JPH05198786A - クリアモールドccd固体撮像素子 - Google Patents
クリアモールドccd固体撮像素子Info
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- JPH05198786A JPH05198786A JP4009335A JP933592A JPH05198786A JP H05198786 A JPH05198786 A JP H05198786A JP 4009335 A JP4009335 A JP 4009335A JP 933592 A JP933592 A JP 933592A JP H05198786 A JPH05198786 A JP H05198786A
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高温条件下で長時間動作させる場合にも黒点
不良を生じることがなく、撮像デバイスの信頼性を格段
に向上できるクリアモールドCCD固体撮像素子を実現
する。 【構成】 メタル配線16の保護層となるCVD膜17
の上に、所定厚みのポリスチレン又はアクリルからなる
可動イオン阻止層18を形成し、その上から透明樹脂2
0でCCD固体撮像チップ10をパッケージングしてク
リアモールドCCD固体撮像素子を作製する。可動イオ
ン阻止層18を設けたことにより、透明樹脂20内の可
動イオンの移動が該可動イオン阻止層18で阻止される
ので、高温動作時において、可動イオンがCCD固体撮
像チップ10の表面に近接して黒点不良を発生すること
がない。
不良を生じることがなく、撮像デバイスの信頼性を格段
に向上できるクリアモールドCCD固体撮像素子を実現
する。 【構成】 メタル配線16の保護層となるCVD膜17
の上に、所定厚みのポリスチレン又はアクリルからなる
可動イオン阻止層18を形成し、その上から透明樹脂2
0でCCD固体撮像チップ10をパッケージングしてク
リアモールドCCD固体撮像素子を作製する。可動イオ
ン阻止層18を設けたことにより、透明樹脂20内の可
動イオンの移動が該可動イオン阻止層18で阻止される
ので、高温動作時において、可動イオンがCCD固体撮
像チップ10の表面に近接して黒点不良を発生すること
がない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、CCD固体撮像素子を
透明樹脂でパッケージングしたクリアモールドCCD固
体撮像素子に関する。
透明樹脂でパッケージングしたクリアモールドCCD固
体撮像素子に関する。
【0002】
【従来の技術】CCD固体撮像素子の一例として、最近
ではクリアモールドと称せられる透明樹脂で該CCD固
体撮像素子をモールドしたクリアモールドCCD固体撮
像素子の開発が進められている。
ではクリアモールドと称せられる透明樹脂で該CCD固
体撮像素子をモールドしたクリアモールドCCD固体撮
像素子の開発が進められている。
【0003】図2はこの種のクリアモールドCCD固体
撮像素子の一従来例を示す。このクリアモールドCCD
固体撮像素子は、予め表面(上面)にSiO2膜やSi
N膜等の保護膜が形成されたCCD固体撮像チップ10
を、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂からなる透明樹
脂20でモールドして作製される。なお、図中30は端
子である。
撮像素子の一従来例を示す。このクリアモールドCCD
固体撮像素子は、予め表面(上面)にSiO2膜やSi
N膜等の保護膜が形成されたCCD固体撮像チップ10
を、例えばエポキシ樹脂等の熱硬化樹脂からなる透明樹
脂20でモールドして作製される。なお、図中30は端
子である。
【0004】図3は上記のクリアモールドCCD固体撮
像素子の具体的な構造を示す。半導体基板11上には受
光部となるフォトダイオード12が複数列配設され、各
フォトダイオード12に隣接して垂直転送部を形成する
CCD13が複数列配設されている。CCD13および
フォトダイオード12の上には酸化シリコン絶縁膜14
が積層形成され、該酸化シリコン絶縁膜14のCCD1
3の上方に相当する部分に2つのポリシリコン電極1
5、15が内蔵されている。このようにして形成された
垂直転送部は、入射光量を光電変換するフォトダイオー
ド12の信号電荷を図示しない水平転送部に垂直転送す
る。
像素子の具体的な構造を示す。半導体基板11上には受
光部となるフォトダイオード12が複数列配設され、各
フォトダイオード12に隣接して垂直転送部を形成する
CCD13が複数列配設されている。CCD13および
フォトダイオード12の上には酸化シリコン絶縁膜14
が積層形成され、該酸化シリコン絶縁膜14のCCD1
3の上方に相当する部分に2つのポリシリコン電極1
5、15が内蔵されている。このようにして形成された
垂直転送部は、入射光量を光電変換するフォトダイオー
ド12の信号電荷を図示しない水平転送部に垂直転送す
る。
