、ビームを小さく絞
れるので高記録密度にも充分対応できる。
【００１２】次に、本発明において、垂直磁化膜を有す
る光磁気記録媒体に照射する記録レーザビームの照射パ
ワー及び／又はパルス幅を変化させる方法としては種々
の方法が考えられるが、ここではその代表的な２例につ
いて述べる。そのうちの１つは、本発明者らが特願平２
−６４９５９号明細書にて提案している方法で、この方
法は、図５に示すように、レーザビームを照射して記録
を行う際に、記録を行おうとする磁化の方向を媒体面に
対して下向きから上向き、あるいは上向きから下向きに
切り替える時に、照射パワー及び／又はパルス幅を他の
時とは変えるものである。図中（ａ）が記録情報信号、
（ｂ）〜（ｆ）が光照射方法の例を示す。
る光磁気記録媒体に照射する記録レーザビームの照射パ
ワー及び／又はパルス幅を変化させる方法としては種々
の方法が考えられるが、ここではその代表的な２例につ
いて述べる。そのうちの１つは、本発明者らが特願平２
−６４９５９号明細書にて提案している方法で、この方
法は、図５に示すように、レーザビームを照射して記録
を行う際に、記録を行おうとする磁化の方向を媒体面に
対して下向きから上向き、あるいは上向きから下向きに
切り替える時に、照射パワー及び／又はパルス幅を他の
時とは変えるものである。図中（ａ）が記録情報信号、
（ｂ）〜（ｆ）が光照射方法の例を示す。
【００１３】もう１つの方法は、本発明者らが平成３年
６月１７日付特許出願の明細書において提案している方
法であり、この方法は、図６に示すように磁区形成時に
は強度Ｐｗ1、時間（パルス幅）τ1（Ａ条件）のレーザ
ーパルスを所望の長さの磁区となるまで数回に渡り連続
的に照射し、磁区消去時には強度Ｐｗ0、時間τ0(Ａ′
条件）のレーザーパルスを消去磁区が所望の長さとなる
まで数回に渡り連続的に照射するものである。この場
合、τ1≧τ0及びＰｗ1・τ1＞Ｐｗ0・τ0なる関係を満
足するように設定を行う。
６月１７日付特許出願の明細書において提案している方
法であり、この方法は、図６に示すように磁区形成時に
は強度Ｐｗ1、時間（パルス幅）τ1（Ａ条件）のレーザ
ーパルスを所望の長さの磁区となるまで数回に渡り連続
的に照射し、磁区消去時には強度Ｐｗ0、時間τ0(Ａ′
条件）のレーザーパルスを消去磁区が所望の長さとなる
まで数回に渡り連続的に照射するものである。この場
合、τ1≧τ0及びＰｗ1・τ1＞Ｐｗ0・τ0なる関係を満
足するように設定を行う。
【００１４】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば前記構成としたので、ビーム整形のための操作が必
要ないためレーザビームの光利用効率が向上し、装置の
小型化、コストダウンが図れる。また、トラック横方向
からの影響が小さく、オーバーライトの確実性が向上
し、高トラック密度化への対応も容易になる。
れば前記構成としたので、ビーム整形のための操作が必
要ないためレーザビームの光利用効率が向上し、装置の
小型化、コストダウンが図れる。また、トラック横方向
からの影響が小さく、オーバーライトの確実性が向上
し、高トラック密度化への対応も容易になる。
【図１】本発明の方式による記録媒体面上でのビームス
ポット形状を示す図である。
ポット形状を示す図である。
【図２】本発明の方式によるレーザビームを形成するた
めに使用される半導体レーザの端面を示す図である。
めに使用される半導体レーザの端面を示す図である。
【図３】図２の半導体レーザの出力ビームの形状を示す
図である。
図である。
【図４】図３の出力ビームの記録媒体面でのスポット形
状を示す図である。
状を示す図である。
【図５】本発明の方式に用いる光照射方法の１例を示す
図である。
図である。
【図６】本発明の方式に用いる光照射方法の別の例を示
す図である。
す図である。
１ 記録トラック ２ 記録ビームスポット ３ 半導体レーザ端面 ４ 再生用ビーム出射面 ５ 記録用ビーム出射面 ６ 記録トラック ７ 再生用レーザビームスポット ８ 記録用レーザビームスポット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 元治 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 垂直磁化膜を有する光磁気記録媒体に照
射する記録レーザビームの照射パワー及び／又はパルス
幅を変化させることにより該垂直磁化膜における磁壁の
移動量を制御してオーバーライト可能な光磁気記録を行
う光磁気記録方式であって、前記記録レーザビームをト
ラック方向に長い楕円形状で光磁気記録媒体に照射する
ことを特徴とする光磁気記録方式。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20002091A JPH0520721A (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 光磁気記録方式 |
| US07/900,172 US5459701A (en) | 1991-06-17 | 1992-06-17 | Magneto-optical recording method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20002091A JPH0520721A (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 光磁気記録方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0520721A true JPH0520721A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=16417476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20002091A Pending JPH0520721A (ja) | 1991-06-17 | 1991-07-15 | 光磁気記録方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0520721A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08124232A (ja) * | 1994-10-27 | 1996-05-17 | Nec Corp | 光ヘッドと光ディスク装置 |
| US7463438B2 (en) | 2004-10-15 | 2008-12-09 | Fujitsu Limited | Information storage apparatus, and control method and program for the same |
-
1991
- 1991-07-15 JP JP20002091A patent/JPH0520721A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08124232A (ja) * | 1994-10-27 | 1996-05-17 | Nec Corp | 光ヘッドと光ディスク装置 |
| US7463438B2 (en) | 2004-10-15 | 2008-12-09 | Fujitsu Limited | Information storage apparatus, and control method and program for the same |
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