JPH05194414A - コラゲナーゼ阻害剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式 【化１３】 ［式中、Ｒ¹ は−ＯＲ³ （Ｒ³ はＨ、アルキル）、−Ｎ
Ｒ⁴ Ｒ⁵ （Ｒ⁴ 及びＲ⁵はＨ、アルキル、アルコキ
シ）、−ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＲ⁷ 基（Ｒ⁶ はＨ、アル
キル、Ｒ⁷ はアルキル）、−ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＯＲ
⁸ 基（Ｒ⁸ はアルキル）又は−ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＮ
Ｒ⁹ Ｒ¹⁰基（Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰はＨ、アルキル又はＮＲ⁹ Ｒ
¹⁰が一緒になって複素環）：Ｒ² はＨ、アルキル又はア
ラルキル）を有する化合物。 【効果】 本発明の化合物はIV型コラゲナーゼに対し阻
害活性を有するので、血管新生、癌浸潤又は癌転移の抑
制剤として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、優れたコラゲナーゼ阻
害活性を有する新規なピペラジン酸誘導体に関する。

【０００２】

【従来の技術】コラゲナーゼは結合組織などの主要構成
成分の１つであるコラーゲンを分解する酵素であり、こ
のうち、IV型コラゲナーゼは基底膜の主要成分であるIV
型コラーゲンを分解する。そして、癌が生育する際の血
管新生、癌の浸潤及び転移においてはIV型コラゲナーゼ
活性が上昇し、基底膜の破壊に主要な役割を果たしてい
ることが知られている（William G.Stetler-Stevenson
; Cancer andMetastasis Reviews, vol.9, 289-30
3,(1990))。従って、コラゲナーゼ阻害剤はこれら疾患
の予防・治療に有用である。

【０００３】従来、コラゲナーゼ阻害作用を示す低分子
物質としてはメルカプト基を含むペプチド性化合物(Rob
ert D. Gray, Hossain H. Saneii and Arno F. Spatola
;Biochemical and Biophysical Research Communicati
ons, Vol. 101, No. 4 ,1251-1258, (1981) ／Charles
F. Vencill, David Rasnick, Katherine V.Crumley, No
rikazu Nishino and James C. Powers ; Biochemistry
Vol. 24,3149-3157, (1985))、カルボキシル基を含むペ
プチド性化合物（Jean-MarieDelaisse, Yves Eeckhout,
Christopher Sear, Alan Galloway, KeithMcCullagh a
nd Gilbert Vaes ; Biochemical and Biophysical Rese
archCommunications, Vol.133, 483-490,(1985))、ベン
ジルオキシカルボニル−プロリル−ロイシル−グリシル
ヒドロキサム酸（William M. Moore and Curtis A.Spil
burg ; Biochemical and Biophysical Research Commun
ications, Vol.136,390-395,(1986)), ヒドロキシルア
ミン誘導体（特開平第1-160997号）などが報告されてい
る。またIV型コラゲナーゼに対して比較的特異性の強い
ものとしてSC44463 (Reuven Reich,Erik W. Thompson,
Yukihide Iwamoto, George R.Martin, James R. Deaso
n, George C. Fuller, and Ruth Miskin ; CancerResea
rch, Vol.48, 3307-3312, (1988))が報告されている。
このSC44463 は、癌転移抑制活性を示すことが動物実験
により確認されている。しかしこれらはいずれも合成品
であり、また未だ実用に供されていない。

【０００４】一方、蛋白性のコラゲナーゼ阻害物質とし
てはTissue Inhibitor ofMetalloproteinase (TIMP)及
びその類縁物質が知られている。TIMPは組み換えＤＮＡ
技術により量産が可能になっているが、未だ実用に供さ
れていない（Docherty. A.J. P, Lyons A, Smith B.J,
Wright E.M, Stephens P.E, HarrisT. J. R, Murphy G,
and Reynolds J.J ; Sequence of human tissueinhibi
tor of metalloproteinases and its identity to eryt
hroid-potentiating activity. Nature,vol.318, 66-6
9, (1985)) 。

【０００５】またヒドロキシアミノ化された２−ペンチ
ルコハク酸の構造を有している化合物として、放線菌の
培養濾液から単離されたアクチノニン（actinonin)があ
る。本化合物は、アミノペプチダーゼＭを低濃度で阻害
することが報告されている（Umezawa, H., Aoyagi, T.,
Tanaka, T., Suda, T.,Okuyama, A., Naganawa, H.,Ha
mada, M. and Takeuchi, T. : J. Antibiot.,vol.38, 1
629-30, (1985) ) がIV型コラゲナーゼを阻害するかど
うかは検討されていない。

【０００６】さらに、下記の式で示される天然物がスト
レプトミセス属に属する菌株から単離され、この天然物
が抗菌作用及びコラゲナ−ゼ阻害作用を有することが知
られている（特開平３−１５７３７２号）。

【０００７】

【化２】

【０００８】さらにまた、特開平３−５３８９１号に式

【０００９】

【化３】

【００１０】の化合物の構造が記載され、その化合物が
抗菌活性を有することが記載されているが、IV型コラゲ
ナーゼ阻害活性を有する記載はない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、さらに
優れたIV型コラゲナーゼ阻害活性を有する誘導体の合成
とその薬理活性について、鋭意研究を行なった結果、新
規なマトリスタチン誘導体が優れたIV型コラゲナーゼ阻
害活性を有し、有用な血管新生抑制剤、癌浸潤抑制剤又
は癌転移抑制剤となり得ることを見出し、本発明を完成
した。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の化合物（１）
は、一般式

【００１３】

【化４】

【００１４】を有する。

【００１５】上記式中、Ｒ¹ は−ＯＲ³ 基（式中、Ｒ³
は水素原子又は炭素数１乃至４個のアルキル基を示す）
−ＮＲ⁴ Ｒ⁵ 基（式中、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は同一又は異なっ
て水素原子、は炭素数１乃至４個のアルキル又は炭素数
１乃至４個のアルコキシ基を示す）、−ＮＨＣＨ（Ｒ
⁶ ）ＣＯＲ⁷ 基（式中、Ｒ⁶ は水素原子又は炭素数１乃
至４個のアルキル基を示し、Ｒ⁷ は炭素数１乃至４個の
アルキル基を示す）−ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＯＲ⁸ 基
（式中、Ｒ⁶ は前述のものと同意義を示し、Ｒ⁸ は炭素
数１乃至４個のアルキル基を示す）又は−ＮＨＣＨ（Ｒ
⁶ ）ＣＯＮＲ⁹ Ｒ¹⁰基（式中、Ｒ⁶ は前述のものと同意
義を示し、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰は同一又は異なって水素原子若
しくは炭素数１乃至４個のアルキル基を示すか又はＮＲ
⁹ Ｒ¹⁰が一緒になって複素環基を示す）を示し、Ｒ² は
水素原子、炭素数３乃至１６個のアルキル基又は置換さ
れていてもよいフェニルと炭素数１乃至４個のアルキル
からなるアラルキル基を示す。

【００１６】但し、Ｒ¹ が−ＮＨＣＨ（Ｒ^6a）ＣＯＲ^7a
基（式中、Ｒ^6aとＲ^7aの組み合わせはイソブチルとメチ
ル基又はエチルとｓｅｃ−ブチル基である）であり、Ｒ
² がペンチル基である化合物を除く。

【００１７】上記式（１）中、Ｒ¹ におけるＲ³ 、Ｒ
⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰の炭素数１
乃至４個のアルキル基、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ の炭素数１乃至４
個のアルコキシ基のアルキル部分並びにＲ² におけるア
ラルキル基の炭素数１乃至４個のアルキル部分として
は、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブ
チル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチルのような炭素数
１乃至４個の直鎖又は分枝鎖アルキル基があげられ、好
適にはＲ¹ におけるＲ⁶ についてはメチル、イソプロピ
ル、イソブチル、ｓ−ブチルであり、その他のものにつ
いては炭素数１乃至２個のものである。

【００１８】上記一般式（１）中、Ｒ² におけるアラル
キル基のフェニル部分の置換基としては、メチル、エチ
ルなどのアルキル基、メトキシ、エトキシなどのアルコ
キシ基、クロロ、ブロモなどのハロゲノ基があげられ
る。

【００１９】上記一般式（１）中、Ｒ² におけるアラル
キル基全体としては、好適には無置換のベンジル基、フ
ェネチル基である。

【００２０】上記一般式（１）中、Ｒ¹ におけるＮＲ⁹
Ｒ¹⁰が一緒になって示す複素環基としては、ピロリジン
−１−イル、イミダゾリジン−１−イル、ピラゾリジン
−１−イル、ピラゾリン−１−イル、ピペリジノ、ピペ
ラジン−１−イル、モルホリノ基のような含窒素複素環
基があげられ、好適にはピロリジン−１−イル、ピペリ
ジノ、モルホリノ基である。

【００２１】上記一般式（１）中、Ｒ² における炭素数
３乃至１６個のアルキル基としては、n-プロピル、イソ
プロピル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチ
ル、n-ペンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオ
ペンチル、1-エチルプロピル、n-ヘキシル、4-メチルペ
ンチル、3-メチルペンチル、2-メチルペンチル、1-メチ
ルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチ
ル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジ
メチルブチル、2,3-ジメチルブチル、2-エチルブチル、
n-ヘプチル、1-メチルヘキシル、2-メチルヘキシル、3-
メチルヘキシル、4-メチルヘキシル、5-メチルヘキシ
ル、1-プロピルブチル、4,4-ジメチルペンチル、n-オク
チル、1-メチルヘプチル、2-メチルヘプチル、3-メチル
ヘプチル、4-メチルヘプチル、5-メチルヘプチル、6-メ
チルヘプチル、1-プロピルペンチル、2-エチルヘキシ
ル、5,5-ジメチルヘキシル、n-ノニル、3-メチルオクチ
ル、4-メチルオクチル、5-メチルオクチル、6-メチルオ
クチル、1-プロピルヘキシル、2-エチルヘプチル、6,6-
ジメチルヘプチル、n-デシル、1-メチルノニル、3-メチ
ルノニル、8-メチルノニル、3-エチルオクチル、3,7-ジ
メチルオクチル、7,7-ジメチルオクチル、ウンデシル、
4,8-ジメチルノニル、ドデシル、トリデシル、テトラデ
シル、ペンタデシル、3,7,11- トリメチルドデシル、ヘ
キサデシル、4,8,12-トリメチルトリデシル、1-メチル
ペンタデシル、14- メチルペンタデシル、13,13-ジメチ
ルテトラデシルのような直鎖又は分枝鎖アルキル基があ
げられ、好適には炭素数４乃至１２個のものであり、さ
らに好適には６乃至１０個のものである。

【００２２】本発明の化合物のうち好適なものとして
は、 ２）Ｒ¹ が−ＯＲ³ 基 （式中、Ｒ³ は水素原子又は炭素数１乃至４個のアルキ
ル基を示す）、 −ＮＲ⁴ Ｒ⁵ 基 （式中、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は同一又は異なって水素原子、炭
素数１乃至４個のアルキル基又は炭素数１乃至４個のア
ルコキシ基を示す）、 −ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＲ⁷ 基 （式中、Ｒ⁶ は水素原子又は炭素数１乃至４個のアルキ
ル基を示し、Ｒ⁷ は炭素数１乃至４個のアルキル基を示
す）又は、 −ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＮＲ⁹ Ｒ¹⁰基 （式中、Ｒ⁶ は前述のものと同意義を示し、Ｒ⁹ 及びＲ
¹⁰は同一又は異なって水素原子若しくは炭素数１乃至４
個のアルキル基を示すか又はＮＲ⁹ Ｒ¹⁰が一緒になって
複素環基を示す）であり、Ｒ² が水素原子、炭素数３乃
至１６個のアルキル基又は置換されていてもよいフェニ
ルと炭素数１乃至４個のアルキルからなるアラルキル基
である化合物 ３）Ｒ¹ が−ＯＲ³ 基 （式中、Ｒ³ は水素原子又は炭素数１乃至４個のアルキ
ル基を示す）、 −ＮＲ⁴ Ｒ⁵ 基 （式中、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は同一又は異なって水素原子又は
炭素数１乃至４個のアルキル基を示す）又は、 −ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＲ⁷ 基 （式中、Ｒ⁶ は水素原子又は炭素数１乃至４個のアルキ
ル基を示し、Ｒ⁷ は炭素数１乃至４個のアルキル基を示
す）であり、Ｒ² が水素原子、炭素数３乃至１６個のア
ルキル基又は置換されていてもよいフェニルと炭素数１
乃至４個のアルキルからなるアラルキル基である化合物 ４）Ｒ¹ が−ＮＲ⁴ Ｒ⁵ 基 （式中、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は同一又は異なって水素原子又は
炭素数１乃至４個のアルキル基を示す）であり、Ｒ² が
炭素数３乃至１６個のアルキル基 置換されていてもよいフェニルと炭素数１乃至２個のア
ルキルからなるアラルキル基である化合物 ５）Ｒ¹ が−ＮＲ⁴ Ｒ⁵ 基 （式中、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は同一又は異なって水素原子又は
炭素数１乃至４個のアルキル基を示す）であり、Ｒ² が
炭素数６乃至１０個のアルキル基である化合物があげら
れる。

【００２３】本発明の化合物（１）は、不斉炭素を有
し、各々がＲ配置、Ｓ配置である立体異性体が存在する
が、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明
に包含される。

【００２４】本発明の化合物としては、表１に記載した
化合物をあげることができるが、本発明はこれらの化合
物に限定されるものではない。

【００２５】表１中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル
基、Ｐｒはプロピル基、ｉＰｒはイソプロピル基、ｓＢ
ｕはＳ−ブチル基、ｉＢｕはイソブチル基、Ｐｅｎはペ
ンチル基、Ｈｅｘはヘキシル基、Ｈｅｐはヘプチル基、
Ｏｃｔはオクチル基、Ｄｅｃはデシル基、Ｐｈはフェニ
ル基、ＰｈＥはフェネチル基、Ａｍはアミル基、Ｐｙｒ
ｄはピロリジン−１−イル基、Ｉｍｉｄはイミダゾリジ
ン−１−イル基、Ｐｙｚｒはピラゾリジン−１−イル
基、Ｐｙｚはピラゾリン−１−イル基、Ｐｉｐｅはピペ
リジノ基、Ｐｉｐｒはピペラジン−１−イル基、Ｍｏｒ
はモルホリノ基を示す。

【００２６】

【化５】

【００２７】

【表１】 上記表中の例示化合物のうち、好適な化合物としては、
１，２，３，４，５，６，７，１３，１４，１５，１
６，１７，１８，１９，２３，２４，２５，２６，２
７，２８，２９，３０，３３，３４，３５，５４，５
５，５６，６０，６１，６２，６４，６５，６６，６
７，６８，６９，７３，７４，８２，８３，８６，８
７，８８，８９，９０，９１，９５，１０１，１０４及
び１０７があげられ、さらに好適な化合物としては、
１，２，３，５，６，１３，１４，１５，１６，１７，
１８，１９，２４，２６，２７，２８，２９，３０，５
４，５５，５６，６０及び６４があげられる。

【００２８】最も好適な化合物としては、１３，１５，
１６，１７，１８，１９，２６，２７，２８，２９及び
３０があげられる。

【００２９】本発明の化合物は、以下に記載する方法に
よって製造することができる。

【００３０】

【化６】

【００３１】

【化７】

【００３２】

【化８】

【００３３】

【化９】

【００３４】

【化１０】

【００３５】

【化１１】

【００３６】

【化１２】

【００３７】前記工程表においてＲ¹ 、Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ
⁴ 、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ 、Ｒ⁷ 、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹及びＲ¹⁰は前述のも
のと同意義を示し、Ａはアミノ基の保護基（好適にはベ
ンジルオキシカルボニル基）を示し、Ｂ¹ はカルボキシ
ル基の保護基（好適にはｔ−ブチル基又はベンジル基）
を示し、Ｂ² はカルボキシル基の保護基（好適にはメチ
ル、エチル基）を示し、Ｂ³ はトリ置換シリル基（好適
にはトリメチルシリル基）を示し、Ｂ⁴ はカルボキシル
基の保護基（好適にはベンジル、tert−ブチル、トリク
ロロエチル、トリブロモエチル基）を示し、Ｂ⁵ はアミ
ノ基の保護基（好適にはベンジルオキシカルボニル、ｔ
−ブトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、トリ
クロロエトキシカルボニル基）を示し、Ｂ⁶ は水酸基の
保護基（好適にはベンジル基）を示し、Ｚは光学活性な
２−オキソ−オキサゾリジル基を示す。 化合物（４）
は、既知の化合物（Massall,C.M.,Johnson M.,and Theo
bald C.J.,J.Chem.Soc.Perkin I,1971年,1451 頁）であ
るが、以下に示す第１ａ、１ｂ及び２工程によって得ら
れることもできる。

【００３８】（第１ａ工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、文献公知（文献名 Synthetic communic
ation 1988年,2225 頁）である化合物（２）を加水分解
する工程である。

【００３９】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソ
プロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタ
ノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコー
ル、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノール、
メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホ
ロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタ
ン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニ
トリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホル
ムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類などがあげられ、好適には、アルコール類であ
る。

【００４０】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類をあげられ、好適には、アルカリ金属水酸化物類で
ある。

【００４１】反応温度は通常２０乃至２００℃であり、
好適には５０乃至１３０℃である。反応時間は使用され
る原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常２乃
至７２時間であり、好適には、５乃至２４時間である。
反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注
ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しな
い溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなど
で抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得ら
れるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望に
より、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製
することもできる。

【００４２】（第１ｂ工程）本工程は、不活性溶剤中、
第１ａ工程により得られるピペラジンカルボン酸の１位
のアミノ基を保護して、化合物（３）を製造する工程で
ある。

【００４３】アミノ基の保護基としては、好適には、ベ
ンジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシカル
ボニル基である。

【００４４】すなわち、不活性溶剤中、塩基の存在下、
対応する市販または容易に調製されるカルバミン酸エス
テル合成試剤（好適には、ベンジルオキシカルボニルク
ロリドを反応させることにより行なうことができる。使
用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をあ
る程度溶解するものであれば特に限定はないが、ヘキサ
ン、ヘプタン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪
族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類、メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパ
ノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類、
水、又は前述の有機溶剤と水との混合溶剤などがあげら
れ、好適には、対応するアルコ−ルと水との混合溶剤で
ある。

【００４５】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウン
デク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられる
が、好適にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類であ
る。

【００４６】反応温度は通常０乃至５０℃であり、好適
には０乃至２０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至２４時
間であり、好適には、１乃至３時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。る。

【００４７】（第２工程）本工程は、不活性溶剤中、
縮合剤の存在下、化合物（３）に、アルコ−ルＢ¹ ＯＨ
（特にベンジルアルコール、ｔ−ブチルアルコール）を
反応させるか、又は、不活性溶剤中、化合物（３）に
エステル化する試薬を反応させて、化合物（４）を製造
する工程である。

【００４８】において、使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエス
テル類、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケト
ン類、ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化
合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのような
ニトリル類、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン
のようなスルホキシド類があげられるが、好適には芳香
族炭化水素類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、ニ
トリル類、アミド類である。

【００４９】使用される縮合剤としては、例えば、アゾ
ジカルボン酸ジエチル−トリフェニルホスフィンのよう
なアゾジカルボン酸ジ低級アルキル−トリフェニルホス
フィン類、N-エチル-5- フェニルイソオキサゾリウム-
3'-スルホナ−トのようなN-低級アルキル-5- アリール
イソオキサゾリウム-3'-スルホナ−ト類、N',N'-ジシク
ロヘキシルカルボジイミド(DCC) のようなN',N'-ジシク
ロアルキルカルボジイミド類、ジ-2- ピリジルジセレニ
ドのようなジヘテロアリールジセレニド類、ジエチルホ
スホリルシアニド(DEPC)のようなホスフィン類、p-ニト
ロベンゼンスルホニルトリアゾリドのようなアリールス
ルホニルトリアゾリド類、2-クロル-1- メチルピリジニ
ウム ヨーダイドのような2-ハロ-1- 低級アルキルピリ
ジニウムハライド及びジフェニルホスホリルアジド(DPP
A)のようなジアリールホスホリルアジド類、N,N'- カル
ボジイミダゾール(CDI) のようなイミダゾール誘導体、
1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)のようなベンゾ
トリアゾール誘導体、N-ヒドロキシ-5- ノルボルネン-
2,3- ジカルボキシイミド(HONB)のようなジカルボキシ
イミド誘導体、1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピ
ル）カルボジイミド(EDAPC) のようなカルボジイミド誘
導体があげられるが、好適には、カルボジイミド類（特
にDCC 、DEPC）である。

【００５０】反応温度は通常０乃至１００℃であり、好
適には１０乃至５０℃である。反応時間は使用される原
料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４
８時間であり、好適には、１乃至１２時間である。反応
終了後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩
酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、不溶物を濾去し、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。 において、エステル化試薬としてもの、好適には、イ
ソブテンであり、不活性溶剤中、酸触媒の存在下に、反
応させることにより達成される。

【００５１】使用される溶剤としては、ヘキサン、ヘプ
タン、リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水
素類；ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリ
アミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スル
ホランのようなスルホキシド類などがあげられ、好適に
は、エーテル類（特に、ジオキサン）である。

【００５２】使用される酸触媒としては、通常の反応に
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレ
ンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリ
クロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミド
のようなルイス酸をあげることができ、好適には有機酸
であり、更に好適には有機強酸（特に塩酸）である。

【００５３】反応温度は通常０乃至５０℃であり、好適
には０乃至２５℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４８時
間であり、好適には、１乃至２４時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、水と混
和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチ
ルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによっ
て得られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。
所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単
離精製することもできる。

【００５４】（第３工程）本工程は、不活性溶剤中、
対応するアルコールＢ² ＯＨ（特にメタノール、エタノ
ール）とマロン酸（５）の反応性誘導体すなわち酸ハラ
イド又は酸無水物を塩基の存在下に反応させるか、また
は、対応するアルコールＢ² ＯＨアルコールとマロン
酸（５）を縮合剤の存在下に反応させることにより、化
合物（６）エステルを製造する工程である。

【００５５】において、使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類などがあげられ、好適には、アル
コール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類で
ある。