【0005】また、ポリシリコン電極15の上方に相当
する酸化シリコン絶縁膜14の上表面には、例えばアル
ミニウムからなるメタル配線16が形成される。該メタ
ル配線16は、酸化シリコン絶縁膜14上に積層形成さ
れたCVD膜17により保護されている。
する酸化シリコン絶縁膜14の上表面には、例えばアル
ミニウムからなるメタル配線16が形成される。該メタ
ル配線16は、酸化シリコン絶縁膜14上に積層形成さ
れたCVD膜17により保護されている。
【0006】以上の構成によりCCD固体撮像チップ1
0が作製され、該CCD固体撮像チップ10に透明樹脂
20をモールドしてクリアモールドCCD固体撮像素子
が作製される。
0が作製され、該CCD固体撮像チップ10に透明樹脂
20をモールドしてクリアモールドCCD固体撮像素子
が作製される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、本発明者等
が上記構成のクリアモールドCCD固体撮像素子を撮像
デバイスとしてのカメラに実装し、相対湿度30%以下
で60℃〜90℃の高温動作テストを実施したところ、
約70〜100時間で透明樹脂20内の可動イオンの影
響でCCDの画像に黒点不良が発生することが判明し
た。
が上記構成のクリアモールドCCD固体撮像素子を撮像
デバイスとしてのカメラに実装し、相対湿度30%以下
で60℃〜90℃の高温動作テストを実施したところ、
約70〜100時間で透明樹脂20内の可動イオンの影
響でCCDの画像に黒点不良が発生することが判明し
た。
【0008】その原因は、上記構成のクリアモールドC
CD固体撮像素子にあっては、透明樹脂20がCVD膜
17膜に接してモールドされるため、CCD固体撮像チ
ップ10の表面に可動イオンが近接するためであると推
察される。
CD固体撮像素子にあっては、透明樹脂20がCVD膜
17膜に接してモールドされるため、CCD固体撮像チ
ップ10の表面に可動イオンが近接するためであると推
察される。
【0009】なお、撮像デバイスへの通電をストップ
し、該撮像デバイスが動作していない状態で、70℃〜
80℃の高温雰囲気下に放置すると、可動イオンが分散
されるため、該黒点不良が消失することを併せて確認で
きた。
し、該撮像デバイスが動作していない状態で、70℃〜
80℃の高温雰囲気下に放置すると、可動イオンが分散
されるため、該黒点不良が消失することを併せて確認で
きた。
【0010】本発明は、このような従来技術の問題点を
解決するものであり、高温条件下で長時間動作させる場
合にも黒点不良を生じることがなく、撮像デバイスの信
頼性を格段に向上できるクリアモールドCCD固体撮像
素子を提供することを目的とする。
解決するものであり、高温条件下で長時間動作させる場
合にも黒点不良を生じることがなく、撮像デバイスの信
頼性を格段に向上できるクリアモールドCCD固体撮像
素子を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明のクリアモールド
CCD固体撮像素子は、CCD固体撮像素子を透明樹脂
でパッケージングしたクリアモールドCCD固体撮像素
子において、該CCD固体撮像素子のメタル配線を保護
するカバー膜の上に可動イオン阻止層を形成し、該可動
イオン阻止層の上から該透明樹脂で該CCD固体撮像素
子をパッケージングしてなり、そのことにより上記目的
が達成される。
CCD固体撮像素子は、CCD固体撮像素子を透明樹脂
でパッケージングしたクリアモールドCCD固体撮像素
子において、該CCD固体撮像素子のメタル配線を保護
するカバー膜の上に可動イオン阻止層を形成し、該可動
イオン阻止層の上から該透明樹脂で該CCD固体撮像素
子をパッケージングしてなり、そのことにより上記目的
が達成される。
【0012】好ましくは、前記可動イオン阻止層を厚さ
1.5μm以上のアクリル又は厚さ3.0μm以上のポ
リスチレンで形成する。
1.5μm以上のアクリル又は厚さ3.0μm以上のポ
リスチレンで形成する。
【0013】
【作用】上記のように、メタル配線を保護するカバー膜
の上に可動イオン阻止層を形成し、その上から透明樹脂
でCCD固体撮像素子をパッケージングする構造による
場合、すなわちカバー膜に続いて可動イオン阻止層を形
成し、その後に透明樹脂でCCD固体撮像素子をモール
ドする構造による場合は、透明樹脂内の可動イオンの移
動が該可動イオン阻止層で阻止されるので、高温動作時
において、可動イオンがCCD固体撮像素子の表面に近
接して黒点不良を発生するのを確実に防止できる。
の上に可動イオン阻止層を形成し、その上から透明樹脂
でCCD固体撮像素子をパッケージングする構造による
場合、すなわちカバー膜に続いて可動イオン阻止層を形
成し、その後に透明樹脂でCCD固体撮像素子をモール
ドする構造による場合は、透明樹脂内の可動イオンの移
動が該可動イオン阻止層で阻止されるので、高温動作時
において、可動イオンがCCD固体撮像素子の表面に近
接して黒点不良を発生するのを確実に防止できる。