【００５６】使用される酸ハライドのハライド部分とし
ては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好適には塩素、
臭素である。

【００５７】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]
オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウン
デク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられる
が、好適にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類であ
る。

【００５８】反応温度は通常０乃至６０℃であり、好適
には０乃至３０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至２４時
間であり、好適には、１乃至６時間である。反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。る。

【００５９】において、使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類などがあげられ、好適には、ハロゲン化
炭化水素類（特にメチレンクロリド）、エーテル類（特
にテトラヒドロフラン）、芳香族炭化水素類（特にベン
ゼン）である。

【００６０】使用される縮合剤としては、好適にはＤＣ
Ｃ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）、ＣＤＩ（Ｎ，
Ｎ’−カルボニルジイミダゾール）、ＤＰＰＡ（ジフェ
ニルホスホリルアジド）、ＨＯＢＴ（１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール）、ＨＯＮＢ（Ｎ−ヒドロキシ−５−
ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド）またはＥ
ＤＡＰＣ（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロ
ピル）カルボジイミド）などをあげることができる。

【００６１】縮合剤を使用する場合には、脱酸剤を併用
することで、さらに効率よく、反応を行うことができ
る。

【００６２】使用される脱酸剤としては、好適にはピリ
ジン、ジメチルアミノピリジン、ピロリジノピリジンの
ような有機アミンをあげることができる。また、上述の
縮合剤を用いる場合、このアミンを使用すると反応はよ
り早く進行する。

【００６３】反応温度は通常０乃至６０℃であり、好適
には０乃至３０℃である。反応時間は使用される原料、
溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至４８時
間であり、好適には、１乃至１２時間である。目的化合
物は種々の方法を適宜組合わせることによって採取、分
離、精製することができる。例えば反応液を水に注ぎ、
水と混和しない溶剤、例えばベンゼン、エーテル、酢酸
エチルなどを加え、不溶物があれば、適宜、ろ去し、抽
出液を分離後、希塩酸および炭酸水素ナトリウム等で洗
浄し、溶剤を留去することによって得られる。このよう
にして得られた目的化合物は必要ならば更に、例えば活
性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる吸着またはイオ
ン交換クロマト、あるいはセファデックスカラムによる
ゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロロホルムなどの
有機溶剤を用いての再結晶などにより行なわれる。 （第４工程）本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、
アルキルハライドＲ² Ｘ（Ｘはハロゲノ基を示し、好適
にはクロロ、ブロモである）を化合物（６）に反応させ
て、化合物（７）を製造する工程である。

【００６４】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、
n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベン
ゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類があげら
れ、好適には、エーテル類（特に、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン）、アミド類（特にジメチルホルム
アミド）である。使用される塩基としては、通常の反応
において塩基として使用されるものであれば、特に限定
はないが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウ
ムのようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアル
カリ金属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムブトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、
水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無
機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイ
ソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジ
ン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチル
アニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ
[4.3.0] ノナ-5- エン(DBN) 、1,4-ジアザビシクロ[2.
2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]
ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられ
るが、好適にはアルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属
アルコキシド、有機塩基類である。

【００６５】使用されるアルキルハライドのハライド部
分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好適には
塩素、臭素である。

【００６６】反応温度は通常−２０乃至１００℃であ
り、好適には−１０乃至５０℃である。反応時間は使用
される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常
１乃至４８時間であり、好適には、１乃至１５時間であ
る。目的化合物は種々の方法を適宜組合わせることによ
って採取、分離、精製することができる。例えば反応液
を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、例えばベンゼン、エ
ーテル、酢酸エチルなどを加え、不溶物があれば、適
宜、ろ去し、抽出液を分離後、希塩酸および炭酸水素ナ
トリウム等で洗浄し、溶剤を留去することによって得ら
れる。このようにして得られた目的化合物は必要ならば
更に、例えば活性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる
吸着またはイオン交換クロマト、あるいはセファデック
スカラムによるゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロ
ロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶などにより行
なわれる。

【００６７】（第５工程）本工程は、不活性溶剤中、化
合物（７）に、塩基を反応させて、加水分解後、脱炭酸
し、化合物（８）を製造する方法である。使用される溶
剤としては、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エ
ーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロ
リド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、ク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭
化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ
−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、
イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-
ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキサノー
ル、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イ
ソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロ
エタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセ
トニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類及びこれら有機溶剤と水との混合溶剤などが
あげられ、好適には、アルコール類と水との混合溶剤で
ある。

【００６８】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムの
ようなアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのようなアルカリ金
属炭酸水素塩類、水素化リチウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物類、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸
化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類等の無機塩
基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類ビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類があげられるが、好適
にはアルカリ金属水酸化物類、有機塩基類である。

【００６９】反応温度は通常０乃至１２０℃であり、好
適には２０乃至１２０℃である。反応時間は使用される
原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃至
４８時間であり、好適には、１乃至１６時間である。こ
の工程において、加水分解のみが進行し、脱炭酸反応が
十分に進行していない場合には、コリジン、ルチジンな
どを加え、１００乃至１２０℃で加熱することにより達
成される。

【００７０】目的化合物は種々の方法を適宜組合わせる
ことによって採取、分離、精製することができる。例え
ば反応液を水に注ぎ、塩酸などで酸性とし、水と混和し
ない溶剤、例えばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなど
を加え、不溶物があれば、適宜、ろ去し、抽出液を分離
後、希塩酸で洗浄し、溶剤を留去することによって得ら
れる。このようにして得られた目的化合物は必要ならば
更に、例えば活性炭、シリカゲル等の各種担体を用いる
吸着またはイオン交換クロマト、あるいはセファデック
スカラムによるゲル濾過、エーテル、酢酸エチル、クロ
ロホルムなどの有機溶剤を用いての再結晶などにより行
なわれる。

【００７１】（第６工程）本工程は、第５工程で得られ
たカルボン酸（８）又は市販のカルボン酸（８）を用い
て、化合物（９）を製造する工程であり、本工程は第３
工程と同様にして行なうことができる。

【００７２】（第７工程）本工程は、不活性溶剤中、化
合物（８）に、カルボン酸のハロゲン化試薬を反応させ
て得られる酸ハライドに、ｎ−ブチルリチムの存在下、
光学活性なオキサゾリジン−２−オンＺＨを反応させ、
化合物（１０）を得る工程である。

【００７３】ハロゲン化に使用される溶剤としては、反
応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれ
ば特に限定はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、
リグロイン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類を挙げることができる。

【００７４】ハロゲン化に使用される試薬としては、チ
オニルクロリド、チオニルブロミドのようなチオニルハ
ライド類、三塩化りん、三臭化りん、五塩化りん、オキ
シ塩化りんのようなりん化合物類が挙げられる。

【００７５】反応温度は通常０乃至５０℃である。

【００７６】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常０．２乃至５時間であり、
好適には、０．２乃至１時間である。

【００７７】反応終了後、溶剤を留去するだけで、次の
反応に使用する。

【００７８】オキサゾリジン−２−オンを反応させる工
程に使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
特に好適には、ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エ−テル類を挙げることができる。

【００７９】使用される光学活性なオキサゾリジン−２
−オンとしては、（４Ｓ）−イソプロピルオキサゾリジ
ン−２−オン、（４Ｒ）−イソプロピルオキサゾリジン
−２−オン、（４Ｓ）−ベンジルオキサゾリジン−２−
オン、（４Ｒ）−ベンジルオキサゾリジン−２−オンが
あげられる。

【００８０】反応温度は通常−７８乃至２０℃である。

【００８１】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常０．２乃至５時間であり、
好適には、０．２乃至２時間である。反応終了後、たと
えば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸など
の無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベ
ンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液よ
り溶剤を留去することによって得られるものを、通常、
そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマト
あるいは再結晶法により、単離精製することもできる。

【００８２】（第８工程）本工程は、不活性溶剤中、塩
基の存在下、化合物（９）にトリ置換シリルハライドＢ
³ Ｘ（Ｘは前述のものと同意義を示す）を反応させて、
化合物（１１）を製造する工程である。

【００８３】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類を挙げることができる。

【００８４】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、N-メチルモルホリン、ピリジン、
4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニ
リン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.
3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オク
タン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-
7-エン(DBU) のような有機塩基類又はブチルリチウム、
リチウムジイソプロピルアミドのような有機金属塩基類
を挙げることができる。

【００８５】使用されるトリアルキルシリルハライドと
しては、トリメチルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチ
ルシリルクロリドなどがあげられ、好適にはトリメチル
シリルクロリドである。

【００８６】反応温度は通常−７８乃至２０℃である。

【００８７】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１０時間である。

【００８８】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【００８９】（第９工程）本工程は、不活性溶剤中、塩
基の存在下、化合物（１０）にα−ハロ酢酸エステルＸ
ＣＨ₂-ＣＯＯＢ⁴ （Ｘは前述のものと同意義を示す）を
反応させて化合物（１２）を製造する工程である。

【００９０】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピ
ルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメト
キシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルの
ようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパ
ノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ
−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ−ル、ジエチレ
ングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘキ
サノール、メチルセロソルブ、のようなアルコ−ル類；
ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミ
ド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスル
ホキシド類を挙げることができ、好適には、エーテル類
である。

【００９１】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、
カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシドのような
アルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカプタンナト
リウム、エチルメルカプタンナトリウムのようなメルカ
プタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、トリブチル
アミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモルホ
リン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジン、
N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン、1,5-ジ
アザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシク
ロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビシクロ[5.
4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩基類又は
ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドのよう
な有機金属塩基類を挙げることができ、好適には、リチ
ウムジイソプロピルアミド（溶剤としてテトラヒドロフ
ラン）である。

【００９２】使用されるα−ハロ酢酸エステルのハロ部
分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげらる。

【００９３】使用されるα−ハロカルボン酸エステルの
エステルとしては、メチル、エチル、ベンジル、tert−
ブチルがあげられる。

【００９４】反応温度は通常−７８乃至１０℃である。

【００９５】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１０時間である。

【００９６】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【００９７】（第１０工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、化合物（１２）を加水分解して、光学活
性なオキサゾリジン−２−オンを除去し、化合物（１
３）を製造する工程である。

【００９８】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジ
エチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イ
ソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソ
ルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベ
ンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソ
ブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルス
ルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げ
ることができる。

【００９９】使用される塩基としては、通常の反応にお
いて塩基として使用されるものであれば、特に限定はな
いが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸
リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのような
アルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素化ナ
トリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化
物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物類
等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシ
ドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメルカ
プタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウムのよ
うなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミン、
トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メ
チルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ)
ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,4-ジ
アザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジアザビ
シクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有機塩
基類を挙げることができる。

【０１００】最も好適な方法としては、テトラヒドロフ
ラン及び水の混合溶剤中、過酸化水素存在下、水酸化リ
チウムを用いる方法があげられる。

【０１０１】反応温度は通常０乃至１００℃である。

【０１０２】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至２４時間である。

【０１０３】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１０４】（第１１工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（１１）にα−ハロカルボン酸エステルＸＣＨ₂-
ＣＯＯＢ⁴ （Ｘは前述のものと同意義を示す）を反応さ
せて、化合物（１４）を製造する工程である。

【０１０５】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニト
リル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのよ
うなスルホキシド類を挙げることができる。

【０１０６】使用されるα−ハロカルボン酸エステルの
ハロ部分としては、塩素、臭素、ヨウ素があげられ、好
適には塩素、臭素である。 使用されるα−ハロカルボ
ン酸エステルのエステルとしては、メチル、エチル、te
rt−ブチル、ベンジルがあげられる。

【０１０７】反応温度は通常−７８乃至３０℃である。
反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより
異なるが、通常０．５乃至１０時間である。 反応終了
後、たとえば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、
硫酸などの無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、た
とえばベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、
抽出液より溶剤を留去することによって得られるもの
を、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。

【０１０８】（第１２工程）本工程は、不活性溶剤中、
塩基の存在下、化合物（１４）を加水分解して、化合物
（１３）を製造する工程である。

【０１０９】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；ジ
エチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレン
グリコールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタ
ノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−
ル、n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イ
ソアミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソ
ルブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類を挙げる
ことができる。

【０１１０】使用される塩基としては、としては、通常
の反応において塩基として使用されるものであれば、特
に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウ
ムのようなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウ
ム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカ
リ金属水素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ
金属水酸化物類等の無機塩基類；ナトリウムメトキシ
ド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、
リチウムメトキシドのようなアルカリ金属アルコキシド
類を挙げることができる。

【０１１１】反応温度は通常０乃至１００℃である。

【０１１２】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至２４時間である。

【０１１３】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、塩酸、硫酸などの無機酸で酸性とし、水
と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テル、酢酸
エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することに
よって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用い
る。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【０１１４】所望により、化合物（１３）のＢ⁴ は別の
保護基に交換する場合もある。交換反応は常法に従っ
て、通常のエステル交換反応を行うか、また、遊離のカ
ルボン酸を保護して、Ｂ⁴ を後述する第２０工程の方法
に従って除去し、所望の保護基を導入した後、カルボン
酸を再生することにより行うことができる。

【０１１５】（第１３工程）本工程は、不活性溶剤中、
縮合剤の存在下、市販のα−アミノ酸のアミノ基を常法
により保護して得られる化合物（１５）にアルコールＲ
⁸ ＯＨを反応させて、化合物（１８）を製造する工程で
あり、第２工程と同様にして行なうことができる。

【０１１６】（第１４工程）本工程は、不活性溶剤中、
縮合剤の存在下、化合物（１５）とアミンＲ⁹ Ｒ¹⁰ＮＨ
を反応させ、化合物（１６）を製造する工程である。

【０１１７】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類を挙げることができる。使用され
る縮合剤としては、例えば、アゾジカルボン酸ジエチル
−トリフェニルホスフィンのようなアゾジカルボン酸ジ
低級アルキル−トリフェニルホスフィン類、N-エチル-5
- フェニルイソオキサゾリウム-3'-スルホナ−トのよう
なN-低級アルキル-5- アリールイソオキサゾリウム-3'-
スルホナ−ト類、N',N'-ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド(DCC) のようなN',N'-ジシクロアルキルカルボジイミ
ド類、ジ-2- ピリジルジセレニドのようなジヘテロアリ
ールジセレニド類、ジエチルホスホリルシアニド(DFPC)
のようなホスフィン類、p-ニトロベンゼンスルホニルト
リアゾリドのようなアリールスルホニルトリアゾリド
類、2-クロル-1- メチルピリジニウム ヨーダイドのよ
うな2-ハロ-1- 低級アルキルピリジニウムハライド及び
ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)のようなジアリール
ホスホリルアジド類、N,N'- カルボジイミダゾール(CD
I) のようなイミダゾール誘導体、1-ヒドロキシベンゾ
トリアゾール(HOBT)のようなベンゾトリアゾール誘導
体、N-ヒドロキシ-5- ノルボルネン-2,3- ジカルボキシ
イミド(HONB)のようなジカルボキシイミド誘導体、1-エ
チル-3-(3-ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド(E
DAPC) のようなカルボジイミド誘導体を挙げることがで
きるが、好適には、ジアリールホスホリルアジド類であ
る。

【０１１８】反応温度は使用される原料、試薬、溶剤な
どにより通常０乃至１５０℃であり、好適には２０乃至
１００℃である。

【０１１９】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、２乃至２４時間である。

【０１２０】反応終了後、目的物は、例えば、反応混合
物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。

【０１２１】（第１５工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（１６）にアミノ基の保護基の脱保護剤を反応さ
せて、化合物（１７）を製造する工程である。

【０１２２】保護基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下の様に実施される。

【０１２３】アミノ基の保護基として、シリル基を使用
した場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウムの
ような弗素アニオンを生成する化合物で処理することに
より除去される。反応温度及び反応時間は、特に限定は
ないが、通常、室温で１０乃至１８時間反応させる。

【０１２４】アミノ基の保護基が、アルコキシカルボニ
ル基又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基で
ある場合には、水性溶媒の存在下に、酸で処理すること
により除去することができる。使用される酸としては、
通常酸として使用されるもので、反応を阻害しないもの
であれば特に限定はないが、好適には、塩酸、硫酸、リ
ン酸、臭化水素酸のような無機酸が用いられる。

【０１２５】使用される溶媒としては、通常の加水分解
反応に使用されるものであれば特に限定はなく、水；メ
タノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ルのようなアルコ
−ル類、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−
テル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶媒との混合溶媒
が好適である。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶
媒及び使用される酸若しくは塩基等により異なり、特に
限定はないが、副反応を抑制するために、通常は０乃至
１５０℃で、1 乃至１０時間実施される。

【０１２６】アミノ基の保護基が、アラルキル基又はア
ラルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、溶
媒中で、還元剤と接触させることにより（好適には、触
媒下に常温にて接触還元）除去する方法又は酸化剤を用
いて除去する方法が好適である。接触還元による除去に
おいて使用される溶媒としては、本反応に関与しないも
のであれば特に限定はないが、メタノ−ル、エタノ−
ル、イソプロパノ−ルのようなアルコ−ル類、ジエチル
エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
−テル類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香
族炭化水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪
族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエス
テル類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と
水との混合溶媒が好適である。使用される触媒として
は、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特
に限定はないが、好適には、パラジウム炭素、ラネ−ニ
ッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウ
ム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウ
ム−硫酸バリウムが用いられる。圧力は、特に限定はな
いが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。反応温度及び
反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異
なるが、通常、０乃至１００℃で、５分乃至２４時間実
施される。

【０１２７】酸化による除去において使用される溶媒と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、含水有機溶媒である。このような有機
溶媒として好適には、アセトンのようなケトン類、メチ
レンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニトリル
類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのよ
うなアミド類及びジメチルスルホキシドのようなスルホ
キシド類を挙げることができる。使用される酸化剤とし
ては、酸化に使用される化合物であれば特に限定はない
が、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、ア
ンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ
-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) が用いられる。
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種
類等により異なるが、通常、０乃至１５０℃で、１０分
乃至２４時間実施される。

【０１２８】アミノ基の保護基がアルケニルオキシカル
ボニル基である場合は、通常、アミノ基の保護基が前記
の脂肪族アシル基、芳香族アシル基、アルコキシカルボ
ニル基又はシッフ塩基を形成する置換されたメチレン基
である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基と処理
することにより達成される。

【０１２９】尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特
に、パラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくは
ニッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が簡
便で、副反応が少なく実施することができる。

【０１３０】反応温度は使用される原料、試薬、溶剤な
どにより通常０乃至１５０℃であり、好適には２０乃至
１００℃である。

【０１３１】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であり、
好適には、２乃至２４時間である。

【０１３２】反応終了後、目的物は、例えば、反応混合
物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
−等によって更に精製できる。

【０１３３】（第１６工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（１８）にアミノ基の保護基の脱保護剤を反応さ
せて、化合物（１９）を製造する工程であり、第１５工
程と同様にして行なうことができる。

【０１３４】（第１７工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（１６）（但し、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰は一方がメチル、
他方がメトキシ基に限る）に試薬Ｒ⁷ Ｍ（Ｍはリチウム
等のアルカリ金属またはグリニャール試薬（ＭｇＢｒ，
ＭｇＣｌ）を示す）を反応させて、化合物（２０）を製
造する工程である。

【０１３５】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類などがあげられる。

【０１３６】反応温度は使用される原料、試薬、溶剤な
どにより通常−７０乃至５０℃であり、好適には−４０
乃至３０℃である。

【０１３７】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常５分乃至２４時間であり、
好適には３０分乃至３時間である。

【０１３８】反応終了後、目的物は、例えば、反応混合
物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
−等によって更に精製できる。

【０１３９】（第１８工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２０）にアミノ基の保護基の脱保護剤を反応さ
せて、化合物（２１）を製造する工程であり、第１５工
程と同様にして行なうことができる。

【０１４０】（第１９工程）本工程は、不活性溶剤中、
縮合剤の存在下、化合物（４）と化合物（１３）とを反
応させ、化合物（２２）を製造する工程であり、第１４
工程と同様にして行なうことができる。

【０１４１】（第２０工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２２）の保護基Ｂ⁴ を脱保護して、化合物（２
３）を製造する工程である。

【０１４２】保護基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下のように実施される。

【０１４３】カルボキシ基の保護基がｔ−ブチル基、ベ
ンツヒドリル基のように、酸で除去できるものであれ
ば、トリフルオロ酢酸又は酢酸中臭化水素、ジオキサン
−塩酸など酸性条件下で達成される。

【０１４４】カルボキシ基の保護基がトリクロロエチル
基やトリクロロブロモ基の場合には、酢酸あるいは燐酸
緩衝液（ｐＨ＝４．２−７．２）とテトラヒドロフラン
のようなエーテル類の溶剤を用い、亜鉛末を反応させ
て、除去することができる。

【０１４５】カルボキシ基の保護基が、ベンジル基のよ
うなアラルキル基の場合には、通常、溶媒中で、還元剤
と接触させることにより（好適には、触媒下に常温にて
接触還元）除去する方法で行われる。

【０１４６】（第２１工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２３）にヒドロキシアミンＢ⁶ ＯＮＨ₂ を反応
させて、化合物（２４）を製造する工程であり、第１９
工程に準じて行われる。

【０１４７】（第２２工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２４）の保護基Ａ及びＢ⁶ を脱保護して、化合
物（１Ａ）を製造する工程である。なお、本工程が適用
されるのは、Ｂ¹ がＲ³ と同一の場合にのみ、限定され
る。

【０１４８】この工程は保護基の種類により異なる。

【０１４９】たとえば、Ｂ⁶ がベンジル、Ａがベンジル
オキシカルボニルのような接触還元により除去できる保
護基の場合はアルコール、エーテル、酢酸などの適当な
溶媒中、パラジウム炭素、白金などの触媒を用いて水素
気流下接触還元することにより達成される。又、Ａ及び
Ｂ⁶ がｔ−ブトキシカルボニル基などの場合はトリフル
オロ酢酸又は酢酸中臭化水素、ジオキサン−塩酸など酸
性条件下で達成される。いずれにしろ、通常知られたア
ミノ基、水酸基の保護基を脱離条件により達成される。

【０１５０】使用される溶剤としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、ヘキサン、ヘプタン、リグロイン、石油エー
テルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼン、トルエン、
キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化
水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸
ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ
−テル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−
ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、
n-ブタノ−ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソア
ミルアルコ−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、
オクタノール、シクロヘキサノール、メチルセロソル
ブ、のようなアルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘ
キサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベン
ゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブ
チロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチ
ルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスル
ホキシド、スルホランのようなスルホキシド類などがあ
げられる。

【０１５１】反応温度は通常−２０乃至１００℃であ
り、好適には０乃至４０℃である。

【０１５２】反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、通常０．５乃至４８時間であ
り、好適には、１乃至５時間である。反応終了後、たと
えば溶剤を留去し、反応液を水に注ぎ、塩酸、硫酸など
の無機酸で酸性とし、水と混和しない溶剤、たとえばベ
ンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液よ
り溶剤を留去することによって得られるものを、通常、
そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマト
あるいは再結晶法により、単離精製することもできる。

【０１５３】（第２３工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２４）に保護基Ｂ¹ を脱保護して、化合物（２
５）を製造する工程であり、第２０工程と同様にして行
なうことができる。 （第２４工程）本工程は、不活性溶剤中、縮合剤の存在
下、化合物（２５）にアルコールＲ³ＯＨを反応させ
て、化合物（２６）を製造する工程であり、第３工程
と同様にして行なうことができる。

【０１５４】（第２５工程）本工程は、不活性溶剤中、
縮合剤の存在下、化合物（２５）にアミンＲ⁴ Ｒ⁵ＮＨ
を反応させ、化合物（２７）を製造する工程であり、第
１４工程と同様にして行なうことができる。

【０１５５】（第２６工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２６）の保護基Ａ及びＢ⁶ を脱保護して、化合
物（１Ｂ）を製造する工程であり、第２２工程と同様に
して行なうことができる。

【０１５６】（第２７工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２７）の保護基Ａ及びＢ⁶ を脱保護して、化合
物（１Ｃ）を製造する工程であり、第２２工程と同様に
して行なうことができる。 （第２８工程）本工程は、不活性溶剤中、化合物（２
５）に市販の又は第１８工程で得られた化合物（２１）
を反応させて、化合物（２８）を製造する工程であり、
第２５工程と同様にして行なうことができる。

【０１５７】（第２９工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２５）に市販の又は第１６工程で得られた化合
物（１９）を反応させて、化合物（２９）を製造する工
程であり、第２５工程と同様にして行なうことができ
る。

【０１５８】（第３０工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２５）に市販の又は第１５工程で得られた化合
物（１７）を反応させて、化合物（３０）を製造する工
程であり、第２５工程と同様にして行なうことができ
る。

【０１５９】（第３１工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２８）に脱保護剤を反応させて、化合物（１
Ｄ）を製造する工程であり、第２２工程と同様にして行
うことができる。

【０１６０】（第３２工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（２９）に脱保護剤を反応させて、化合物（１
Ｅ）を製造する工程であり、第２２工程と同様にして行
われる。

【０１６１】（第３３工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（３０）に脱保護剤を反応させて、化合物（１
Ｆ）を製造する工程であり、第２２工程と同様にして行
われる。

【０１６２】

【発明の効果】

（試験例１）IV型コラゲナーゼに対する阻害活性 IV型コラゲナーゼ活性は、Saloらの方法（J. Biol. Che
m., vol.258, 3058-3063 (1983) ）の方法により測定し
た。

【０１６３】すなわち、IV型コラゲナーゼはヒトメラノ
ーマ細胞の無血清培養液より調製したものを、また基質
としては、マウスEHS 腫瘍より調製したIV型コラーゲン
を放射性同位元素で標識したものを用いてコラーゲンの
切断を計測することにより測定した。

【０１６４】IV型コラゲナーゼの阻害活性は、この酵素
反応液に検体を同時に添加し、酵素反応の阻害率を算定
することにより、測定した。

【０１６５】結果（I₅₀ 値で表わす）を以下に示す。

【０１６６】

【表２】 ──────────────────────── 番号 ＩＣ₅₀（nmol/ml ） ──────────────────────── 実施例３ ０．３３ 実施例４ ０．３５ 実施例５ ０．３６ 実施例１４ ０．０８２ 実施例１６ ０．０４２ 実施例１７ ０．２７ 実施例１８ ０．０２７ 実施例１９ ０．０８０ 実施例２０ ０．０７３ 実施例２１ ０．２８ 実施例２７ ０．１６ 実施例２９ ０．２５ 実施例３０ ０．２４ 実施例３２ ０．７５ 実施例３３ ０．０６４ 実施例３４ ０．０３７ 実施例３５ ０．２０ 参考例１０８ １．４ 参考例１０９ ４．３ 参考例１１０ １８．５ ──────────────────────── 本発明の化合物は、優れたIV型コラゲナーゼの阻害活性
を有しており、血管新生抑制剤、癌浸潤抑制剤又は癌転
移抑制剤として有用である。

【０１６７】本発明の化合物を、血管新生抑制剤、癌浸
潤抑制剤又は癌転移抑制剤として用いる場合、種々の形
態で投与される。その投与形態としては例えば錠剤、カ
プセル剤、顆粒剤、散剤、シロップ剤等による経口投与
または注射剤（静脈内、筋肉内、皮下）、点眼剤、座剤
等による非経口投与を挙げることができる。これらの各
種製剤は、常法にしたがって主薬に賦形剤、結合剤、崩
壊剤、潤沢剤、矯味矯臭剤、溶解補助剤、懸濁剤、コー
ティング剤等既知の医薬製剤技術分野において通常使用
しうる既知の補助剤を用いて製剤化することができる。
その使用量は症状、年齢、体重、投与方法および剤形等
によって異なるが通常は成人に対して１日50 mg 乃至10
00 mg を投与することができる。

【０１６８】以下に具体的に製剤例を示す。

【０１６９】（製剤例１）（ハ−ドカプセル剤） 標準二分式ハ−ドゼラチンカプセルの各々に、100 mgの
粉末状の実施例３の化合物、150 mgのラクト−ス、50 m
g のセルロ−ス及び6 mgのステアリン酸マグネシウムを
充填することにより、単位カプセルを製造し、洗浄後、
乾燥した。

【０１７０】（製剤例２）（錠剤） 常法に従って、100 mgの実施例５の化合物、0.2 mgのコ
ロイド性二酸化珪素、5 mgのステアリン酸マグネシウ
ム、275 mgの微結晶性セルロ−ス、11 mg のデンプン及
び98.8 mg のラクト−スを用いて製造した。

【０１７１】尚、所望により、剤皮を塗布した。

【０１７２】（製剤例３）（注射剤） 1.5 重量% の実施例２１の化合物を、10容量% のプロピ
レングリコ−ル中で撹拌し、次いで、注射用水で一定容
量にした後、滅菌して製造した。

【０１７３】（製剤例４）（懸濁剤） 5 ml中に、100 mgの微粉化した実施例３４の化合物、10
0 mgのナトリウムカルボキシメチルセルロ−ス、5 mgの
安息香酸ナトリウム、1.0 g のソルビト−ル溶液 (日本
薬局方) 及び0.025 mlのバニリンを含有するように製造
した。

【０１７４】

【実施例】

（実施例１）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
（４Ｓ）−５−メチル−３−オキソヘキサン−４−イル
アミド 参考例１６で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボ
ニル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラ
ジン酸（４Ｓ）−５−メチル−３−オキソヘキサン−４
−イルアミド（７５mg）のメタノール（3.0ml ）溶液に
１０％パラジウム炭素（８mg）を加えた後水素雰囲気下
1.8 時間室温で撹拌し接触還元した。反応終了後触媒を
濾去し、濾液を減圧濃縮して得られた残留物を、シリカ
ゲル分取薄層クロマトグラフィー（２０×２０cm，0.5m
m 厚，クロロホルム：メタノール＝１０：１で展開，酢
酸エチル：メタノール＝１０：１で溶出）により精製し
目的化合物（２８mg）を得た。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.77(3H,
d,J=6.6 Hz),0.84(3H,t,J=7.3 Hz),0.93(3H,d,J=6.6 H
z),1.09(3H,t,J=7.3 Hz),1.13-2.68(15H,complex),2.57
(2H,q,J=7.3 Hz),2.70-3.18(2H,complex),3.98(1H,br.
d,J=5.9 Hz),4.64(1H,dd,J=8.6 and 4.6 Hz),4.85(1H,
d,J=12.5 Hz),5.37(1H,br.s),7.64(1H,d,J=8.6 Hz),9.9
1(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3300(m),294
0(m),1715(m),1660(s),1625(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=426.2851(C₂₁H₃₈N₄O₅) 計算値：426.2842 比旋光度［α］_D ²⁶ =-30.6°(C=1.00,EtOH) （実施例２）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
（４Ｓ）−６−メチル−３−オキソヘプタン−４−イル
アミド 実施例１の方法に従い参考例２３で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジ
ルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４Ｓ）−６−メチル−３
−オキソヘプタン−４−イルアミド）（２４mg）の保護
基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマ
トグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホル
ム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノー
ル＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１０
mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.78-0.98
(9H,complex),1.09(3H,t,J=6.9 Hz),1.12-2.11(15H,com
plex),2.18-2.50(2H,m),2.59(2H,m),2.70-3.12(2H,comp
lex),4.00(1H,m),4.65(1H,br.d,J=5.3 Hz),4.87(1H,br.
d,J=11.9 Hz),5.28(1H,br.s),7.68(1H,br.d,J=5.3 Hz),
9.90(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3300(m),294
5(m),1720(m),1660(s),1625(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=441.3069(C₂₂H₄₁N₄O₅) 計算値：441.3077 比旋光度［α］_D ²⁶ =-32.5° (C=1.00,CHCl₃) （実施例３）２−（Ｓ）−［Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミ
ノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）
−ピペラジニル］アミノイソバレリアン酸Ｎ−メチル−
Ｎ−メトキシアミド 実施例１の方法に従い参考例２４で得られた２−（Ｓ）
−［Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−
（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−
１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジニル］アミノ
イソバレリアン酸Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシアミド（３
９mg）の保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm
厚，クロロホルム：メタノール＝１７：１展開，酢酸エ
チル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目
的化合物（１８mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.69-1.06
(9H,complex),1.10-2.44(14H,complex),2.57(1H,t,J=1
2.5 Hz),2.82(1H,m),3.00(1H,br.d,J=12.5 Hz),3.26(3
H,s),3.85(3H,s),3.97(1H,br.d,J=6.6 Hz),4.95(1H,br.
t,J=7.5 Hz),5.08(1H,d,J=11.9 Hz),5.47(1H,s),8.16(1
H,br.d,J=8.6 Hz),10.6(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3300(m),294
5(m),1630(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=457.2868(C₂₁H₃₉N₅O₆) 計算値：457.2836 比旋光度［α］_D ²⁶ =-43.8° (C=1.01,EtOH) （実施例４）２−（Ｓ）−［Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミ
ノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）
−ピペラジニル］アミノイソバレリアン酸メチルエステ
ル 実施例１の方法に従い参考例２５で得られた２−（Ｓ）
−［Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−
（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−
１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジニル］アミノ
イソバレリアン酸メチルエステル（４９mg）の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×１０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝２０：１二重展開，酢酸エチル：メタノー
ル＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（２０
mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.67-1.02
(9H,complex),1.04-2.60(15H,complex),2.82(1H,m),3.0
1(1H,br.d,J=12.5 Hz),3.77(3H,s),3.97(1H,m),4.57(1
H,dd,J=7.9 and 5.3 Hz),4.92(1H,d,J=11.9 Hz),5.38(1
H,s),7.74(1H,br.d,J=7.3 Hz),9.82(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3300(m),294
0(m),1730(m),1660(s),1625(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=428.2631(C₂₀H₃₆N₄O₆) 計算値：428.2635 比旋光度［α］_D ²⁶ =-27.0° (C=1.02,EtOH) （実施例５）２−（Ｓ）−［Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミ
ノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）
−ピペラジニル］アミノイソバレリアン酸ｔ−ブチルエ
ステル 実施例１の方法に従い参考例２６で得られた２−（Ｓ）
−［Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−
（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−
１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジニル］アミノ
イソバレリアン酸ｔ−ブチルエステル（４２mg）の保護
基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマ
トグラフィー（２０cm×１０cm,0.5mm厚，クロロホル
ム：メタノール＝２０：１二重展開，酢酸エチル：メタ
ノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物
（１６mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.72-0.97
(9H,complex),1.11-2.38(14H,complex),1.48(9H,s),2.4
9(1H,dd,J=12.5 and 11.2 Hz),2.83(1H,m),3.01(1H,br.
d,J=11.9 Hz),3.96(1H,m),4.47(1H,m),4.89(1H,d,J=11.
2 Hz),5.38(1H,br.s),7.54(1H,br.d,J=7.9 Hz),9.86(1
H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3320(m),294
5(m),1720(w),1665(m),1630(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=470.3110(C₂₃H₄₂N₄O₆) 計算値：470.3104 比旋光度［α］_D ²⁶ =-36.6°(C=1.00,EtOH) （実施例６）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸
ｔ−ブチルエステル 実施例１の方法に従い参考例２９で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジ
ルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチ
ル］−（Ｒ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（３４
mg）の保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取
薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，
クロロホルム：メタノール＝２０：１二重展開，酢酸エ
チル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目
的化合物（１４mg）が無色結晶として得られた。ヘキサ
ン−酢酸エチルより再結晶し、融点１１０−１１１℃。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.87(3H,
t,J=6.6 Hz),1.12-2.04(11H,complex),1.48(9H,s),2.18
-2.49(3H,complex),2.71(1H,m),3.07(1H,br.d,J=13.2 H
z),4.00(1H,m),4.16(1H,d,J=12.5 Hz),5.19(1H,d,J=4.0
Hz),9.03(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3240(m),294
0(s),1725(s),1630(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=371.2397(C₁₈H₃₃N₃O₅) 計算値：371.2419 比旋光度［α］_D ²⁶ =+30.4°(C=0.50,EtOH) （実施例７）Ｎ² −（３−ヒドロキシアミノカルボニルプロピオニ
ル）−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 実施例１の方法に従い参考例３５で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−ベンジルオキシア
ミノカルボニルプロピオニル）−（Ｓ）−ピペラジン酸
ｔ−ブチルエステル（８４mg）の保護基を接触還元反応
により除去し同様に処理することにより目的化合物（３
６mg）が得られた。

【０１７５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):1.41(1H,m, δ1.48トoverlap),1.48(9H,s),1.61(1H,
m),1.86(1H,m),2.18(1H,br.d,J=13.2 Hz),2.33-2.58(2
H,complex),2.66-3.12(4H,complex),4.28(1H,br.d,J=1
2.5 Hz),5.14(1H,dd,J=4.6 and1.3 Hz),7.6-8.6(1H,br.
s),9.59(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3250(m),294
5(m),1725(s),1640(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=301.1631(C₁₃H₂₃N₃O₅) 計算値：301.1636 比旋光度［α］_D ²⁶ =-12.9°(C=1.01,EtOH) （実施例８）Ｎ² −（３−ヒドロキシアミノカルボニルプロピオニ
ル）−（Ｓ）−ピペラジン酸（４Ｓ，５Ｓ）−５−メチ
ル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド 実施例１の方法に従い参考例３７で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−ベンジルオキシア
ミノカルボニルプロピオニル）−（Ｓ）−ピペラジン酸
（４Ｓ，５Ｓ）−５−メチル−３−オキソヘプタン−４
−イルアミド（１１１mg）の保護基を接触還元反応によ
り除去し、逆相シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー
（２０cm×２０cm，0.25mm厚，２枚，水：メタノール＝
１：１，メタノール溶出）により精製すると目的化合物
（５３mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.87(3H,
t,J=7.3 Hz),0.92(3H,d,J=6.6 Hz),1.07(3H,t,J=7.3 H
z),1.28(1H,m),1.42-2.23(6H,complex),2.34-2.52(2H,c
omplex),2.55(2H,q,J=7.3 Hz),2.75(1H,m),2.85-3.13(3
H,complex),4.58(1H,dd,J=7.9 and 5.3 Hz),4.64(1H,d,
J=12.5 Hz),5.27(1H,d,J=4.6 Hz),7.31(1H,m),8.12-8.8
3(1H,br.s),9.83(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3280(s),296
5(s),1715(s),1635(s) 高分解能マススペクトル[M+H-O
H]⁺=354.2261(C₁₇H₃₀N₄O₄) 計算値：354.2266 比旋光度［α］_D ²⁶ =-12.2°(C=1.97,CHCl₃) （実施例９）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
メチルエステル 参考例１３で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボ
ニル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラ
ジン酸（３４mg）の酢酸エチル（2.0ml ）溶液に氷冷下
ジアゾメタンエーテル溶液を泡が出なくなる迄加える。
反応終了後減圧下溶媒を留去し、残留物をシリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm
厚，クロロホルム：メタノール＝３０：１展開）により
分取し得られた化合物（１１mg）を、実施例１の方法に
従い保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄
層クロマトグラフィー（２０cm×１０cm，0.5mm 厚，ク
ロロホルム：メタノール＝２５：１展開，酢酸エチル：
メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合
物（4.2mg ）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.83(3H,
t,J=6.6 Hz),1.10-2.01(11H,complex),2.22(1H,m),2.30
(1H,dd,J=14.2 and 3.6 Hz),2.54(1H,dd,J=14.2and 11.
2 Hz),2.73-3.14(2H,complex),3.77(3H,s),3.95(1H,m),
4.20(1H,d,J=11.9 Hz),5.34(1H,d,J=4.0 Hz),7.35-8.20
(1H,m),9.18(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1):3245(m),2950(s),17
35(s),1630(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=329.1965(C₁₅H₂₇N₃O₅) 計算値：329.1950 比旋光度［α］_D ²⁶ =-15°(C=0.35,EtOH) （実施例１０）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（オキシアミノカルボニル）メチ
ル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 実施例１の方法に従い参考例１２で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−ベンジル
オキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（１２
７mg）の保護基を接触還元反応により除去し、同様に処
理することにより目的化合物（６３mg）を得た。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.86(3H,
t,J=6.6 Hz),1.11-1.70(10H,complex),1.48(9H,s),1.89
(1H,m),2.03-2.38(2H,complex),2.52(1H,m),2.82-3.13
(2H,complex),3.98(1H,br.s),4.28(1H,br.d,J=10.6 H
z),5.20(1H,s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3225(m),294
0(s),1725(s),1640(brs) 高分解能マススペクトル [M+H]⁺=372.2517(C₁₈H₃₄N₃O₅) 計算値：372.2499 比旋光度[ α ]_D ²⁶ =-10.7°(C=1.00,EtOH) （実施例１１）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（オキシアミノカルボニル）メチ
ル−４−メチル−１−オキソペンチル］−（Ｓ）−ピペ
ラジン酸ｔ−ブチルエステル 実施例１の方法に従い参考例４６で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジ
ルオキシアミノカルボニル）メチル−４−メチル−１−
オキソペンチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエ
ステル（２０mg）の保護基を接触還元反応により除去
し、同様の反応処理により目的化合物（１１mg）を得
た。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.89(3H,
d,J=6.6 Hz),0.93(3H,d,J=6.6 Hz),1.10-1.70(4H,compl
ex),1.48(9H,s),1.88(1H,m),2.19(1H,br.d,J=11.6 Hz),
2.30(1H,br.d,J=11.6 Hz),2.50(1H,m),2.71-3.12(3H,co
mplex),4.03(1H,br.d,J=5.9 Hz),4.25(1H,d,J=11.9 H
z),5.20(1H,br.s),9.39(1H,s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1):3240(s),2960(s),17
25(s),1630(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=357.2270(C₁₇H₃₁N₃O₅) 計算値：357.2264 比旋光度［α］_D ²⁶ =-12.3°(C=0.51,EtOH) （実施例１２）Ｎ¹ −［２−（Ｒ）−（オキシアミノカルボニル）メチ
ル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブ
チルエステル 実施例１の方法に従い参考例５８で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−ベンジル
オキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシル−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（３２mg）の
保護基を接触還元反応により除去し、同様の処理により
目的化合物（１５mg）を得た。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.87(3H,
t,J=6.6 Hz),1.12-1.70(16H,complex),1.49(9H,s),1.88
(1H,m),2.18(1H,br.d,J=11.7 Hz),2.30(1H,br.d,J=11.7
Hz),2.53(1H,m),2.75-3.36(2H,complex),3.93(1H,m),
4.27(1H,d,J=11.9Hz),5.20(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3230(m),294
0(s),1725(s),1635(s) 高分解能マススペクトル [M]⁺=413.2903(C₂₁H₃₉N₃O₅) 計算値：413.2890 比旋光度[ α ]_D ²⁶ =-11.9°(C=1.00,EtOH) （実施例１３）N²−［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）メ
チル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−
メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例６０で得られたN¹−ベン
ジルオキシカルボニル−N²−［２−（Ｒ）−（ベンジル
オキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシル］
−（Ｓ）−ピペラジン酸 Ｎ−メチルアミド（１４mg）
の保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層
クロマトグラフィー（２０cm×１０cm，０．５mm厚，ク
ロロホルム：メタノール＝１０：１二重展開，酢酸エチ
ル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目的
化合物（９mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル（２７０MHz ，CDCl₃ ）δ：0.88
(3H,t,J=6.6 Hz),1.05-2.15(18H,complex),2.30(1H,m),
2.53(1H,m),2.80(3H,d,J=4.6 Hz),2.83(1H,m),3.03(1H,
br.d,J=11.9 Hz),3.84(1H,m),4.64(1H,d,J=9.9 Hz),5.0
5(1H,br.s),6.55(br.s),9.2-9.8(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル film (cm^-1) ：3260(s)、2930
(s)、1650(s)、1625(s) 高分解能質量スペクトル [M]⁺ ＝352.2466（C₁₈H₃₂O
₃N₄) 計算値 352.2466 比旋光度 ［α]_D ²⁶＝−3.4 °（C=0.82，EtOH） （実施例１４）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソオクチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例７０で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソオク
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４５mg）をメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１０mg）
が得られた。