【0014】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。
【0015】図1は本発明クリアモールドCCD固体撮
像素子の構造を示す。半導体基板11上には受光部とな
るフォトダイオード12が複数列配設され、各フォトダ
イオード12に隣接して垂直転送部を形成するCCD1
3が複数列配設されている。CCD13およびフォトダ
イオード12の上には酸化シリコン絶縁膜14が積層形
成され、該酸化シリコン絶縁膜14のCCD13の上方
に相当する部分に2つのポリシリコン電極15、15が
内蔵されている。このようにして形成された垂直転送部
は、入射光量を光電変換するフォトダイオード12の信
号電荷を図示しない水平転送部に垂直転送する。
像素子の構造を示す。半導体基板11上には受光部とな
るフォトダイオード12が複数列配設され、各フォトダ
イオード12に隣接して垂直転送部を形成するCCD1
3が複数列配設されている。CCD13およびフォトダ
イオード12の上には酸化シリコン絶縁膜14が積層形
成され、該酸化シリコン絶縁膜14のCCD13の上方
に相当する部分に2つのポリシリコン電極15、15が
内蔵されている。このようにして形成された垂直転送部
は、入射光量を光電変換するフォトダイオード12の信
号電荷を図示しない水平転送部に垂直転送する。
【0016】また、ポリシリコン電極15の上方に相当
する酸化シリコン絶縁膜14の上表面には、例えばアル
ミニウムからなるメタル配線16が形成される。該メタ
ル配線16は、酸化シリコン絶縁膜14上に積層形成さ
れたCVD膜17により保護されている。
する酸化シリコン絶縁膜14の上表面には、例えばアル
ミニウムからなるメタル配線16が形成される。該メタ
ル配線16は、酸化シリコン絶縁膜14上に積層形成さ
れたCVD膜17により保護されている。
【0017】加えて、CVD膜17の上表面には所定厚
みの可動イオン阻止層18が形成され、これでCCD固
体撮像チップ10が作製される。そして、この状態のC
CD固体撮像チップ10に透明樹脂20をモールドして
本発明クリアモールドCCD固体撮像素子が作製され
る。
みの可動イオン阻止層18が形成され、これでCCD固
体撮像チップ10が作製される。そして、この状態のC
CD固体撮像チップ10に透明樹脂20をモールドして
本発明クリアモールドCCD固体撮像素子が作製され
る。
【0018】上記のような可動イオン阻止層18を設け
ると、該可動イオン阻止層18により透明樹脂20内の
図示する可動イオンがCCD固体撮像チップ10の表面
に近接するのが防止されるので、黒点不良を生じること
がない。
ると、該可動イオン阻止層18により透明樹脂20内の
図示する可動イオンがCCD固体撮像チップ10の表面
に近接するのが防止されるので、黒点不良を生じること
がない。
【0019】上記の構成において、可動イオン阻止層1
8として性能の秀れた材料を選択するために、種々の実
験を行ったところ、アクリル又はポリスチレンが好まし
く、この2種の材料について実験、比較したところ、特
に、ポリスチレンを用いると、クリアモールドCCD固
体撮像素子が組み込まれた撮像デバイスの高温動作テス
トにおいて上記の黒点不良を確実に防止できることが確
認できた。
8として性能の秀れた材料を選択するために、種々の実
験を行ったところ、アクリル又はポリスチレンが好まし
く、この2種の材料について実験、比較したところ、特
に、ポリスチレンを用いると、クリアモールドCCD固
体撮像素子が組み込まれた撮像デバイスの高温動作テス
トにおいて上記の黒点不良を確実に防止できることが確
認できた。
【0020】また、ポリスチレンを用いる場合の可動イ
オン阻止層18の厚みとしては、3.0μm以上で黒点
不良を確実に防止できることが確認できた。従って、実
施する上では、厚みが3.0μm以上のポリスチレンで
可動イオン阻止層18を形成すると、好ましいものにな
る。
オン阻止層18の厚みとしては、3.0μm以上で黒点
不良を確実に防止できることが確認できた。従って、実
施する上では、厚みが3.0μm以上のポリスチレンで
可動イオン阻止層18を形成すると、好ましいものにな
る。
【0021】これに対して、アクリルを用いる場合は、
1.5μm以上の厚みで黒点不良の防止効果を奏するこ
とが確認できた。但し、厚さが1.5μmの場合は、黒
点の薄いものが認められた。
1.5μm以上の厚みで黒点不良の防止効果を奏するこ
とが確認できた。但し、厚さが1.5μmの場合は、黒
点の薄いものが認められた。
【0022】なお、高温動作テストは、60℃〜90℃
の高温動作を70〜100時間続けて行った。
の高温動作を70〜100時間続けて行った。
【0023】
【発明の効果】以上の本発明クリアモールドCCD固体
撮像素子は、可動イオン阻止層を有し、該可動イオン阻
止層の上から透明樹脂をモールドする構成をとるので、
透明樹脂内の可動イオンの移動が該可動イオン阻止層で
阻止される。従って、高温動作時において、可動イオン