【０１７６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.5 Hz),0.99-1.95(13H,complex),2.0
5(1H,br.d,J=10.6 Hz),2.29(1H,dd,J=13.9 and 3.3 H
z),2.52(1H,br.t,J=13.9 Hz),2.79(3H,d,J=4.6 Hz),2.8
1(1H,2.79ppm ト overlap),3.02(1H,d,J=13.2 Hz),3.88
(1H,m),4.67(1H,d,J=11.9 Hz),5.06(1H,s),6.75(1H,d,J
=4.6 Hz),9.52-9.91(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3271(m),2929(s),
1648(s),1626(s) マススペクトル[M-H₂O]⁺=324 高分解能マススペクトル[M]⁺=342.2256(C₁₆H₃₀N₄O₄) 計算値： 342.2267 比旋光度［α］_D ²⁶=-9.3°(C=0.90,EtOH) （実施例１５）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソオクチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い参考例７０で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジ
ルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソオクチ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４１mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の保
護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホ
ルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノ
ール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（２
１mg）が得られた。

【０１７７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-2.07(14H,complex),2.2
9(1H,dd,J=13.9 and 4.0 Hz),2.53(1H,dd,J=13.9 and 1
2.2Hz),2.70-3.19(2H,3.06ppm 及び2.94ppm と overla
p),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.92(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.51(1H,br.s),8.01-8.5.(1H,br.s),9.41-9.70
(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3249(m),2929(s),
1645(s),1625(s) マススペクトル[M]⁺=356 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=357.2511(C₁₇H₃₃N₄O₄) 計算値：357.2502 比旋光度［α］_D ²⁶=+5.9°(C=1.0,EtOH) （実施例１６）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソノニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ
−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例８０で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソノニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４６mg）をメチルアミン
と縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を接
触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メ
タノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（２０mg）が
得られた。

【０１７８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.00-1.95(15H,complex),2.0
5(1H,br.d,J=3.3 Hz),2.28(1H,br.d,J=3.3 Hz),2.51(1
H,dd,J=13.9 and 11.2 Hz),2.78(3H,d,J=4.6 Hz),2.82
(1H,m),3.02(1H,br.d,J=12.5 Hz),3.87(1H,m),4.73(1H,
d,J=11.9 Hz),5.06(1H,br.s),6.93(1H,m),9.91-10.12(1
H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3268(m),2928(s),
1652(s),1626(s) マススペクトル[M+H]⁺=357 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=357.2493(C₁₇H₃₃N₄O₄) 計算値：357.2502 比旋光度［α］_D ²⁶=-9.5°(C=1.0,EtOH) （実施例１７）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソノニル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例８０で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソノニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４９mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の保
護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホ
ルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノ
ール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１
０mg）が得られた。

【０１７９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.83(3H,t,J=6.6 Hz),1.05-1.78(14H,complex),1.8
0-2.04(2H,complex),2.26(1H,br.d,J=12.5 Hz),2.50(1
H,br.t,J=12.5 Hz),2.72-3.12(2H,complex),2.93(3H,
s),3.05(3H,s),3.90(1H,m),5.24(1H,d,J=11.9 Hz),5.53
(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3260(m),2940(s),
1625(s) マススペクトル[M+H]⁺=371 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=371.2677(C₁₈H₃₅N₄O₄) 計算値：371.2658 比旋光度［α］_D ²⁶=+7.2°（Ｃ＝０．８１，ＥｔＯＨ） （実施例１８）Ｎ^２ −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソドデシル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例９０で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソドデ
シル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５２mg）をメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（７mg）が
得られた。

【０１８０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.04-2.12(22H,complex),2.1
9-2.63(2H,complex),2.79(3H,d,J=3.3 Hz),2.80(1H,m),
3.03(1H,br.d,J=13.2 Hz),3.85(1H,m),4.64(1H,br.d,J=
11.9 Hz),5.05(1H,br.s),6.68(1H,m),9.48-9.76(1H,br.
s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3267(m),2855(s),
1652(s),1625(s) マススペクトル[M]⁺=398 高分解能マススペクトル[M-H₂O]⁺=380.2809(C₂₀H₃₆N
₄O₃) 計算値：380.2787 比旋光度［α］_D ²⁶=-8.9°(C=0.61,EtOH) （実施例１９）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソドデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例９０で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソドデ
シル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５０mg）をジメチルア
ミンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の
保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロ
ホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタ
ノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物
（２７mg）が得られた。

【０１８１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.06-1.78(20H,complex),1.8
0-2.02(2H,complex),2.29(1H,dd,J=14.5 and 4.0 Hz),
2.52(1H,dd,J=14.5 and 10.9 Hz),2.70-3.12(2H,comple
x),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.92(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.50(1H,br.s),7.92-8.77(1H,br.m),9.59(1H,
m) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3262(m),2926(s),
1649(s),1627(s) マススペクトル[M]⁺=412 高分解能マススペクトル[M]⁺=412.3036(C₂₁H₄₀N₄O₄) 計算値：412.3049 比旋光度［α］_D ²⁶=+6.8°(C=1.0,EtOH) （実施例２０）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソ−４−フェニルブチル］−（Ｓ）−
ピペラジン酸Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１００で得られたＮ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベ
ンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソ−
４−フェニルブチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４５m
g）をメチルアミンと縮合させて得られたＮ−メチルア
ミド体の保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm
厚，クロロホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エ
チル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目
的化合物（１７mg）が得られた。

【０１８２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：1.37-2.09(6H,complex),2.32(1H,dd,J=14.2 and 4.
3 Hz),2.43-2.90(4H,complex),2.76(3H,d,J=4.6 Hz),2.
97(1H,d,J=13.9 Hz),3.92(1H,m),4.74(1H,d,J=12.0 H
z),5.07(1H,d,J=2.1 Hz),6.82(1H,br.d,J=4.0 Hz),7.05
-7.31(5H,complex),9.69-10.10(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3440(m),3270(m),
2939(m),1640(s),1629(s)マススペクトル [M+H]⁺=363 高分解能マススペクトル[M]⁺=362.1947(C₁₈H₂₆N₄O₄) 計算値：362.1954 比旋光度［α］_D ²⁶=+1.0°(C=1.0,EtOH) （実施例２１）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソ−４−フェニルブチル］−（Ｓ）−
ピペラジン酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１００で得られたＮ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベ
ンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソ−
４−フェニルブチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４８m
g）をジメチルアミンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジ
メチルアミド体の保護基を接触還元により除去し、シリ
カゲル分取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，
0.5mm 厚，クロロホルム：メタノール＝１３：１展開，
酢酸エチル：メタノール＝１０：１溶出）により精製す
ると目的化合物（９mg）が得られた。

【０１８３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：1.37-2.04(6H,complex),2.32(1H,m),2.48-2.69(3H,
complex),2.71-3.12(2H,complex),2.92(3H,s),3.03(3H,
s),3.97(1H,m),5.26(1H,br.d,J=12.5 Hz),5.52(1H,br.
d,J=2.6 Hz),7.08-7.30(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3250(m),2925(m),
1625(s) マススペクトル[M+Me]⁺=361 高分解能マススペクトル[M]⁺=376.2126(C₁₉H₂₈N₄O₄) 計算値：376.2110 比旋光度［α］_D ²⁶=+19.8 °(C=0.71,EtOH) （実施例２２）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１３で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（５０mg）をジメチルア
ミンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の
保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロ
ホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタ
ノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物
（２５mg）が得られた。

【０１８４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.85(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-2.09(12H,complex),2.3
8(1H,dd,J=14.2 and 4.0 Hz),2.53(1H,dd,J=14.2 and 1
0.8Hz),2.70-3.13(2H,complex),2.93(3H,s),3.05(3H,
s),3.92(1H,m),5.26(1H,d,J=11.9 Hz),5.51(1H,br.s),
9.28-9.92(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3265(m),2990(s),
1635(s),1625(s) マススペクトル[M]⁺=342 高分解能マススペクトル[M]⁺=342.2284(C₁₆H₃₀N₄O₄) 計算値：342.2267 （実施例２３）Ｎ² −［４−ヒドロキシアミノ−１，４−ジオキソブチ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例３６で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−ベンジルオキシ
アミノカルボニルプロピオニル）−（Ｓ）−ピペラジン
酸（７０mg）をジメチルアミンと縮合させて得られた
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド体の保護基を接触還元により除
去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（２０cm
×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メタノール＝１
３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１０：１溶出）
により精製すると目的化合物（２５mg）が得られた。

【０１８５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：1.47-1.79(2H,complex),1.82-2.03(2H,complex),2.
29-2.56(2H,complex),2.62-3.18(4H,complex),2.94(3H,
s),3.07(3H,s),5.18(1H,d,J=11.9 Hz),5.45(1H,t,J=4.0
Hz),9.50-9.89(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1)：3260(m),29
42(m),1630(s)マススペクトル [M]⁺=272 高分解能マススペクトル[M]⁺=272.1471(C₁₁H₂₀O₄N₄) 計算値：272.1484 比旋光度［α］_D ²⁶=+4.0°(C=1.0,EtOH) （実施例２４）Ｎ² −［４−ヒドロキシアミノ−１，４−ジオキソブチ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例３６で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−ベンジルオキシ
アミノカルボニルプロピオニル）−（Ｓ）−ピペラジン
酸（８２mg）をメチルアミンと縮合させて得られたＮ−
メチルアミド体の保護基を接触還元により除去し、シリ
カゲル分取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，
0.5mm 厚，クロロホルム：メタノール＝１３：１展開，
酢酸エチル：メタノール＝１０：１溶出）により精製す
ると目的化合物（２４mg）が得られた。

【０１８６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：1.41-1.65(2H,complex),1.80(1H,m),2.21(1H,br.d,
J=13.1 Hz),2.37(2H,t,J=7.3 Hz),2.65-2.88(2H,comple
x),2.76(3H,s),2.90-3.01(2H,complex),5.03(1H,dd,J=
4.0 and 3.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1)：3265(m),29
41(m),1641(s) マススペクトル[M]⁺=258 高分解能マススペクトル[M]⁺=258.1332(C₁₀H₁₈N₄O₄) 計算値：258.1328 比旋光度［α］_D ²⁶=-33.5 °(C=1.0,EtOH) （実施例２５）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
ピロリジルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１３で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４２mg）をピロリジン
と縮合させて得られたピロリジルアミド体の保護基を接
触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メ
タノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（１５mg）が
得られた。

【０１８７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.01-2.08(16H,m),2.30(1H,d
d,J=13.9 and 4.0 Hz),2.53(1H,dd,J=13.9 and 10.9 H
z),2.83(1H,m),3.03(1H,br.d,J=13.2 Hz),3.29-3.71(4
H,m),3.91(1H,m),5.30(1H,m),5.32(1H,br.s),7.88-8.44
(1H,br.s),9.28-9.70(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1)：3250(m),29
40(s),1655(m),1620(s),1625(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=368.2404(C₁₈H₃₂N₄O₄) 計算値：368.2424 （実施例２６）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１３で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４２mg）をジエチルア
ミンと縮合させて得られたジエチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１９mg）
が得られた。

【０１８８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：０．８５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６ Ｈｚ），１．１
１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９ Ｈｚ），１．１３−２．０
８（１５Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），２．２９（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１４．５ ａｎｄ ４．０ Ｈｚ），２．５２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．５ ａｎｄ １１．０ Ｈ
ｚ），２．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．９ ａｎｄ
１１．９ Ｈｚ），３．０４（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｊ＝１
３．９ Ｈｚ），３．０８−３．４７（３Ｈ，ｃｏｍｐ
ｌｅｘ），３．５３（１Ｈ，ｍ），３．９０（１Ｈ，
ｍ），５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２ Ｈｚ），
５．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３ Ｈｚ），７．９７−
８．６２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ），９．２５−９．６９（１
Ｈ，ｂｒ．ｓ） 赤外線吸収スペクトル（ｆｉｌｍ，ｃｍ^−１） ：3255
(m),2940(m),1620(s) マススペクトル[M]⁺=370 高分解能マススペクトル[M]⁺=370.2584(C₁₈H₃₄N₄O₄) 計算値：370.2580 （実施例２７）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−エチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１３で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４５mg）をエチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ−エチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１９mg）
が得られた。

【０１８９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.12(3H,t,J=7.3Hz),1.15-1.
95(11H,complex),2.05(1H,m),2.28(1H,dd,J=13.9 and
3.3 Hz),2.51(1H,dd,J=13.9 and 11.2Hz),2.85(1H,m),
3.02(1H,br.d,J=12.5 Hz),3.26(2H,m),3.91(1H,m),4.72
(1H,d,J=12.5 Hz),5.05(1H,s),6.74(1H,br.s),9.73-10.
12(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3255(m),2910(m),
1645(s),1605(s) マススペクトル[M-NHEt]⁺=298 高分解能マススペクトル[M-NHEt]⁺=298.1771(C₁₄H₂₄N₃O
₄) 計算値：298.1767 （実施例２８）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
ピペラジルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１３で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４３mg）をＮ−ベンジ
ルピペラジンと縮合して得られたＮ−ベンジルピペラジ
ンアミド体の保護基を接触還元により除去し、シリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5m
m 厚，クロロホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸
エチル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると
目的化合物（６mg）が得られた。

【０１９０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-1.77(10H,complex),1.7
9-2.02(2H,complex),2.20-2.63(7H,complex),2.80(1H,
m),3.02(1H,br.d,J=13.2 Hz),3.32-3.78(4H,complex),
3.88(1H,m),5.17(1H,d,J=11.5Hz),5.50(1H,dd,J=5.6 an
d 2.3 Hz),9.00-9.44(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3250(m),2920(s),
1630(s),1620(s) マススペクトル[M-H₂₀]⁺=365 （実施例２９）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
アミド 実施例１の方法に従い、参考例１３で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４６mg）をアンモニア
と縮合させて得られたアミド体の保護基を接触還元によ
り除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラフィー（２
０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メタノール＝
１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１０：１溶
出）により精製すると目的化合物（１０mg）が得られ
た。

【０１９１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CD₃OD,δpp
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.17-1.78(10H,complex),1.9
7(1H,m),2.11(1H,m),2.15(1H,dd,J=13.9 and 5.9 Hz),
2.38(1H,dd,J=13.9 and 9.2 Hz),2.78.-3.08(2H,comple
x),3.94(1H,m),5.13(1H,br.d,J=5.1 Hz) 赤外線吸収スペクトル(KBr,pellet)：3267(m),2930(s),
1683(s),1628(s) マススペクトル[M-NH₂]⁺=298 高分解能マススペクトル[M-NH₂]⁺=298.1758(C₁₄H₂₄N
₃O₄) 計算値：298.1766 比旋光度［α］_D ²⁶=+6.4°(C=0.41,EtOH) （実施例３０）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−イソブチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１３で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４２mg）をイソブチル
アミンと縮合させて得られたＮ−イソブチルアミド体の
保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロ
ホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタ
ノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物
（１８mg）が得られた。

【０１９２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.86(3H,t,J=6.6 Hz),0.89(6H,d,J=6.6 Hz),1.04-
2.09(13H,complex),2.23(1H,m),2.47(1H,m),2.69.-3.08
(3H,complex),3.16(1H,m),3.88(1H,m),4.75(1H,br.d,J=
10.6 Hz),5.09(1H,br.s),7.01(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(KBr,pellet)：3276(m),2958(s),
2931(s),1645(s),1629(s) マススペクトル[M-H₂O]⁺=352 高分解能マススペクトル[M]⁺=370.2583(C₁₈H₃₄O₄N₄) 計算値：370.2580 （実施例３１）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソオクチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
ｔ−ブチルエステル 実施例１の方法に従い、参考例６９で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソオク
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（３
２mg）の保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm
厚，クロロホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エ
チル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目
的化合物（１７mg）が得られた。

【０１９３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.16-1.70(12H,complex),1.4
8(9H,s),1.86(1H,m),2.19(1H,br.d,J=14.4 Hz),2.32(1
H,dd,J=13.9 and 3.7 Hz),2.56(1H,br.dd,J=13.9 and 1
1.0 Hz),2.84(1H,br.t,J=15.0Hz),3.01(1H,br.d,J=14.4
Hz),3.90(1H,m),4.15-4.47(1H,br.s),5.20(1H,d,J=3.9
Hz) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3233(m),2931(s),
1728(s),1633(s) マススペクトル[M]⁺=385 高分解能マススペクトル[M]⁺=385.2576(C₁₉H₃₅N₃O₅) 計算値：385.2577 比旋光度［α］_D ²⁶=−11.4°(C=1.0,EtOH) ｍ．ｐ．61〜63℃ （実施例３２）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソ−４−メチルペンチル］−（Ｓ）−
ピペラジン酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１０１で得られたＮ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベ
ンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソ−
４−メチルペンチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４９m
g）をジメチルアミンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジ
メチルアミド体の保護基を接触還元により除去し、シリ
カゲル分取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，
0.5mm 厚，クロロホルム：メタノール＝１３：１展開，
酢酸エチル：メタノール＝１０：１溶出）により精製す
ると目的化合物（２０mg）が得られた。

【０１９４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.88(3H,d,J=6.6 Hz),0.92(3H,d,J=6.6 Hz),1.20(1
H,m),1.38-1.78(4H,complex),1.80-2.04(2H,complex),
2.28(1H,dd,J=13.9 and 4.0 Hz),2.49(1H,dd,J=13.9 an
d 11.2 Hz),2.70-3.17(2H,complex, 3.06ppm 及び2.94p
pm と overlap),2.94(3H,s),3.06(3H,s),4.04(1H,m),5.
26(1H,d,J=11.2 Hz),5.52(1H,br.s),8.15-8.61(1H,br.
s),9.42-9.74(1H,br.s)赤外線吸収スペクトル(film,cm
^-1) ：3363(m),2954(s),1625(s) マススペクトル[M+H]⁺=329 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=329.2195(C₁₅H₂₉N₄O₄) 計算値：329.2189 比旋光度［α］_D ²⁶=+3.1°(C=1.0,EtOH) （実施例３３）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例５９で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４９mg）をジメチルアミ
ンと縮合させて得られたジメチルアミド体の保護基を接
触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メ
タノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（２５mg）が
得られた。

【０１９５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.02-1.78(16H,complex),1.8
1-2.04(2H,complex),2.29(1H,dd,J=14.5 and 4.0 Hz),
2.52(1H,dd,J=14.5 and 10.9 Hz),2.70-3.11(2H,comple
x),2.94(3H,s),3.06(3H,s),3.93(1H,m),5.26(1H,d,J=1
1.2 Hz),5.51(1H,br.s),8.09-8.62(1H,br.s),9.50-9.72
(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3250(w),2910(s),
1635(s),1625(s) マススペクトル[M]⁺=384 高分解能マススペクトル[M]⁺=384.2738(C₁₉H₃₆N₄O₄) 計算値：384.2737 （実施例３４）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ
−エチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例５９で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４６mg）をエチルアミン
と縮合させて得られたＮ−エチルアミド体の保護基を接
触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグラ
フィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：メ
タノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝１
０：１溶出）により精製すると目的化合物（２０mg）が
得られた。

【０１９６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.12(3H,t,J=7.3 Hz),1.13-
1.64(15H,complex),1.66-1.93(2H,complex),2.04(1H,
m),2.28(1H,br.dd,J=13.4 and 2.6 Hz),2.51(1H,br.t,J
=12.5 Hz),2.85(1H,m),3.02(1H,br.d,J=12.5 Hz),3.14-
3.40(2H,complex),3.96(1H,m),4.71(1H,d,J=11.9 Hz),
5.04(1H,br.s),6.73(1H,br.s),9.68-10.11(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3273(m),2928(s),
1650(s),1626(s) マススペクトル[M+H₂O]⁺=366 高分解能マススペクトル[M+H₂O]⁺=366.2625(C₁₉H₃₄N
₄O₃) 計算値：366.2631 比旋光度［α］_D ²⁶=-5.4°(C=1.0,EtOH) （実施例３５）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例５９で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４７mg）をジエチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジエチルアミド体の保
護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロ
マトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホ
ルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノ
ール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（８
mg）が得られた。

【０１９７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.12(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-
2.05(21H,complex),2.31(1H,dd,J=13.9 and 3.6 Hz),2.
54(1H,dd,J=13.9 and 10.6 Hz),2.79(1H,m),3.22-3.44
(2H,complex),3.04(1H,br.d,J=13.9 Hz),3.16(1H,dq,J=
13.9 and 6.9 Hz),3.55(1H,dq,J=14.5 and 7.3 Hz),3.8
7(1H,m),5.32(1H,d,J=11.9 Hz),5.43(1H,d,J=4.6 Hz),
7.40-8.03(1H,br.s),9.10-9.43(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3254(s),2856(s),
1622(s) マススペクトル[M]⁺=412 高分解能マススペクトル[M]⁺=412.3034(C₂₁H₄₀N₄O₄) 計算値：412.3050 比旋光度［α］_D ²⁶=-11.8 °(C=0.39,EtOH) （実施例３６）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソ−４−メチルペンチル］−（Ｓ）−
ピペラジン酸Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１０１で得られたＮ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベ
ンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソ−
４−メチルペンチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（３３m
g）をメチルアミンと縮合させて得られたＮ−メチルア
ミド体の保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分
取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm
厚，クロロホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エ
チル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目
的化合物（１１mg）が得られた。

【０１９８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.89(3H,d,J=5.9 Hz),0.93(3H,d,J=5.9 Hz),1.22(1
H,m),1.36-1.97(5H,complex),2.05(1H,m),2.28(1H,dd,J
=13.2 and 2.6 Hz),2.49(1H,dd,J=13.2 and 7.9 Hz),2.
77-3.11(2H,complex),2.78(3H,d,J=4.0 Hz),3.96(1H,b
r.d,J=5.3 Hz),4.71(1H,d,J=6.9 Hz),5.06(1H,br.d,J=
1.3 Hz),6.85(1H,br.s),9.58-10.20(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film) ：3270(m),2960
(m),1650(S),1625(s)マススペクトル [M+H]⁺=315 高分解能マススペクトル[M+H]=315.2019(C₁₄H₂₇N₄O₄) 計算値：315.2032 比旋光度［α］_D ²⁶=-10.6 °(C=1.0,EtOH) （実施例３７）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸
Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例３０で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｒ）−ピペラジン酸（５９mg）をメチルアミ
ンと縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基を
接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマトグ
ラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホルム：
メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノール＝
１０：１溶出）により精製すると目的化合物（１９mg）
が得られた。

【０１９９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.01-1.80(11H,complex),2.2
8(1H,br.d,J=12.5 Hz),2.33-2.90(3H,complex),2.77(3
H,br.s),3.05(1H,br.d,J=12.5 Hz),3.99(1H,m),4.20(1
H,br.d,J=11.2 Hz),5.11(1H,br.s),7.64(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3255(m),2929(s),
1637(s) マススペクトル[M]⁺=328 高分解能マススペクトル[M]⁺=328.2108(C₁₅H₂₈N₄O₄) 計算値：328.2110 比旋光度［α］_D ²⁶=+70.9 °(C=1.0,EtOH) （実施例３８）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例３０で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｒ）−ピペラジン酸（４２mg）をジメチルア
ミンと縮合させて得られたＮ，Ｎ−ジメチルアミド体の
保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロ
ホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタ
ノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物
（１８mg）が得られた。

【０２００】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.14-1.75(10H,complex),1.8
1-2.05(2H,complex),2.28(2H,d,J=7.3 Hz),2.70(1H,m),
2.95(3H,s),3.09(3H,s),3.11(1H,m,3.09ppmvとoverla
p),4.10(1H,m),4.95(1H,dd,J=11.2and 1.3 Hz),5.43(1
H,dd,J=5.3 and 3.3 Hz),7.53-7.82(1H,br.s),8.68-8.9
2(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3261(s),2929(s),
1622(s) マススペクトル[M]⁺=342 高分解能マススペクトル[M]⁺=342.2250(C₁₆H₃₀N₄O₄) 計算値：342.2267 比旋光度［α］_D ²⁶=+25.6 °(C=1.0,EtOH) （実施例３９）Ｎ² −［２−（Ｓ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例１０６で得られたＮ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｓ）−（ベ
ンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘ
プチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４１mg）をメチルア
ミンと縮合させて得られたＮ−メチルアミド体の保護基
を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層クロマト
グラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロホル
ム：メタノール＝１３：１展開，酢酸エチル：メタノー
ル＝１０：１溶出）により精製すると目的化合物（８m
g）が得られた。

【０２０１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m)：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.03-2.05(11H,complex),2.1
8-2.91(4H,complex),2.81(3H,d,J=4.0 Hz),3.06(1H,d,J
=13.2 Hz),3.79-4.12(2H,complex),5.12(1H,d,J=4.0 H
z),7.37(1H,d,J=4.0 Hz),9.02-9.53(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3250(m),2930(s),
1635(s) マススペクトル[M-H₂O]⁺=310 高分解能マススペクトル[M-H₂O]⁺=310.2006(C₁₅H₂₆N
₄O₃) 計算値：310.2005 比旋光度［α］_D ²⁶=-70.2 °(C=0.28,EtOH) （実施例４０）Ｎ² −［２−（Ｓ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソペンチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
ｔ−ブチルエステル 実施例１の方法に従い、参考例１０５で得られたＮ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｓ）−（ベ
ンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソペ
ンチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（４０mg）の保護基を接触還元により除去し、シリカゲ
ル分取薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5m
m 厚，クロロホルム：メタノール＝１３：１展開，酢酸
エチル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると
目的化合物（１６mg）が得られた。核磁気共鳴スペクト
ル(270MHz,CDCl₃,δppm)：0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.17-
1.98(11H,complex),1.48(9H,s),2.05-2.50(3H,comple
x),2.72(1H,dq,J=2.3 and 12.9 Hz),3.08(1H,dd,J=13.7
and 1.9 Hz),4.00(1H,m),4.16(1H,d,J=12.5 Hz),5.19
(1H,d,J=4.0 Hz),8.78-9.33(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1) ：3245(m),2940(s),
1725(s),1650(s),1630(s) マススペクトル[M]⁺=371 高分解能マススペクトル[M]⁺=371.2408(C₁₈H₃₃N₃O₅) 計算値：371.2421 比旋光度［α］_D ²⁶=-30.2 °(C=0.48,EtOH) （参考例１）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−（Ｌ）−イソロイシン
（Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ）アミド ０℃に冷却したＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−イ
ソロイシン（１５ｇ）の塩化メチレン（２００ml）溶液
に、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（5.8
ｇ）、ジシクロヘキシルカルボジイミド（DCC,11.7
ｇ）、ジイソプロピルエチルアミン（１０ml）、４−ジ
メチルアミノピリジン（７０ml）を順次加え、０℃で2.
3 時間撹拌した。結晶を濾去した後、反応混合物を塩酸
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ヘキサン：酢酸エチル＝５：２で溶出）で精製し、目
的化合物16.9ｇを無色結晶性物質として得た。メタノー
ル−水より再結晶すると融点６４−６６℃の無色結晶と
なった。

【０２０２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.93(3H,d,J=6.8 Hz),1.12(1
H,m),1.57(1H,m),1.73(1H,m),3.22(3H,s),3.79(3H,s),
4.67(1H,br,t,J=8.1 Hz),5.06(1H,d,J=12.5 Hz),5.13(1
H,d,J=12.5 Hz),5.35(1H,br.d,J=9.8 Hz),7.23-7.41(5
H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3306(m),171
9(s),1654(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=309.1804(C₁₆H₂₅N₂O₄) 計算値：309.1813 比旋光度［α］_D ²⁶ =-4.68°(C=2.01,CHCl₃) （参考例２）（４Ｓ，５Ｓ）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−５−メチル−３−オキソヘプタン 窒素雰囲気下、−１５℃に冷却したＮ−ベンジルオキシ
カルボニル−（Ｌ）−イソロイシル（Ｎ−メチル−Ｎ−
メトキシ）アミン（1.71ｇ）のテトラヒドロフラン（４
０ml）溶液にエチルマグネシウムブロマイド(0.99 Ｍテ
トラヒドロフラン溶液）（１６ml）を滴下し、0.6 時間
撹拌した。室温に昇温し、更に0.6 時間撹拌の後、反応
液を５％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１及び２：１）で精製し、目的化
合物８６１mg（56.2％）を得た。又、出発物質Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル−（Ｌ）−イソロイシル（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メトキシ）アミン（５０８mg）を回収した。
目的化合物はメタノール−水より再結晶し融点５７−５
８℃の無色結晶となった。

【０２０３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.98(3H,d,J=6.8 Hz),1.08(3
H,t,J=7.3 Hz),1.27(1H,m),1.90(1H,m),2.52(1H,dd,J=
7.3 and 3.9 Hz),4.36(1H,dd,J=8.5 and 4.6 Hz),5.09
(2H,s),5.36(1H,br.d,J=8.3 Hz),7.24-7.40(5H,comple
x) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3270(w),171
0(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=278.1750(C₁₆H₂₄NO₃) 計算値：278.1756 （参考例３）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソヘプチ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
04ｇ）を窒素雰囲気下テトラヒドロフラン（１２５ml）
に溶解させ、−７８℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム
（1.65Ｍヘキサン溶液）（２５ml）を滴下し、１０分間
撹拌した。ついでヘプタノイルクロライド（6.4 ml）を
加え、−７８℃で1.5 時間撹拌した。反応液を５％塩化
アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出、有機層
を水、飽和食塩水で洗浄の後、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去後、残留物をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝８：１）により精
製し、目的化合物（9.69ｇ）を無色油状物として得た。

【０２０４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.82-0.97(3H,t,0.87ppm and 0.92ppm と ｏｖｅｒ
ｌａｐｐｅｄ），０．８７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈ
ｚ），０．９２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８ Ｈｚ），１．
２２−１．４５（６Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），１．５８−
１．７５（２Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），２．３８（１Ｈ，
ｄ，ｈｅｐ，Ｊ＝３．４ ａｎｄ ６．８ Ｈｚ），
２．７７−３．０６（２Ｈ，ｃｏｍｐｌｅｘ），４．１
９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３ ａｎｄ ３．４ Ｈ
ｚ），４．２６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．３ Ｈｚ），４．
４３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．３ ａｎｄ ３．４ Ｈ
ｚ） 赤外線吸収スペクトル（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ，ｃｍ
^−１）：１７８４（ｓ），１７０３（ｓ） 高分解能マススペクトル[M]⁺=241.1675(C₁₃H₂₃NO₃) 計算値：241.1677 （参考例４）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソヘプチル）−２−
オキサゾリジノン 窒素雰囲気下、−１５℃に冷却した４−（Ｓ）−イソプ
ロピル−３−（１−オキソヘプチル）−２−オキサゾリ
ジノン（５１９mg）のテトラヒドロフラン（１５ml）溶
液にリチウムジイソプロピルアミド(0.58 Ｍテトラヒド
ロフラン溶液）（３９ml）を加え、−７８℃で１０分間
撹拌した。次いで、ブロモ酢酸ｔ−ブチル(1.7ml) のテ
トラヒドロフラン溶液（５ml）を加え、5.5 時間撹拌を
続けながら、−５５℃迄徐々に昇温した。反応液を５％
塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、
有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１で溶出）で精製することにより目的化合物６９７mg
（91.2％）を得た。メタノール−水より再結晶し、融点
５１−５３℃。

【０２０５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.86(3H,t,J=6.4 Hz),0.91(3H,d,J=6.3 Hz),0.93(3
H,d,J=6.3 Hz),1.14-1.51(7H,complex),1.41(9H,s),1.6
2(1H,m),2.38(1H,d,hep,J=3.4 and 6.3 Hz),2.43(1H,d
d,J=16.6 and 4.9 Hz),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 H
z),4.15(1H,m),4.20(1H,dd,J=7.9 and 3.4 Hz),4.25(1
H,t,J=7.9 Hz),4.43(1H,dt,J=7.9 and 3.4 Hz) 赤外線吸収スペクトル(KBr pellet,cm^-1):1763(s),1730
(s),1702(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=356.2449(C₁₉H₃₄NO₅) 計算値：356.2437 比旋光度［α］_D ²⁶ =+50.8°(C=1.03,CHCl₃) （参考例５）２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−ヘプ
タン酸 参考例４で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
［２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１
−オキソヘプチル］−２−オキサゾリジノン（６９１m
g）をテトラヒドロフラン−水（３：１，４０ml）の混
合溶媒に溶解し、０℃に冷却した。次いで水酸化リチウ
ム水和物（１６５mg）、３１％過酸化水素水溶液（１m
l）を順次加え、０℃で1.5 時間撹拌した。1.5 Ｎ亜硫
酸ナトリウム水溶液（7.3ml ）を加え数分間撹拌の後、
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液中へ注ぎ、塩化メチレンで
洗浄した。水層を１Ｎ塩酸でpH１〜２とした後、酢酸エ
チルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘ
キサン：酢酸エチル＝８：１で溶出）で精製することに
より目的化合物４５２mg（95.1％）を無色油状物として
得た。

【０２０６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=7.4 Hz),1.21-1.41(6H,complex),1.43
(9H,s),1.52(1H,m),1.65(1H,m),2.38(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.62(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.80(1H,m) 赤外線吸収スペクトル (liquid film,cm^-1):1734(s),17
09(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=245.1752(C₁₃H₂₅O₄) 計算値：245.1752 比旋光度［α］_D ²⁶ =+14.5°(C=1.97,EtOH) （参考例６）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例５で得られた２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル）ヘプタン酸（４４０mg）のジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ、１８ml）溶液に炭酸水素ナトリウム
（３０５mg）、ベンジルブロマイド（1.0ml ）を順次加
え、室温下一夜撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：
酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより、目的物
４７６mgを無色油状物として得た。

【０２０７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.6 Hz),1.17-1.32(6H,complex),1.41
(9H,s),1.50(1H,m),1.61(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.65(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),
5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.18(1H,d,J=12.5 Hz),7.24-7.4
2(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):1731(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=335.2230(C₂₀H₃₁O₄) 計算値：335.2223 比旋光度［α］_D ²⁶ =+0.22°(C=7.9,CHCl₃) （参考例７）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸 参考例６で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボ
ニルオクタン酸ｔ−ブチルエステル（９８３mg）に４Ｍ
−塩酸−ジオキサン溶液（１５ml）を加え、一夜撹拌し
た。反応液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出し、有機層を無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホル
ム：メタノール＝３０：１で溶出）で精製することによ
り、目的化合物８３８mgを無色油状物として得た。

【０２０８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.6Hz),1.10-1.38(6H,complex),1.42-
1.77(2H,complex),2.48(1H,dd,J=16.5 and 4.6Hz),2.78
(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.88(1H,m),5.14(2H,s),7.
23-7.48(5H,complex),7.60-9.50(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):1735(s),171
2(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=278.1527(C₁₆H₂₂O₄) 計算値：278.1518 比旋光度［α］_D ²⁶ =+2.4 °(C=0.99,EtOH) （参考例８）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオクタン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 窒素雰囲気下、参考例７で得られた３−（Ｒ）−ベンジ
ルオキシカルボニルオクタン酸（６７１mg）のベンゼン
（１０ml）溶液に蓚酸クロライド（２ml）を加え、６０
℃で２時間撹拌した。反応液にベンゼンを加え、減圧留
去し未反応の蓚酸クロライドを除いた後、残留物を窒素
雰囲気下テトラヒドロフラン（１３ml）に溶解し、−１
５℃に冷却した後トリクロロエタノール（1.7ml ）、ピ
リジン（0.23ml）を順次加えた。−１５℃で3.3 時間撹
拌した後、反応液を0.5 Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル抽出溶液を無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１
５：１で溶出）により精製し、目的化合物（７９３mg）
を無色油状物として得た。

【０２０９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.6 Hz),1.12-1.39(6H,complex),1.47-
1.79(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.5 and 3.3 Hz),2.8
9(1H,dd,J=15.5 and 9.2 Hz),4.64(1H,d,J=11.9 Hz),4.
72(1H,d,J=11.9 Hz),5.10(1H,d,J=11.9 Hz),5.18(1H,d,
J=11.9 Hz),7.23-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):1757(s),173
6(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=409.0734(C₁₈H₂₄O₄Cl₃) 計算値：409.0740 比旋光度［α］_D ²⁶ =-1.0 °(C=6.0,CHCl₃) （参考例９）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルヘプタン酸 参考例８で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボ
ニルオクタン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（９２４mg）のメタノール（８ml）溶液に１０％パラジ
ウム炭素（５２mg）を加え、水素雰囲気下２時間撹拌し
接触還元した。反応終了後セライト濾過により触媒を濾
去し、濾液を減圧下濃縮、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール
＝３０：１）で精製し目的化合物（６７８mg）を無色油
状物として得た。

【０２１０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.89(3H,t,J=6.5 Hz),1.18-1.47(6H,complex),1.47-
1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.2 and 2.9 Hz),2.8
8(1H,dd,J=15.2 and 9.3 Hz),2.94(1H,m),4.72(1H,d,J=
12.0 Hz),4.79(1H,d,J=12.0Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):1758(s),170
9(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=319.0261(C₁₁H₁₈O₄Cl₃) 計算値：319.0271 比旋光度［α］_D ²⁶ =+11.1°(C=3.96,EtOH) （参考例１０）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 窒素雰囲気下参考例９で得られた２−（Ｒ）−（２，
２，２−トリクロロエトキシカルボニル）メチルヘプタ
ン酸（５７３mg）のベンゼン（１０ml）溶液に蓚酸クロ
ライド（0.6ml ）を加え、５０℃で２時間撹拌した後、
反応液に無水ベンゼンを加え減圧濃縮し、過剰の蓚酸ク
ロライドを除去した。減圧濃縮により得られた残留物
（酸クロライド）をテトラヒドロフラン（４ml）に溶解
した。窒素雰囲気下−１５℃に冷却した（Ｓ）−Ｎ¹ −
ベンジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエス
テル（５８４mg）とＮ−エチルモルホリン（0.37ml）の
テトラヒドロフラン（７ml）溶液に、先に調製した酸ク
ロライド溶液を滴下した後、一夜撹拌を続け徐々に室温
迄昇温した。反応液を0.2 Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで
抽出、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、無水硫
酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し得られた残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサ
ン：酢酸エチル＝６：１）により精製し目的化合物（10
04mg）を無色油状物として得た。

【０２１１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.80(3H,t,J=6.6Hz),0.85-2.12(12H,complex),1.43
(9H,s),2.61(1H,dd,J=17.2 and 3.3Hz),2.94(1H,dd,J=1
7.2 and 10.0Hz),3.13(1H,m),3.42(1H,m),4.28(1H,br.
d,J=11.3Hz),4.61(1H,d,J=11.9Hz),4.77(1H,d,J=11.9H
z),5.13(1H,d,J=11.9Hz),5.21(1H,d,J=11.9Hz),5.27(1
H,dd,J=4.6 and 3.9Hz),7.22-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル（ｌｉｑｕｉｄ ｆｉｌｍ，ｃｍ
^−１）：１７３９（ｓ），１６７６（ｓ） 高分解能マススペクトル［Ｍ］^＋＝６２０．１７９９
（Ｃ_２８Ｈ_３９Ｎ_２Ｏ_７Ｃｌ_３） 計算値：620.1822 比旋光度［α］_D ²⁶ =-7.5 °(C=2.04,CHCl₃) （参考例１１）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１０で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −［１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルヘプチル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（９２０mg）
のテトラヒドロフラン溶液に１Ｎ−酢酸アンモニウム水
溶液（2.5ml ）、亜鉛（1.93ｇ）を加え、室温下４時間
激しく撹拌した。反応終了後亜鉛を濾去し、反応液を５
％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥、溶媒を減圧下留去し、得られた残留物をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メ
タノール＝２０：１）により精製し、目的化合物（６３
２mg）を無色油状物として得た。

【０２１２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.80(3H,t,J=6.3 Hz),0.85-2.12(12H,complex),1.43
(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 4.0 Hz),2.82(1H,dd,J=
17.2and 11.1 Hz),3.09(1H,m),3.42(1H,m),4.25(1H,m),
5.12(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,
dd,J=4.6 and 4.0 Hz),7.19-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):1737(s),171
4(s),1675(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=491.2724(C₂₆H₃₉N₂O₇) 計算値：491.2756 比旋光度［α］_D ²⁶ =-23.1°(C=1.03,EtOH) （参考例１２）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル 参考例１１で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −［２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（５９８mg）を混合溶媒（テトラヒドロフラン：ＤＭＦ
＝３：１，２０ml））に溶解し、−１５℃に冷却した。
Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン（２０２mg）、ジエチ
ルシアノフォスフォネート(DEPC,0.28ml) 、トリエチル
アミン(0.34ml)を順次加え、2.1 時間撹拌した。反応液
を１Ｎ塩酸に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を
水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝６０：
１で溶出）により精製し、目的化合物（４５２mg）を得
た。又、出発原料（ピペラジン酸エステル，１６４mg）
を回収した。

【０２１３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.79(3H,t,J=6.8 Hz),0.82-2.10(12H,complex),1.42
(9H,s),2.10-2.46(2H,complex),3.19(1H,m),3.42(1H,
m),4.24(1H,br.d,J=11.7 Hz),4.82(1H,d,J=11.2 Hz),4.
89(1H,d,J=11.2 Hz),5.12(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,
J=12.2 Hz),5.26(1H,t,J=3.9 Hz),7.20-7.48(10H,compl
ex),7.99(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3426(m),173
4(s),1674(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=596.3328(C₃₃H₄₆N₃O₇) 計算値：596.3335 比旋光度［α］_D ²⁶ =-30.7°(C=1.03,CHCl₃) （参考例１３）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例１２で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −［２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４２１mg）の塩化メチレン溶
液にトリフルオロ酢酸（1.5 ml）を加え、室温で2.6 時
間撹拌した。反応終了後トルエンを加え減圧濃縮し、残
留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホ
ルム：メタノール＝１５：１で溶出）により精製し、目
的化合物（３５１mg）を無色油状物として得た。

【０２１４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.50-3.40(17H,complex),4.11(1H,m),4.81(1H,d,J=1
1.2 Hz),4.88(1H,d,J=11.2 Hz),4.99-5.38(3H,comple
x),7.05-7.55(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3224(m),171
9(s),1672(s) （参考例１４）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−（Ｌ）−バリン（Ｎ−
メチル−Ｎ−メトキシ）アミド 参考例１に述べた方法に従いＮ−ベンジルオキシカルボ
ニル−（Ｌ）−バリン（2.11ｇ）を出発原料として同様
の反応処理により目的化合物（2.21ｇ）を得た。

【０２１５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.92(3H,d,J=6.6 Hz),0.97(3H,d,J=6.6 Hz),2.01(1
H,m),3.21(3H,s),3.78(3H,s),4.63(1H,dd,J=9.2 and 7.
3 Hz),5.06(1H,d,J=12.5 Hz),5.13(1H,d,J=12.5 Hz),5.
42(1H,br.d,J=9.2 Hz),7.24-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3310(m),297
5(m),1720(s),1655(s) 比旋光度［α］_D ²⁶ =+4.4 °(C=1.00,CHCl₃) （参考例１５）４−（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−５−メ
チル−３−オキソヘキサン 参考例２に述べた方法に従い、Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニル−（Ｌ）−バリン−（Ｎ−メチル−Ｎ−メトキ
シ）アミド（2.21ｇ）を出発原料として同様の反応処理
により目的化合物（0.882 ｇ）を得た。ヘキサンより再
結晶し融点４９−５０℃。

【０２１６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.77(3H,d,J=6.6 Hz),1.00(3H,d,J=6.6 Hz),1.06(3
H,t,J=7.3 Hz),2.18(1H,m),2.50(2H,m),4.36(1H,dd,J=
8.6 and 4.0 Hz),5.06(1H,d,J=12.5 Hz),5.11(1H,d,J=1
2.5 Hz),5.53(1H,br.d,J=8.6 Hz),7.23-7.42(5H,comple
x) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3342(m),296
7(m),1712(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=264.1609(C₁₅H₂₂NO₃) 計算値： 264.1600 比旋光度［α］_D ²⁶ =+74.9°(C=0.99,CHCl₃) （参考例１６）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４Ｓ）−５−
メチル−３−オキソヘキサン−４−イルアミド 参考例１５で得られた４−（Ｓ）−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ−５−メチル−３−オキソヘキサン（６１
mg）のテトラヒドロフラン溶液（2.0ml ）に１０％パラ
ジウム炭素（６mg）を加え水素雰囲気下４０分間撹拌し
接触還元した。