がCCD固体撮像素子の表面に近接して黒点不良を発生
するのを確実に防止できる。それ故、本発明クリアモー
ルドCCD固体撮像素子を撮像デバイスに組み込むと、
該撮像デバイスの信頼性を格段に向上できる利点があ
る。
撮像素子は、可動イオン阻止層を有し、該可動イオン阻
止層の上から透明樹脂をモールドする構成をとるので、
透明樹脂内の可動イオンの移動が該可動イオン阻止層で
阻止される。従って、高温動作時において、可動イオン
がCCD固体撮像素子の表面に近接して黒点不良を発生
するのを確実に防止できる。それ故、本発明クリアモー
ルドCCD固体撮像素子を撮像デバイスに組み込むと、
該撮像デバイスの信頼性を格段に向上できる利点があ
る。
【図1】本発明クリアモールドCCD固体撮像素子の要
部断面図。
部断面図。
【図2】クリアモールドCCD固体撮像素子の一従来例
を示す模式的正面図。
を示す模式的正面図。
【図3】図2に示すクリアモールドCCD固体撮像素子
の要部断面図。
の要部断面図。
10 CCD固体撮像チップ 11 半導体基板 12 フォトダイオード 13 CCD 16 メタル配線 17 CVD膜 18 可動イオン阻止層 20 透明樹脂
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 8617−4M H01L 23/30 D
Claims (2)
- 【請求項1】CCD固体撮像素子を透明樹脂でパッケー
ジングしたクリアモールドCCD固体撮像素子におい
て、 該CCD固体撮像素子のメタル配線を保護するカバー膜
の上に可動イオン阻止層を形成し、該可動イオン阻止層
の上から該透明樹脂で該CCD固体撮像素子をパッケー
ジングしたクリアモールドCCD固体撮像素子。 - 【請求項2】前記可動イオン阻止層が厚さ1.5μm以
上のアクリル又は厚さ3.0μm以上のポリスチレンで
形成されている請求項1記載のクリアモールドCCD固
体撮像素子。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4009335A JPH05198786A (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | クリアモールドccd固体撮像素子 |
KR1019930000682A KR970001886B1 (ko) | 1992-01-22 | 1993-01-20 | 전하결합 소자를 포함하는 클리어 몰드 고체촬상장치 |
EP93300460A EP0552969B1 (en) | 1992-01-22 | 1993-01-22 | Method of manufacturing a clear-mould solid-state imaging device using a charge coupled device |
US08/006,923 US5384480A (en) | 1992-01-22 | 1993-01-22 | Clear-mold solid-state imaging device using a charge coupled device |
DE69332296T DE69332296T2 (de) | 1992-01-22 | 1993-01-22 | Verfahren zur Herstellung eines Festkörperbildsensors mit transparentem Überzug und ladungsgekuppelter Anordnung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4009335A JPH05198786A (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | クリアモールドccd固体撮像素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05198786A true JPH05198786A (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=11717603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4009335A Pending JPH05198786A (ja) | 1992-01-22 | 1992-01-22 | クリアモールドccd固体撮像素子 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5384480A (ja) |
EP (1) | EP0552969B1 (ja) |
JP (1) | JPH05198786A (ja) |
KR (1) | KR970001886B1 (ja) |
DE (1) | DE69332296T2 (ja) |
Cited By (2)
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