【０２１７】触媒を濾去後反応液を減圧濃縮すると４−
（Ｓ）−アミノ−５−メチル−３−オキソヘキサンの粗
生成物が得られた。

【０２１８】０℃に冷却した参考例１３で得られたＮ¹
−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ²−［２−（Ｒ）−
（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４６mg）のテト
ラヒドロフラン：ジメチルホルムアミド（５：３）混合
溶液（6.4ml ）に窒素雰囲気下、DEPC（0.06ml）、先に
得られた４−（Ｓ）−アミノ−５−メチル−３−オキソ
ヘキサンの粗生成物のテトラヒドロフラン溶液（4.0ml
）溶液を加え、4.7 時間撹拌した。反応終了後反応液
を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和
食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒
を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー（２０×２０cm，２mm厚，クロロホル
ム：メタノール＝１０：１で展開）を用いて精製し目的
化合物（７５mg）を得た。

【０２１９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.66-0.93(9H-complex),1.03(3H,t,J=7.4 Hz),1.08-
2.60(17H,complex),3.13(1H,m),3.73(1H,m),4.12(1H,
m),4.40(1H,br.dd,J=7.8 and 5.6 Hz),4.82(1H,d,J=12.
6 Hz),4.89(1H,d,J=12.6 Hz),4.95(1H,m),5.18(1H,d,J=
12.3 Hz),5.25(1H,d,J=12.3 Hz),7.24-7.38(10H,comple
x),7.95-8.22(2H,complex) （参考例１７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４Ｓ，５Ｓ）
−５−メチル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド 参考例１６の方法に従い、出発原料として参考例２で得
られた（４Ｓ，５Ｓ）−４−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−５−メチル−３−オキソヘプタン（８３mg）と
参考例１３で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボ
ニル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラ
ジン酸（１１５mg）を用いて同様の反応処理により目的
化合物（８５mg）を得た。

【０２２０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.66-2.12(23H,complex),1.02(3H,t,J=7.3 Hz),1.34
(3H,t,J=7.3 Hz),2.28(1H,m),2.46(2H,br.q,J=7.3 Hz),
3.12(1H,m),4.11(1H,m),4.21(1H,t,J=7.0 Hz),4.82(1H,
d,J=12.2 Hz),4.87(1H,d,J=12.2 Hz),4.92(1H,m),5.17
(1H,d,J=11.7 Hz),5.25(1H,d,J=11.7 Hz),7.24-7.48(10
H,complex),8.12(1H,m),8.27(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3303(m),171
4(m),1667(s),1626(s),1530(m) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=665.3897(C₃₇H₅₃N₄O₇) 計算値：665.3913 （参考例１８）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−（Ｄ）−イソロイシン
（Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ）アミド 参考例１における出発原料にＮ−ベンジルオキシカルボ
ニル−Ｄ−イソロイシン（1.65ｇ）を用い、同様の反応
処理により目的化合物（1.56ｇ）の無色結晶を得た。メ
タノール−水より再結晶し融点６４−６６℃。

【０２２１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.93(3H,d,J=6.8 Hz),1.12(1
H,m),1.57(1H,m),1.73(1H,m),3.22(3H,s),3.79(3H,s),
4.67(1H,dd,J=9.8 and 8.1 Hz),5.06(1H,d,J=12.5 Hz),
5.13(1H,d,J=12.5 Hz),5.35(1H,br.d,J=9.8 Hz),7.23-
7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3306(m),296
5(m),1719(s),1654(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=309.1804(C₁₆H₂₅N₂O₄) 計算値：309.1813 比旋光度［α］_D ²⁶ =+4.54°(C=2.05,CHCl₃) （参考例１９）（４Ｒ，５Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ
−５−メチル−３−オキソヘプタン 参考例２における出発原料にＮ−ベンジルオキシカルボ
ニル−（Ｄ）−イソロイシン（Ｎ−メチル−Ｎ−メトキ
シ）アミド（1.53ｇ）を用い、同様の反応処理により目
的化合物（0.675 ｇ）を得た。メタノール−水より再結
晶し融点５７−５８℃。

【０２２２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.98(3H,d,J=6.8 Hz),1.04(1
H,m),1.08(3H,t,J=7.3 Hz),1.27(1H,m),1.90(1H,m),2.5
2(2H,m),4.36(1H,dd,J=8.3 and 4.6 Hz),5.09(2H,s),5.
36(1H,br.d,J=8.3 Hz),7.24-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3270(w),296
6(M),1710(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=278.1750(C₁₆H₂₄NO₃) 計算値：278.1756 比旋光度［α］_D ²⁶ =-72.2°(C=1.0,CHCl₃) （参考例２０）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４Ｒ，５Ｒ）
−５−メチル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド 参考例１６の方法に従い出発原料として参考例１９で得
られた（４Ｒ，５Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−５−メチル−３−オキソヘプタン（８２mg）と
参考例１３で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボ
ニル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラ
ジン酸（９５mg）を用いて同様の反応処理により目的化
合物（４２mg）を得た。少量の不純物を含有していたが
更に精製することなく次の工程（参考例１０９）に使用
した。

【０２２３】（参考例２１）Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−（Ｌ）−ロイシン（Ｎ
−メチル−Ｎ−メトキシ）アミド 参考例１における出発原料にＮ−ベンジルオキシカルボ
ニル−Ｌ−ロイシン（2.45ｇ）を用い、同様の反応処理
により目的化合物（2.61ｇ）を得た。

【０２２４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.93(3H,d,J=6.6 Hz),0.97(3H,d,J=6.6 Hz),1.47(2
H,t,J=6.6 Hz),1.72(1H,m),3.20(3H,s),3.79(3H,s),4.7
9(1H,m),5.06(1H,d,J=12.5 Hz),5.12(1H,d,J=12.5 Hz),
5.37(1H,d,J=9.2 Hz),7.23-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3306(m),295
8(m),1720(s),1660(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=308.1742(C₁₆H₂₄N₂O₄) 計算値：308.1736 比旋光度［α］_D ²⁶ =-8.4 °(C=1.01,CHCl₃) （参考例２２）４−（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−６−メ
チル−３−オキソヘプタン 参考例２における出発原料にＮ−ベンジルオキシカルボ
ニル−（Ｌ）−ロイシン（Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ）
アミド（2.49ｇ）を用い、同様の反応処理により目的化
合物（1.36ｇ）を得た。

【０２２５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.92(3H,d,J=6.6 Hz),0.98(3H,d,J=6.6 Hz),1.08(3
H,t,J=7.3 Hz),1.37(1H,ddd,J=14.3, 9.5 and 5.0Hz),
1.55(1H,ddd,J=14.3,9.2 and 4.1 Hz),1.71(1H,m),2.54
(2H,m),4.42(1H,m),5.09(2H,s),5.37(1H,br.d,J=7.3 H
z),7.24-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1):3337(m),2959(m),17
13(s) 高分解能マススペクトル[M-C₂H₅-CO]⁺=220.1358(C₁₃H₁₈
NO₂) 計算値：220.1338 比旋光度［α］_D ²⁶ =+32.9° (C=0.99,CHCl₃) （参考例２３）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４Ｓ）−６−
メチル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド 参考例１６の方法に従い出発原料として参考例２２で得
られた４−（Ｓ）−ベンジルオキシカルボニルアミノ−
６−メチル−３−オキソヘプタン（５７mg）と参考例１
３で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −
［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メ
チル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
（４２mg）とを用い同様の反応処理により目的化合物
（２５mg）を得た。少量の不純物を含有していたが更に
精製することなく次の工程（実施例２）に使用した。

【０２２６】（参考例２４）２−（Ｓ）−［Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ²
−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジニ
ル］アミノイソバレリアン酸Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ
アミド 参考例１６における出発原料として参考例１４で得られ
たＮ−ベンジルオキシカルボニル−（Ｌ）−バリン（Ｎ
−メチル−Ｎ−メトキシ）アミド（９６mg）と参考例１
３で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −
［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メ
チル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
（４８mg）を用い、同様の反応処理により目的化合物
（４０mg）を得た。少量の不純物を含有していたが更に
精製することなく次の工程（実施例３）に使用した。

【０２２７】（参考例２５）２−（Ｓ）−［Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ²
−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジニ
ル］アミノイソバレリアン酸メチルエステル ０℃に冷却した参考例１３で得られたＮ¹ −ベンジルオ
キシカルボニル−Ｎ²−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキ
シアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸（４１mg）のテトラヒドロフラ
ン：ジメチルホルムアミド（３：１）混合溶液（3.6ml
）に窒素雰囲気下Ｌ−バリンメチルエステル塩酸塩
（３９mg）、トリエチルアミン（0.025ml ）、DEPC（0.
04ml）を順次加え徐々に室温まで昇温しながら一晩撹拌
した。反応終了後反応液を５％硫酸水素カリウム水溶液
に注ぎ酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水
で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を減圧
留去し、得られた残留物をシリカゲル分取薄層クロマト
グラフィー（２０cm×２０cm，0.5 mm厚，クロロホル
ム：メタノール＝１５：１で展開）を用いて分取し目的
化合物（４９mg）を得た。少量の不純物を含有していた
が更に精製することなく次の工程（実施例４）に使用し
た。

【０２２８】（参考例２６）２−（Ｓ）−［Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ²
−［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジニ
ル］アミノイソバレリアン酸ｔ−ブチルエステル 参考例２５の方法に従いバリンｔ−ブチルエステル塩酸
塩（４５mg）と参考例１３で得られたＮ¹ −ベンジルオ
キシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジルオキ
シアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸（３７mg）を出発原料として用
い、同様の反応処理により目的化合物（４２mg）を得
た。少量の不純物を含有していたが更に精製することな
く次の工程（実施例５）に使用した。

【０２２９】（参考例２７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニルメチル）−ヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例１０の方法に従い２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニルメチル）ヘプタン酸（２４
６mg）と（Ｒ）−Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニルピペ
ラジン酸ｔ−ブチルエステル（２４６mg）を出発原料と
して同様の反応処理により目的化合物（２６７mg）を得
た。

【０２３０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.6 Hz),0.97-2.14(12H,complex),1.43
(3H,s),2.50(1H,dd,J=17.5 and 4.9 Hz),2.95(1H,dd,J=
17.5and 9.9 Hz),2.97(1H,m),3.28(1H,m),4.40(1H,m),
4.58(1H,d,J=12.5 Hz),4.85(1H,d,J=12.5 Hz),5.10(1H,
d,J=12.5 Hz),5.21(1H,d,J=12.5 Hz),5.29(1H,br.d,J=
4.3 Hz),7.22-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2931(m),173
5(s),1677(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=620.1833(C₂₈H₃₉N₂O₇ ³⁵Cl
₃) 計算値：620.1823 （参考例２８）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１１の方法に従い参考例２７で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［１−オキソ−２−
（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル
メチル）−ヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸ｔ−ブチ
ルエステル（６９４mg）のトリクロロエチル基の除去反
応、処理により目的化合物（５３３mg）を得た。

【０２３１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.84(3H,t,J=6.6 Hz),0.94-2.17(12H,complex),1.42
(9H,s),2.37(1H,m),2.80-3.09(2H,complex),3.18(1H,
m),4.39(1H,m),5.00-5.36(3H,complex),7.18-7.42(5H,c
omplex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3190(w),293
2(s),1735(s),1679(s) 高分解能マススペクトル[M+H-H₂O]⁺=473.2672(C₂₆H₃₇N₂
O₆) 計算値：473.2652 （参考例２９）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエス
テル 参考例１２の方法に従い参考例２８で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−カルボ
キシメチル−１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（５１７mg）とＯ−ベンジルヒ
ドロキシルアミン（２０３mg）を出発原料とし同様の反
応処理により目的化合物（４２１mg）を得た。

【０２３２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.93-2.38(14H,complex),1.42
(9H,s),2.81-3.32(2H,complex),4.32(1H,m),4.75-4.95
(2H,complex),5.10(1H,d,J=11.9 Hz),5.20(1H,d,J=11.9
Hz),5.27(1H,m),7.22-7.46(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3252(m),293
1(s),1735(s),1675(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=596.3327(C₃₃H₄₆N₃O₇) 計算値：596.3335 比旋光度［α］_D ²⁶ =+37.1°(C=1.00,EtOH) （参考例３０）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸 参考例１３の方法に従い参考例２９で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（２−
ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソ
ヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（５６mg）のｔ−ブチル基の除去反応、処理により目的
化合物（４３mg）を得た。

【０２３３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.83(3H,t,J=5.8 Hz),0.97-2.20(15H,complex),3.14
(1H,m),4.24(1H,m),4.70-4.95(2H,br.s),5.02-5.33(3H,
complex),7.18-7.48(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3230(w),294
0(m),1720(s),1655(s) 比旋光度［α］_D ²⁶ =+21.4°(C=1.0,EtOH) （参考例３１）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸（４Ｓ，５Ｓ）
−５−メチル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド 参考例１６の方法に従い参考例２で得られた（４Ｓ，５
Ｓ）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ−５−メチ
ル−３−オキソヘプタン（６１mg）と参考例３０で得ら
れたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−
（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−
１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸（７４m
g）を出発原料として用い同様の反応処理により目的化
合物（６７mg）を得た。少量の不純物を含有していたが
更に精製することなく次の工程（参考例１１０）に使用
した。

【０２３４】（参考例３２）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸（４Ｒ，５Ｒ）
−５−メチル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド 参考例１６の方法に従い参考例１９で得られた（４Ｒ，
５Ｒ）−４−ベンジルオキシカルボニルアミノ−５−メ
チル−３−オキソヘプタン（５５mg）と参考例３０で得
られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−
（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−
１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸（７２m
g）より同様の反応処理により目的化合物（５４mg）を
得た。少量の不純物を含有していたが更に精製すること
なく次の工程（参考例１１１）に使用した。

【０２３５】（参考例３３）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［３−（２，
２，２−トリクロロエトキシカルボニル）−プロピオニ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１０の方法に従いコハク酸モノ−２，２，２−ト
リクロロエチルエステル（0.253 ｇ）と（Ｓ）−Ｎ¹ −
ベンジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエス
テル（0.323 ｇ）を出発原料として用い同様の反応処理
により目的化合物（0.582 ｇ）を得た。

【０２３６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):1.41(9H,s),1.48-2.13(4H,complex),2.38-3.21(5H,c
omplex),4.66(1H,d,J=12.0 Hz),4.79(1H,d,J=12.0 Hz),
4.92-5.42(3H,complex),7.25-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2977(m),173
1(s),1683(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=550.1028(C₂₃H₂₉N₂O₇ ³⁵Cl
₃) 計算値：550.1040 比旋光度［α］_D ²⁶ =-21.1°(C=1.01,CHCl₃) （参考例３４）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−カルボ
キシプロピオニル）−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチル
エステル 参考例１１の方法に従い参考例３３で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［３−（２，２，２−
トリクロロエトキシカルボニル）−プロピオニル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（0.543 ｇ）
を出発原料として同様の反応処理により目的化合物（0.
381 ｇ）を得た。

【０２３７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):1.41(9H,s),1.55(1H,m),1.78(1H,m),1.88-2.11(2H,c
omplex),2.33-2.89(5H,complex),3.01(1H,m),4.91-5.44
(3H,complex),7.22-7.45(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3195(m),297
8(m),1730(s),1683(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=421.2019(C₂₁H₂₉N₂O₇) 計算値：421.1975 （参考例３５）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−ベンジ
ルオキシアミノカルボニルプロピオニル）−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１２の方法に従い、参考例３４で得られたＮ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−カルボキシプ
ロピオニル）−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル（３５０mg）とＯ−ベンジルヒドロキシルアミン（１
６１mg）を出発原料として同様の反応処理により目的化
合物（４５８mg）を得た。このものは少量の不純物を含
有していたが更に精製することなく次の工程（実施例７
及び参考例３６）に使用した。

【０２３８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):1.42(9H,s),1.50-2.12(4H,complex),2.48(2H,m),2.8
0(2H,m),3.09(2H,m),4.87(2H,s),4.96-5.41(3H,comple
x),7.21-7.47(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3240(m),299
0(m),1725(s),1675(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=526.2546(C₂₈H₃₆N₃O₇) 計算値：526.2552 （参考例３６）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−ベンジ
ルオキシアミノカルボニルプロピオニル）−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸 参考例１３の方法に従い、参考例３４で得られたＮ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−カルボキシプ
ロピオニル）−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル（３６９mg）を出発原料として同様の反応処理により
目的化合物（２９９mg）を得た。

【０２３９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):1.60(1H,m),1.69-2.60(6H,complex),2.68-2.98(2H,c
omplex),3.31(1H,m),4.87(2H,br.s),3.10-3.32(3H,comp
lex)7.18-7.47(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3250(m),172
0(s),1670(s) 比旋光度［α］_D ²⁶ =-12.8°(C=2.01,EtOH) （参考例３７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−ベンジ
ルオキシアミノカルボニルプロピオニル）−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸（４Ｓ，５Ｓ）−５−メチル−３−オキソヘ
プタン−４−イルアミド 参考例１６の方法に従い（４Ｓ，５Ｓ）−４−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−５−メチル−３−オキソヘプ
タン（１１０mg）と参考例３６で得られたＮ¹−ベンジ
ルオキシカルボニル−Ｎ² −（３−ベンジルオキシアミ
ノカルボニルプロピオニル）−（Ｓ）−ピペラジン酸
（１５９mg）より同様の反応処理により目的化合物（１
２８mg）を得た。

【０２４０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.86(3H,d,J=6.6 Hz),1.01-2.00(7H,complex),1.02
(3H,t,J=7.2 Hz),1.38(3H,t,J=7.2 Hz),2.02-2.69(4H,c
omplex),2.48(2H,q,J=7.2 Hz),2.81(1H,m),3.32(1H,m),
4.48(1H,dd,J=7.3 and 6.6 Hz),4.89(2H,s),5.10(1H,
m),5.15(1H,d,J=12.5 Hz),5.25(1H,d,J=12.5 Hz),7.25-
7.50(10H,complex),7.98(1H,br.d,J=8.0 Hz),8.65(1H,b
r.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3320(m),297
5(m),1720(s),1700(s),1675(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=595.3134(C₃₂H₄₃N₄O₇) 計算値：595.3131 （参考例３８）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソ−４−メ
チルペンチル）−２−オキサゾリジノン 参考例３の方法に従い４−（Ｓ）−イソプロピル−２−
オキサゾリジノン（3.46ｇ）とイソカプロイルクロライ
ド（3.98ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目的
化合物（5.21ｇ）を得た。

【０２４１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.83-1.00(12H,complex),1.45-1.72(3H,complex),2.
37(1H,dhep,J=4.0 and 7.9 Hz),2.78-3.08(2H,comple
x),4.21(1H,dd,J=7.9 and 4.0 Hz),4.27(1H,t,J=7.9 H
z),4.44(1H,dt,J=7.9 and 4.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2970(s),178
0(s),1700(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=227.1522(C₁₂H₂₁NO₃) 計算値：227.1521 比旋光度［α］_D ²⁶ =+76.3°(C=1.00,CHCl₃) （参考例３９）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−［２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソ−４−メチルペン
チル］−２−オキサゾリジノン 参考例４の方法に従い参考例３８で得られた４−（Ｓ）
−イソプロピル−３−（１−オキソ−４−メチルペンチ
ル）−２−オキサゾリジノン（5.17ｇ）とブロモ酢酸ｔ
−ブチル（18.5ml）を出発原料とし同様の反応処理によ
り目的化合物（6.16ｇ）を得た。水−メタノールより再
結晶し融点１４３−１４４℃。

【０２４２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.86-0.97(12H,complex),1.30(1H,m),1.42(9H,s),1.
45-1.66(3H,complex),2.38(1H,m),2.44(1H,dd,J=16.5 a
nd 5.3 Hz),2.68(1H,dd,J=16.5 and 9.9 Hz),4.18-4.31
(2H,complex),4.42(1H,dt,J=7.9 and 4.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1):2960(m),1764(s),17
32(s),1700(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=342.2270(C₁₈H₃₂NO₅) 計算値：342.2280 比旋光度［α］_D ²⁶ =+41.6°(C=1.00,CHCl₃) （参考例４０）２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−４−
メチルペンタン酸 参考例５の方法に従い参考例３９で得られた４−（Ｓ）
−イソプロピル−３−［２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカル
ボニルメチル−１−オキソ−４−メチルペンチル］−２
−オキサゾリジノン（6.14ｇ）を出発原料とし同様の反
応処理により目的化合物（3.99ｇ）を得た。

【０２４３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.91(3H,d,J=6.6 Hz),0.94(3H,d,J=6.6 Hz),1.29(1
H,m),1.43(9H,s),1.53-1.77(2H,complex),2.37(1H,dd,J
=16.3and 5.3 Hz),2.59(1H,dd,J=16.3 and 9.2 Hz),2.8
5(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2960(s),173
1(s),1710(s) 比旋光度［α］_D ²⁶ =+14.1°(C=1.00,EtOH) （参考例４１）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニル−５−メチルヘ
キサン酸ｔ−ブチルエステル 参考例６の方法に従い参考例４０で得られた２−（Ｒ）
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−４−メチルペン
タン酸（2.88ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により
目的化合物（2.17ｇ）を得た。

【０２４４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.86(3H,d,J=6.6 Hz),0.91(3H,d,J=6.6 Hz),1.29(1
H,m),1.41(9H,s),1.49-1.68(2H,complex),2.35(1H,dd,J
=16.6and 5.9 Hz),2.62(1H,dd,J=16.6 and 8.4 Hz),2.9
0(1H,m),5.10(1H,d,J=12.5 Hz),5.16(1H,d,J=12.5 Hz),
7.25-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2959(m),173
2(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=321.2051(C₁₉H₂₉O₄) 計算値：321.2066 比旋光度［α］_D ²⁶ =+2.4 °(C=4.96,CHCl₃) （参考例４２）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニル−５−メチルヘ
キサン酸 参考例７の方法に従い参考例４１で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニル−５−メチルヘキサン酸ｔ
−ブチルエステル（2.10ｇ）を出発原料として同様の反
応処理により目的化合物（1.73ｇ）を得た。

【０２４５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.87(3H,d,J=6.6 Hz),0.92(3H,d,J=6.6 Hz),1.31(1
H,m),1.48-1.69(2H,complex),2.48(1H,dd,J=17.0 and
4.6 Hz),2.76(1H,dd,J=17.0 and 9.6 Hz),2.94(1H,m),
5.12(1H,d,J=12.9 Hz),5.16(1H,d,J=12.9 Hz),7.23-7.4
2(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2959(m),173
6(s),1713(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=264.1350(C₁₅H₂₀O₄) 計算値：264.1362 比旋光度［α］_D ²⁶=+6.8°(C=1.00,EtOH) （参考例４３）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニル−５−メチルヘ
キサン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル 参考例８の方法に従い参考例４２で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニル−５−メチルヘキサン酸
（1.70ｇ）を出発原料として同様の反応処理により目的
化合物（2.20ｇ）を得た。

【０２４６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,d,J=6.6 Hz),0.92(3H,d,J=6.6 Hz),1.38(1
H,m),1.48-1.72(2H,m),2.67(1H,m),2.87(1H,m),3.01(1
H,m),4.64(1H,d,J=12.9 Hz),4.74(1H,d,J=12.9 Hz),5.1
1(1H,d,J=13.2 Hz),5.16(1H,d,J=13.2 Hz),7.23-7.43(5
H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2958(m),175
8(s),1736(s) 比旋光度［α］_D ²⁶ =+1.9 °(C=4.03,CHCl₃) （参考例４４）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチル−４−メチルペンタン酸 参考例９の方法に従い実施例４３で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニル−５−メチルヘキサン酸
２，２，２−トリクロロエチルエステル（1.79ｇ）を出
発原料として同様の反応処理により目的化合物（1.12
ｇ）を得た。

【０２４７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.93(3H,d,J=6.6 Hz),0.96(3H,d,J=6.6 Hz),1.40(1
H,m),1.55-1.79(2H,complex),2.61(1H,dd,J=16.5 and
4.6 Hz),2.85(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.97(1H,m),
4.72(1H,d,J=12.2 Hz),4.79(1H,d,J=12.2 Hz) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1):2960(m),1758(s),17
10(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=305.0100(C₁₀H₁₆O₄ ³⁵Cl
₃) 計算値：305.0114 比旋光度［α］_D ²⁶ =+11.4°(C=1.08,EtOH) （参考例４５） （Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−
（Ｒ）−カルボキシメチル−４−メチル−１−オキソペ
ンチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１１の方法に従い、参考例１０７で得られたＮ¹
−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［１−オキソ−２
−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル）メチル−４−メチルペンチル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（６２５mg）を出発原料として
同様の反応処理により目的化合物（４７７mg）を得た。

【０２４８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.83(3H,d,J=6.6 Hz),0.90(3H,d,J=6.6 Hz),1.11-1.
62(4H,complex),1.43(9H,s),1.70-2.12(3H,complex),2.
52(1H,dd,J=17.8 and 3.3 Hz),2.77(1H,dd,J=17.8 and
10.6 Hz),3.17(1H,br.t,J=10.6 Hz),3.36(1H,br.t,J=1
0.9 Hz),4.24(1H,m),5.13(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,
J=12.2 Hz),5.26(1H,dd,J=4.6 and 4.0 Hz),7.22-7.46
(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1):3186(w),2958(m),17
36(s),1677(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=477.2612(C₂₅H₃₇N₂O₇) 計算値：477.2601 比旋光度［α］_D ²⁶ =-19.6°(C=1.01,EtOH) （参考例４６）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−４−メ
チル−１−オキソペンチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例１２の方法に従い参考例４５で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−カルボ
キシメチル−４−メチル−１−オキソペンチル］−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（４５９mg）
とＯ−ベンジルヒドロキシルアミン（２３４mg）を出発
原料として同様の反応処理により目的化合物（４２７m
g）を得た。少量の不純物を含有していたが更に精製す
ることなく次の工程（実施例１１）に使用した。

【０２４９】（参考例４７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−メチルアミ
ド 参考例２５の方法に従いＮ¹ −ベンジルオキシカルボニ
ル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカル
ボニル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペ
ラジン酸（３９ｍｇ）とメチルアミン塩酸塩（１７mg）
を出発原料として同様の反応処理により目的化合物（１
４mg）を得た。少量の不純物を含有していたが更に精製
することなく次の工程（参考例４８）に使用した。

【０２５０】（参考例４８）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
Ｎ−メチルアミド 実施例１の方法に従い、参考例４７で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベン
ジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプ
チル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−メチルアミド（１４
mg）の保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取
薄層クロマトグラフィー（２０cm×１０cm，0.5mm 厚，
クロロホルム：メタノール＝１５：１二重展開，酢酸エ
チル：メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目
的化合物（5.0mg ）が得られた。

【０２５１】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.00-2.13(12H,complex),2.30
(1H,m),2.52(1H,br.t,,J=12.5 Hz),2.79(3H,d,J=4.5 H
z),2.82(1H,m),3.02(1H,br.d,J=13.2 Hz),3.85(1H,m),
4.61(1H,d,J=11.9 Hz),5.05(1H,br.s),6.59(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3270(m),294
0(m),1655(s),1625(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=328 比旋光度［α］_D ²⁶ =-8.8 °(C=0.45,EtOH) （参考例４９）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソデシル）
−２−オキサゾリジノン 参考例３の方法に従い４−（Ｓ）−イソプロピル−２−
オキサゾリジノン（4.74ｇ）とデカノイルクロライド
（7.35ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目的化
合物（9.85ｇ）を得た。

【０２５２】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),0.87(3H,d,J=6.6 Hz),0.92(3
H,d,J=6.6 Hz),1.17-1.43(12H,complex),1.59-1.73(2H,
complex),2.37(1H,d.hep,J=3.3 and 6.6 Hz),2.78-3.05
(2H,complex),4.20(1H,dd,J=9.2 and 3.3 Hz),4.26(1H,
dd,J=9.2 and 7.9 Hz),4.44(1H,d,t,J=7.9 and 3.3 Hz)
赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2927(s),178
5(s),1703(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=283.2144(C₁₆H₂₉NO₃) 計算値：283.2147 比旋光度［α］_D ²⁶ =+61.4°(C=1.00,CHCl₃) （参考例５０）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−［２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソデシル］−２−オ
キサゾリジノン 参考例４の方法に従い参考例４９で得られた４−（Ｓ）
−イソプロピル−３−（１−オキソデシル）−２−オキ
サゾリジノン（9.85ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチル（25.4
ml）を出発原料として同様の反応処理により目的化合物
（9.17ｇ）を得た。（融点５８〜５９℃） 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.87(3H,
t,J=6.8 Hz),0.88(3H,d,J=6.6 Hz),0.93(3H,d,J=6.6 H
z),1.13-1.37(12H,complex),1.41(9H,s),1.53-1.70(2H,
complex),2.38(1H,d.hep,J=3.3 and 6.6 Hz),2.43(1H,d
d,J=16.6 and 4.7Hz),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.6 H
z),4.08-4.30(3H,complex),4.44(1H,dt,J=7.3 and 3.3H
z) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2925(m),176
4(s),1730(s),1702(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=398.2910(C₂₂H₄₀NO₅) 計算値：398.2907 比旋光度［α］_D ²⁶ =+46.6°(C=1.00,CHCl₃) （参考例５１）２−（Ｒ）−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）デカン
酸 参考例５の方法に従い参考例５０で得られた４−（Ｓ）
−イソプロピル−３−［２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカル
ボニルメチル−１−オキソデシル］−２−オキサゾリジ
ノン（9.08ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目
的化合物（6.14ｇ）を得た。

【０２５３】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.18-1.40(12H,complex),1.43
(9H,s),1.51(1H,m),1.67(1H,m),2.38(1H,dd,J=16.5 and
5.3Hz),2.61(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.80(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2858(s),173
3(s),1709(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=287.2213(C₁₆H₃₁O₄) 計算値：287.2223 比旋光度［α］_D ²⁶ =+14.2°(C=1.00,EtOH) （参考例５２）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例６の方法に従い参考例５１で得られた２−（Ｒ）
−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）デカン酸（4.64
ｇ）を出発原料とし同様の反応処理により目的化合物
（5.69ｇ）を得た。

【０２５４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.34(12H,complex),1.41
(9H,s),1.50(1H,m),1.61(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.2 and
5.3Hz),2.64(1H,dd,J=16.2 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),
5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.28-7.4
4(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2956(m),173
3(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=377.2658(C₂₃H₃₇O₄) 計算値：377.2692 比旋光度［α］_D ²⁶=+1.1°(C=1.00,CHCl₃) （参考例５３）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸 参考例７の方法に従い参考例５２で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸ｔ−ブチルエ
ステル（5.62ｇ）を出発原料として同様の反応処理によ
り目的化合物（4.07ｇ）を得た。

【０２５５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.38(12H,complex),1.44
-1.73(2H,complex),2.49(1H,dd,J=16.2 and 4.3 Hz),2.
79(1H,dd,J= 16.2 and 9.6 Hz),2.87(1H,m),5.12(1H,d,
J=13.2 Hz),5.17(1H,d,J=13.2 Hz),7.13-7.43(5H,compl
ex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2927(s),173
7(s),1713(s) 高分解能マススペクトル [M]⁺=320.1989(C₁₉H₂₈O₄) 計算値：320.1987 比旋光度[ α ]_D ²⁶= +3.3 °(C=1.00,EtOH) （参考例５４）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸
２，２，２−トリクロロエチルエステル 参考例８の方法に従い参考例５３で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸（3.65ｇ）を
出発原料として同様の反応処理により目的化合物（3.18
ｇ）を得た。

【０２５６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.14-1.38(12H,complex),1.48
-1.79(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.2 and 4.0 Hz),2.
90(1H,dd,J=15.2 and 9.2 Hz),2.96(1H,m),4.65(1H,d,J
=12.9 Hz),4.73(1H,d,J=12.9Hz),5.10(1H,d,J=12.2 H
z),5.18(1H,d,J=12.2 Hz),7.28-7.43(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(film,cm^-1):2927(s),1737(s),17
13(s) 高分解能マススペクトル [M]⁺=452.1099(C₂₁H₂₉O₄ ³⁵Cl₂
³⁷Cl) 計算値：452.1102 比旋光度[ α ]_D ²⁶ =-0.44° (C:5.00,CHCl₃) （参考例５５）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルデカン酸 参考例９の方法に従い参考例５４で得られた３−（Ｒ）
−ベンジルオキシカルボニルウンデカン酸２，２，２−
トリクロロエチルエステル（3.08ｇ）を出発原料として
同様の反応処理により目的化合物（1.87ｇ）を得た。

【０２５７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),1.17-1.46(12H,complex),1.51
-1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 3.0 Hz),2.
81-3.10(2H,complex),4.72(1H,d,J=12.2 Hz),4.79(1H,
d,J=12.2 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2928(s),175
9(s),1710(s) 高分解能マススペクトル [M+H]⁺=361.0736(C₁₄H₂₄O₄ ³⁵C
l₃) 計算値：361.0740 比旋光度[ α ]_D ²⁶ =+11.5° (C=1.00,EtOH) （参考例５６）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例１０の方法に従い参考例５５で得られた２−
（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル）メチルデカン酸（５８３ｍｇ）と（Ｓ）−Ｎ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル（４９０mg）を出発原料として同様の反応処理により
目的化合物（７０４mg）を得た。

【０２５８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.93-2.14(18H,complex),1.43
(9H,s),2.60(1H,dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.95(1H,dd,J=
17.5 and 10.9 Hz),3.14(1H,m),3.42(1H,br.t,J=11.3
Hz),4.27(1H,br.d,J=12.5 Hz),4.61(1H,d,J=12.2 Hz),
4.78(1H,d,J=12.2 Hz),5.14(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,
d,J=11.9 Hz),5.27(1H,t,J=4.3 Hz),7.23-7.40(5H,comp
lex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2929(m),174
0(s),1677(s) 高分解能マススペクトル [M+2H]⁺=664.2264(C₃₁H₄₅O₇ ³⁵
Cl₃) 計算値：664.2263 比旋光度[ α ]_D ²⁶ =-6.8 ° (C=1.00,CHCl₃) （参考例５７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１１の方法に従い参考例５６で得られたＮ¹ −ベ
ンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［１−オキソ−２−
（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル）メチルデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチル
エステル（６４５mg）を出発原料として同様の反応処理
により目的化合物（４５５mg）を得た。

【０２５９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.93-2.11(18H,complex),1.43
(9H,s),2.49(1H,dd,J=17.2 and 3.3 Hz),2.82(1H,dd,J=
17.2and 11.2 Hz),3.09(1H,m),3.32(1H,dd,J=14.2 and
10.7 Hz),4.25(1H,br.d,J=8.5 Hz),5.13(1H,d,J=12.5 H
z),5.20(1H,d,J=12.5 Hz),5.27(1H,d,J=4.3 Hz),7.20-
7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3189(w),292
9(m),1736(s),1678(s) 高分解能マススペクトル [M+H]⁺=533.3249(C₂₉H₄₅N₂O₇) 計算値：533.3227 比旋光度[ α ]_D ²⁶ =-21.3° (C=1.00,EtOH) （参考例５８）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル 参考例１２の方法に従い参考例５７で得られた Ｎ¹ −
ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−カル
ボキシメチル−１−オキソデシル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４３７mg）を出発原料として
同様の反応処理により目的化合物（４９０mg）を得た。

【０２６０】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.52(18H,complex),1.43
(9H,s),2.10-2.46(2H,complex),3.20(1H,m),3.41(1H,
m),4.24(1H,m),4.82(1H,d,J=11.6 Hz),4.89(1H,d,J=11.
6 Hz),5.12(1H,d,J=12.5 Hz),5.20(1H,d,J=12.5 Hz),5.
27(1H,t,J=2.4 Hz),7.22-7.48(10H,complex),8.12(1H,
m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3255(w),292
8(s),1733(s),1675(s) 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]⁺=581.3104(C₃₂H₄₃N
₃O₇) 計算値：581.3101 比旋光度[ α ]_D ²⁶ =-34.30 °(C=1.00,CHCl₃) （参考例５９）N¹−ベンジルオキシカルボニル−N²−［２−（Ｒ）−
（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例１３の方法に従い参考例５８で得られたN¹−ベン
ジルオキシカルボニル−N²−［２−（Ｒ）−（ベンジル
オキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシル］
−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（４３３m
g）を出発原料として同様の反応処理により目的化合物
（３７９mg）を得た。

【０２６１】核磁気共鳴スペクトル（２７０MHz ，CDCl
₃ ）δ：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.59(20H,comple
x),2.51-3.18(2H,complex),4.10(1H,br.d,J=12.5 Hz),
4.83(1H,t,J=4.5 Hz),4.93(1H,d,J=11.2 Hz),5.00(1H,
d,J=11.2 Hz),5.01(1H,d,J=11.9 Hz),5.18(1H,d,J=11.9
Hz),7.14(1H,br.s),7.20-7.51(10H,complex),12.3(1H,
br.s) 赤外線吸収スペクトル FT film (cm^-1)：３２２８(w)
，２９２７(s) ，１７０５(s) ，１６７２(s) ，１６
０４(s) 比旋光度 ［α]_D ²⁶＝−２９．０°（ｃ＝１．００，Et
OH） （参考例６０）N¹−ベンジルオキシカルボニル−N²−［２−（Ｒ）−
（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソデシル］−（Ｓ）−ピペラジン酸Ｎ−メチルアミド 参考例２５の方法に従い参考例５９で得られたN¹−ベン
ジルオキシカルボニル−N²−［２−（Ｒ）−（ベンジル
オキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソデシル］
−（Ｓ）−ピペラジン酸（４４mg）とメチルアミン塩酸
塩（１０mg）を出発原料として同様の反応処理により目
的化合物（１５mg) を得た。

【０２６２】核磁気共鳴スペクトル（２７０MHz ，CDCl
₃ ）δ：0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.98-2.59(20H,comple
x),2.70(3H,d,J=4.6 Hz),3.08(1H,m),3.67(1H,m),4.11
(1H,m),4.83(1H,d,J=11.2 Hz),4.88(1H,d,J=11.2 Hz),
5.13(1H,t,J=5.3 Hz),5.21(2H,s),7.25-7.49(10H,compl
ex),7.71(1H,m),8.18(1H,m) 赤外線吸収スペクトル film (cm^-)：３３４５(m) ，３
２２５(m) ，２９４５(s) ，１６９５(s) ，１６７０
(s) 質量スペクトル m/z［M-H₂O]⁺ ＝５７６ （参考例６１）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソオクチ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
06ｇ）とオクタノイルクロライド（6.67ｇ）より参考例
３と同様の反応処理により目的化合物（9.39ｇ）を無色
油状物として得た。

【０２６３】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,d,J=6.6 Hz),0.88(3H,t,0.87ppm 及び0.
92ppm とoverlapped),0.92(3H,d,J=6.6 Hz),1.09-1.42
(8H,complex),1.50-1.73(2H,complex),2.38(1H,m),2.70
-3.06(2H,complex),4.20(H,dd,J=9.2 and 3.3 Hz),4.26
(1H,t,J=9.2 Hz),4.44(1H,dt,J=9.2 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2929(m),17
84(s),1702(s) マススペクトル [M]⁺ =255 高分解能マススペクトル [M]⁺ =255.1832(C₁₄H₂₅O₃N) 計算値：255.1835 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+74.9°（C=1.0,CHCl₃) （参考例６２）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソオクチル）−２−
オキサゾリジノン 参考例６１で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソオクチル）−２−オキサゾリジノン（5.51
ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（１７ml）より参
考例４と同様の反応処理により目的化合物（4.13ｇ）を
得た。

【０２６４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,t,J=7.3 Hz),0.91(3H,d,J=6.3 Hz),0.93
(3H,d,J=6.3 Hz),1.15-1.50(9H,complex),1.41(9H,s),
1.62(1H,m),2.36(1H,m),2.42(1H,dd,J=16.6 and 4.4 H
z),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 Hz),4.08-4.30(3H,com
plex),4.43(1H,dt,J=7.6 and 3.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,KBr pellet):2931
(m),1764(s),1730(s),1703(s) マススペクトル [M+H]⁺ =370 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =370.2587(C₂₀H₃₆NO₅) 計算値：370.2593 m.p.50-51 ℃ H₂O-MeOH 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+51.9°(C=1.0,CHCl₃) （参考例６３）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例６２で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソオクチル）−２−オキサゾリジノン（３．９８ｇ）
のテトラヒドロフラン溶液を０℃に冷却し、これにテト
ラヒドロフラン（３０ｍｌ） 、ベンジルアルコール
(2.4ml) 、ｎ−ブチルリチウム（1.66Ｍヘキサン溶液9.
8ml ) より水冷下調整したリチウムベンジルオキシド溶
液（４２ml）を加え、０℃で４０分間撹拌した。反応液
を５％硫酸水素カリウム水溶液に注ぎ酢酸エチルで抽出
し、有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄の後、硫酸ナト
リウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２
０：１で溶出）することにより目的化合物（3.86ｇ）を
無色油状物質として得た。

【０２６５】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.72(10H,complex),
1.41(9H,s),2.36(1H,dd,J=16.2 and 5.3 Hz),2.64(1H,d
d,J=16.2 and 9.2 Hz),2.83(1H,m),5.09(1H,d,J=12.5 H
z),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.26-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2931(m),17
32(s) マススペクトル [M+H-tBu]⁺ =292 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]⁺ =292.1677(C₁₇H₂₄
O₄) 計算値：292.1675 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+0.38°(C=6.9,CHCl₃) （参考例６４）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸 参考例６３で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸ｔ−ブチルエステル（3.86ｇ）を参考例
７と同様に反応処理し、目的化合物（2.73ｇ）を得た。

【０２６６】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.86(3H,t,J=6.6 Hz),1.09-1.37(8H,complex),1.
41-1.78(2H,complex),2.49(1H,dd,J=16.3 and 4.4Hz),
2.79(1H,dd,J=16.3 and 9.3 Hz),2.88(1H,m),5.12(1H,
d,J=12.2 Hz),5.17(1H,d,J=12.2 Hz),7.23-7.42(5H,com
plex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2930(m),17
36(s),1712(s)マススペクトル [M]⁺ =292 高分解能マススペクトル [M]⁺ =292.1679(C₁₇H₂₄O₄) 計算値：292.1675 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+2.0 °(C=2.0,EtOH) （参考例６５）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルノナン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 参考例６４で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸（2.7ｇ）とトリクロロエタノール（1.7
ml)より参考例８と同様に反応処理し、目的化合物（3.1
7ｇ）を得た。

【０２６７】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.86(3H,t,J=6.8 Hz),1.11-1.37(8H,complex),1.
48-1.78(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.9 and 3.7 Hz),
2.89(1H,dd,J=15.9 and 9.0 Hz),2.96(1H,m),4.65(1H,
d,J=12.0 Hz),4.72(1H,d,J=12.0 Hz),5.10(1H,d,J=12.4
Hz),5.18(1H,d,J=12.4 Hz),7.25-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2930(m),17
58(s),1736(s) マススペクトル [M]⁺ =422 高分解能マススペクトル [M]⁺ =422.0826(C₁₉H₂₅O₄(35C
l)₃) 計算値：422.0819 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-0.99°(C=5.9,EtoH) （参考例６６）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルオクタン酸 参考例６５で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルノナン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（3.12ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的化合物
（2.39ｇ）を得た。

【０２６８】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),1.18-1.45(8H,complex),1.
49-1.81(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 2.9 Hz),
2.88(1H,dd,J=15.1 and 9.3 Hz),2.94(1H,m),4.72(1H,
d,J=12.2 Hz),4.79(1H,d,J=12.2 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2930(m),17
59(s),1710(s) マススペクトル [M+H]⁺ =333 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =333.0453 (C₁₂H₂₀O
₄(35Cl)₃) 計算値：333.0428 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+11.7°(C=4.0,EtOH) （参考例６７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例６６で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルオクタン酸（４６４
mg）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ¹ −ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステルを
参考例１０に示した方法に従い反応処理し、目的化合物
（７７２mg) を得た。

【０２６９】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.84(3H,t,J=6.6 Hz),0.90-2.12(14H,complex),
1.43(9H,s),2.60(1H,dd,J=17.2 and 4.0 Hz),2.97(1H,d
d,J=17.2 and 9.2 Hz),3.13(1H,m),3.43(1H,m),4.28(1
H,m),4.61(1H,d,J=11.9 Hz),4.78(1H,d,J=11.9 Hz),5.1
3(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,dd,
J=4.6 and 4.0 Hz),7.24-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2931(m),17
36(s),1677(s), マススペクトル [M]⁺ =634 高分解能マススペクトル [M]⁺ =636.1935 (C₂₉H₄₁O₇N
₂(35Cl)₂(37Cl)) 計算値：636.1950 比旋光度〔α〕_D ²⁶＝-6.9° (C=2.0,CHCl₃) （参考例６８）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソオクチル〕−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例６７で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルオクチル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（７６５mg)
を参考例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合
物（４９５mg) を得た。

【０２７０】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.83(3H,t,J=6.6 Hz),0.96-2.12(14H,complex),
1.43(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 3.6 Hz),2.82(1H,d
d,J=17.2 and 10.6 Hz),3.08(1H,m),3.12(1H,m),4.25(1
H,m),5.13(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,J=12.2 Hz),5.2
7(1H,dd,J=4.6 and 4.0 Hz),7.22-7.48(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3186(w),29
31(m),1736(s),1678(s) マススペクトル [M+H]⁺ =505 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =505.2913(C₂₇H₄₁O
₇N₂) 計算値：505.2914 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-23.5°(C=1.0,EtOH) （参考例６９）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル 参考例６８で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
オクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（４８５mg) とＯ−ベンジルヒドロキシルアミンを参考
例１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（５
７７ mg)を得た。

【０２７１】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.83(3H,t,J=6.6 Hz),0.88-2.08(15H,complex),
1.42(9H,s),2.30(1H,m),3.20(1H,m),3.43(1H,m),4.24(1
H,m),4.82(1H,d,J=11.6 Hz),4.88(1H,d,J=11.6 Hz),5.1
3(1H,d,J=12.2 Hz),5.20(1H,d,J=12.2Hz),5.25(1H,br.
t,J=4.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3251(w),29
31(m),1735(s),1675(s) マススペクトル [M]⁺ =609 高分解能マススペクトル [M]⁺ =609.3395(C₃₄H₄₇O₇N₃) 計算値：609.3414 比旋光度〔α〕_D ²⁶＝-37.8 °(C=1.0,CHCl₃) （参考例７０）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例６９で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソオクチル〕−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（５６５mg) を参考例１３と同
様の反応処理により目的化合物（４５８mg) を得た。

【０２７２】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.92-2.62(16H,complex),
2.82-3.29(2H,complex),4.10(1H,m),4.71-5.40(5H,comp
lex),7.00-7.58(10H,complex),8.02(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3227(m),29
30(s),1718(s),1672(s),1608(s) マススペクトル[M-C₆H₅]⁺ =476 比旋光度〔α〕_D ²⁶＝-17.3 °(C=1.0,EtOH) （参考例７１）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソノニル）
−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（4.
99ｇ）とノナノイルクロライド（7.16ｇ）より参考例３
と同様の反応処理により目的化合物（10.12 ｇ）を無色
油状物として得た。

【０２７３】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,d,J=7.3 Hz),0.88(3H,t,J=6.8 Hz),0.92
(3H,d,J=7.3 Hz),1.18-1.45(12H,complex),1.56-1.75(2
H,complex),2.38(1H,d,hep,J=3.3 and 7.3 Hz),2.78-3.
07(2H,complex),4.20(1H,dd,J=9.2 and 3.3Hz),4.26(1
H,t,J=9.2 Hz),4.44(1H,dt,J=7.9 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2928(m),17
85(s),1703(s), マススペクトル [M]⁺ =269 高分解能マススペクトル [M]⁺ =269.2001(C₁₅H₂₇O₃N) 計算値：269.1991 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+67.4°(C=1.0,CHCl₃) （参考例７２）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソノニル）−２−オ
キサゾリジノン 参考例７１で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソノニル）−２−オキサゾリジノン（10.09
ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（３０ml）より参
考例４と同様の反応処理により目的化合物（12.62 ｇ）
を得た。

【０２７４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.9 Hz),0.91(3H,d,J=6.6 Hz),0.93
(3H,d,J=6.6 Hz),1.17-1.50(11H,complex),1.41(9H,s),
1.60(1H,m),2.37(1H,m),2.43(1H,dd,J=16.5 and 4.0 H
z),2.74(1H,dd,J=16.5 and 9.9 Hz),4.09-4.31(3H,comp
lex),4.43(1H,dt,J=7.9 and 4.0 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,kBr pellet):2925
(m),1763(s),1731(s),1704(s) マススペクトル [M+H]⁺ =384 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =384.2752(C₂₁H₃₈O₅N) 計算値：384.2750 m.p. 49-51°(H₂O-MeOH) 比旋光度〔α〕_D ²⁶＝+48.5 °(C=1.0,CHCl₃) （参考例７３）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例７２で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソノニル）−２−オキサゾリジノン（１２．４４ｇ）
より参考例６３と同様に反応処理し目的化合物（１０．
８８ ｇ）を得た。

【０２７５】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.14-1.33(10H,complex),
1.40(9H,s),1.49(1H,m),1.62(1H,m),2.36(1H,dd,J=16.5
and6.5 Hz),2.64(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.84(1H,
m),5.09(1H,d,J=12.2 Hz),5.17(1H,d,J=12.2 Hz),7.29-
7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2929(s),17
36(s), マススペクトル [M+H]⁺ =363 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =363.2525(C₂₂H₃₅O₄) 計算値：363.2535 （参考例７４）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸 参考例７３で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸ｔ−ブチルエステル（10.50 ｇ）を参考
例７と同様に反応処理し目的化合物（8.29ｇ）を得た。

【０２７６】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.38(10H,complex),
1.42-1.77(2H,complex),2.48(1H,dd,J=16.2 and 4.6 H
z),2.79(1H,dd,J=16.5 and 9.2 Hz),2.88(1H,m),5.12(1
H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,J=12.5 Hz),7.25-7.42(5H,c
omplex) 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+3.0 °(C=1.0,EtOH) （参考例７５）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルデカン酸２，
２，２−トリクロロエチルエステル 参考例７４で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸（8.26ｇ）とトリクロロエタノール（1
1.5ml）より参考例８と同様に反応処理し、目的化合物
（11.44 ｇ）を得た。

【０２７７】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),1.10-1.39(10H,complex),
1.46-1.82(2H,complex),2.60(1H,dd,J=15.2 and 4.0 H
z),2.89(1H,dd,J=15.2 and 9.2 Hz),2.96(1H,m),4.65(1
H,d,J=12.2 Hz),4.72(1H,d,J=12.2 Hz),5.10(1H,d,J=1
1.9 Hz),5.18(1H,d,J=11.9 Hz),7.25-7.45(5H,complex) マススペクトル [M]⁺ =436 高分解能マススペクトル [M]⁺ =436.0992(C₂₀H₂₇O₄(35C
l)₃) 計算値：436.0974 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-0.69°(C=4.1,CHCl₃) （参考例７６）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルノナン酸 参考例６５で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルデカン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル
（11.39 ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的化合
物（7.66ｇ）を得た。

【０２７８】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.88(3H,t,J=6.8 Hz),1.15-1.45(10H,complex),
1.50-1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.1 and 3.4 H
z),2.80-3.01(2H,complex),4.72(1H,d,J=11.7 Hz),4.79
(1H,d,J=11.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2929(s),17
59(s),1710(s) マススペクトル [M+H]⁺ =347 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =347.0604(C₁₃H₂₂O₄(3
5Cl)₃) 計算値：347.0584 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+11.8°(C=1.0,EtOH) （参考例７７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブ
チルエステル 参考例７６で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルノナン酸（３７６m
g）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ¹ −ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（３４９mg）を参考例１０に示した方法に従い反応処理
し、目的化合物（５４２mg）を得た。

【０２７９】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.95-1.68(13H,complex),
1.43(9H,s),1.73-2.16(3H,complex),2.60(1H,dd,J=17.2
and3.6 Hz),2.94(1H,dd,J=17.2 and 10.6 Hz),3.12(1
H,m),3.43(1H,m),4.28(1H,m),4.61(1H,d,J=12.0 Hz),4.
77(1H,d,J=12.0 Hz),5.14(1H,d,J=12.5 Hz),5.21(1H,d,
J=12.5 Hz),5.27(1H,t,J=4.3 Hz),7.24-7.41(5H,comple
x) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2930(s),17
33(s),1678(s) マススペクトル [M]⁺ =648 高分解能マススペクトル [M]⁺ =648.2146(C₃₀H₄₃O₇N₂(3
5Cl)₃) 計算値：648.2136 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-7.3 °(C=1.0,CHCl₃) （参考例７８）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソノニル〕−（Ｓ）−ピ
ペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例７７で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルノニル〕−（Ｓ）
−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（５４１mg）を参考
例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合物（３
０４ mg ）を得た。

【０２８０】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.86(3H,t,J=7.0 Hz),0.91-2.11(16H,complex),
1.43(9H,s),2.48(1H,dd,J=17.2 and 3.3 Hz),2.81(1H,d
d,J=17.2 and 10.6 Hz),3.06(1H,m),3.32(1H,br.t,J=1
1.2 Hz),4.24(1H,m),5.13(1H,d,J=11.9 Hz),5.20(1H,d,
J=11.9 Hz),5.27(1H,br.t,J=4.0 Hz),7.23-7.41(5H,com
plex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3184(m),29
29(s),1733(s),1640(s) マススペクトル [M+H]⁺ =519 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =519.3064(C₂₈H₄₃O
₇N₂) 計算値：５１９．３０７０ （参考例７９）Ｎ^１ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−
（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１
−オキソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエ
ステル 参考例７８で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（３００mg）とＯ−ベンジルヒドロキシアミンを参考例
１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（３４
７ mg ）を得た。

【０２８１】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.86(3H,t,J=7.1 Hz),0.90-2.08(16H,complex),
1.43(9H,s),2.10-2.50(2H,complex),3.20(1H,m),3.42(1
H,m),4.25(1H,m),4.82(1H,d,J=11.2 Hz),4.89(1H,d,J=1
1.2 Hz),5.13(1H,d,J=12.4 Hz),5.20(1H,d,J=12.4 Hz),
5.26(1H,dd,J=4.4 and 3.4 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3252(m),29
29(s),1735(s),1675(s) マススペクトル [M+H]⁺ =624 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =624.3658(C₃₅H₅₀O
₇N₃) 計算値：624.3648 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-41.8°(C=1.0,CHCl₃) （参考例８０）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例７９で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソノニル〕−（Ｓ）−ピペラジン
酸ｔ−ブチルエステル（３３９mg）を参考例１３と同様
の反応処理により目的化合物（２４９mg）を得た。

【０２８２】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.89(3H,t,J=6.7 Hz),0.92-2.07(16H,complex),
2.10-2.52(2H,complex),2.88-3.22(2H,complex),4.10(1
H,m),4.68-5.33(5H,complex),7.00-7.50(10H,complex),
12.30(1H,m), 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3220(m),29
28(s),1713(s),1672(s),1601(s) マススペクトル [M-NHOBn]⁺ =445 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-23.1°(C=1.0,EtOH) （参考例８１）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソドデシ
ル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（5.
39ｇ）とドデカノイルクロライド（9.46ｇ）より参考例
３と同様の反応処理により目的化合物（11.31ｇ）を無
色油状物として得た。

【０２８３】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.87(3H,d,J=6.9 Hz),0.88(3H,t, 0.87ppm及び0.
92ppm とoverlapped),0.92(3H,d,J=6.9 Hz),1.17-1.43
(16H,complex),1.53-1.78(2H,complex),2.38(1H,d,hep,
J=3.3 and 6.9 Hz),2.77-3.07(2H,complex),4.20(1H,d
d,J=8.6 and 3.3 Hz),4.26(1H,t,J=8.6 Hz),4.44(1H,d
t,J=8.6 and 3.3 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2925(s),17
85(s),1704(s) マススペクトル [M+H]⁺ =312 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =312.2532(C₁₈H₃₄O₃N) 計算値：312.2539 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+54.1°(C=1.0,CHCl₃) （参考例８２）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソドデシル）−２−
オキサゾリジノン 参考例８１で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソドデシル）−２−オキサゾリジノン（11.2
7 ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（３０ml）より
参考例４と同様の反応処理により目的化合物（14.10
ｇ）を得た。

【０２８４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ
ppm):0.88(3H,t,J=7.3 Hz),0.91(3H,d,J=6.6 Hz),0.93
(3H,d,J=6.6 Hz),1.11-1.51(17H,complex),1.41(9H,s),
1.61(1H,m),2.37(1H,m),2.42(1H,dd,J=16.6 and 4.4 H
z),2.74(1H,dd,J=16.6 and 10.3 Hz),4.09-4.30(3H,com
plex),4.43(1H,dt,J=7.8 and 3.7 Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid kBr pellet cm ^-1):2922
(s),1764(s),1730(s),1700(s) マススペクトル [M+H-tBu]⁺ =369 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]⁺ =369.2505(C₂₀H₃₅
O₅N) 計算値：369.2515 m.p 42-43 °(H₂O-MeOH) 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+45.0°(C=1.0,CHCl₃) （参考例８３）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例８２で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソドデシル）−２−オキサゾリジノン（13.67 ｇ）よ
り参考例６３と同様に反応処理し目的化合物（11.92
ｇ）を得た。

【０２８５】C₂₅H₄₀O₄(FW=404) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),1.15-1.71(18H,complex),1.40(9H,s),2.
36(1H,dd,J=16.2 and 5.3 Hz),2.64(1H,dd,J=16.2 and
9.2 Hz),2.83(1H,m),5.09(1H,d,J=12.5 Hz),5.17(1H,d,
J=12.5 Hz),7.27-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2927(s),17
34(s) マススペクトル [M+H-tBu]⁺ =348 高分解能マススペクトル [M+H-tBu]⁺ =348.2318(C₂₁H₃₂
O₄) 計算値：348.2301 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+0.76°(C=5.0,CHCl₃) （参考例８４）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸 参考例８３で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸ｔ−ブチルエステル（11.62 ｇ）を
参考例７と同様に反応処理し目的化合物（9.41ｇ）を得
た。

【０２８６】C₂₁H₃₂O₄(FW=348) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),1.12-1.35(16H,complex),1.40-1.75(2H,
complex),2.49(1H,dd,J=16.1 and 4.4 Hz),2.79(1H,dd,
J=16.1 and 9.3 Hz),2.88(1H,m),5.12(1H,d,J=12.7 H
z),5.17(1H,d,J=12.7 Hz),7.25-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2926(s),17
37(s),1713(s) マススペクトル [M]⁺ =348 高分解能マススペクトル [M]⁺ =348.2308(C₂₁H₃₂O₄) 計算値：348.2300 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+2.8 °(C=1.0,EtOH) （参考例８５）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルトリデカン酸
２，２，２−トリクロロエチルエステル 参考例８４で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸（9.35ｇ）とトリクロロエタノール
（11.0ml）より参考例８と同様に反応処理し、目的化合
物（10.86 ｇ）を得た。

【０２８７】C₂₃H₃₃O₄Cl₃(FW=478,Cl=35) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),1.13-1.39(16H,complex),1.48-1.79(2H,
complex),2.60(1H,dd,J=15.1 and 3.4 Hz),2.81-3.02(2
H,complex),4.65(1H,d,J=12.0 Hz),4.72(1H,d,J=12.0 H
z),5.10(1H,d,J=12.4 Hz),5.18(1H,d,J=12.4 Hz),7.28-
7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2926(s),17
59(s),1737(s) マススペクトル ［Ｍ］^＋ ＝４７８ 高分解能マススペクトル ［Ｍ］^＋ ＝４７８．１４２
８（Ｃ_２３Ｈ_３３Ｏ_４（３５Ｃｌ）_３） 計算値：478.1445 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-0.57°(C=3.0,CHCl₃) （参考例８６）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル) メチルドデカン 酸 参考例６５で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニルトリデカン酸２，２，２−トリクロロエチルエス
テル（10.78 ｇ）を参考例９と同様に反応処理し、目的
化合物（7.01ｇ）を得た。

【０２８８】C₁₆H₂₇O₄Cl₃(FW=388,Cl=35) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.5 Hz),1.15-1.45(16H,complex),1.50-1.82(2H,
complex),2.61(1H,dd,J=15.2 and 3.2 Hz),2.80-3.01(2
H,complex),4.72(1H,d,J=11.9 Hz),4.79(1H,d,J=11.9 H
z) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2927(s),17
59(s),1710(s) マススペクトル [M+H]⁺ =389 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =389.1036(C₁₆H₂₈O₄(3
5Cl)₃) 計算値：389.1053 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+11.7°(C=1.0,EtOH) （参考例８７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例６６で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチルドデカン酸（３２９
mg）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ¹ −ベンジ
ルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（２５８mg）を参考例１０に示した方法に従い反応処理
し、目的化合物（４９２mg）を得た。

【０２８９】Ｃ_３３Ｈ_４９Ｏ_７Ｎ_２Ｃｌ_３ （ＦＷ＝６
９０，Ｃｌ＝３５） 核磁気共鳴スペクトル（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３，
δ ppm):0.88(3H,t,J=6.6 Hz),0.94-1.39(18H,comple
x),1.43(9H,s),1.49-1.71(2H,complex),1.78-2.13(2H,c
omplex),2.60(1H,dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.94(1H,dd,J
=17.5 and 10.9 Hz),3.14(1H,m),3.43(1H,m),4.27(1H,
m),4.61(1H,d,J=11.9 Hz),4.77(1H,d,J=11.9 Hz),5.14
(1H,d,J=11.9 Hz),5.21(1H,d,J=11.9 Hz),5.27(1H,t,J=
4.0 Hz),7.23-7.41(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2927(s),17
40(s),1677(s) マススペクトル [M]⁺ =690 高分解能マススペクトル [M]⁺ =690.2598(C₃₃H₄₉O₇N₂(3
5Cl)₃) 計算値：690.2606 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-7.0 °(C=2.0,CHCl₃) （参考例８８）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソドデシル〕−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例８７で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルドデシル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（４８９mg）
を参考例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合
物（４０７mg）を得た。

【０２９０】C₃₁H₄₈O₇N₂(FW=560) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),0.94-2.11(22H,complex),1.43(9H,s),2.
48(1H,dd,J=17.5 and 3.6 Hz),2.82(1H,dd,J=17.5 and
10.9 Hz),3.07(1H,m),3.31(1H,br.t,J=10.1 Hz),4.25(1
H,m),5.13(1H,d,J=11.8 Hz),5.20(1H,d,J=11.8 Hz),5.2
7(1H,dd,J=5.3 and 3.3 Hz),7.23-7.40(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3185(w),29
27(s),1736(s),1678(s) マススペクトル[M-tBuO]⁺ =487 高分解能マススペクトル［Ｍ−ｔＢｕＯ］^＋ ＝４８
７．２８２０（Ｃ_２７Ｈ_３９Ｏ_６Ｎ_２） 計算値：４８７．２８０８ 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-20.5°(C=1.0,EtOH) （参考例８９）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル 参考例８８で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
ドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（４０３mg) とＯ−ベンジルヒドロキシルアミンを参考
例１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物（４
６３mg）を得た。

【０２９１】C₃₈H₅₅O₇N₃(FW=665) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.88(3
H,t,J=6.6 Hz),0.94-2.45(24H,complex),1.42(9H,s),3.
21(1H,m),3.46(1H,m),4.23(1H,m),4.82(1H,d,J=11.2 H
z),4.87(1H,d,J=11.2 Hz),5.13(1H,d,J=12.5 Hz),5.20
(1H,d,J=12.5 Hz),5.24(1H,m),7.20-7.49(10H,comple
x),8.41(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3252(w),29
27(s),1733(s),1675(s) マススペクトル [M+H]⁺ =666 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =666.4136(C₃₈H₅₆O
₇N₃) 計算値：666.4118 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-36.2°(C=1.0,CHCl₃) （参考例９０）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキ
ソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例８９で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソドデシル〕−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（４５７mg）を参考例１３と同
様の反応処理により目的化合物（３７０mg）を得た。

【０２９２】C₃₄H₄₇O₇N₃(FW=609) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.88(3
H,t),0.96-1.38(16H,complex),1.38-1.69(3H,complex),
1.82-2.06(2H,complex),2.21-2.59(2H,complex),2.90-
3.18(3H,complex),4.11(1H,br.d,J=12.5 Hz),4.85(1H,b
r.s),4.89-5.08(3H,complex),5.17(1H,d,J=11.9 Hz),7.
02-7.51(11H,complex),12.32(1H,s) 赤外線吸収スペクトル(liquid kBr pellet):3231(w),29
26(s),1710(s),1672(s),1604(s) 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-28.1°(C=1.0,EtOH) （参考例９１）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（１−オキソ−４−フ
ェニルブチル）−２−オキサゾリジノン ４−（Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノン（6.
88ｇ）と４−フェニルブチロイルクロライド（6.88ｇ）
より参考例３と同様の反応処理により目的化合物（10.2
3 ｇ）を無色油状物として得た。

【０２９３】C₁₆H₂₁O₃N(FW=275) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.86(3
H,d,J=6.6 Hz),0.91(3H,d,J=6.6 Hz),1.85-2.21(2H,com
plex),2.36(1H,d,hep,J=6.6 and 4.0 Hz),2.69(2H,t,J=
7.9 Hz),2.91(1H,dt,J=17.2 and 7.3 Hz),3.02(1H,dt,J
=17.2 and 7.3Hz),4.18(1H,dd,J=8.6 and 4.0 Hz),4.24
(1H,t,J=8.6 Hz),4.41(1H,dt,J=8.6 and4.0 Hz),7.12-
7.36(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2964(m),17
81(s),1701(s) マススペクトル [M]⁺ =275 高分解能マススペクトル [M]⁺ =275.1507 (C₁₆H₂₁O₃N) 計算値：275.1522 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+60.6°(C=1.0,CHCl₃) （参考例９２）４−（Ｓ）−イソプロピル−３−（２−（Ｒ）−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１−オキソ−４−フェニルブ
チル）−２−オキサゾリジノン 参考例９１で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（１−オキソ−４−フェニルブチル）−２−オキサゾリ
ジノン（8.83ｇ）とブロモ酢酸ｔ−ブチルエステル（2
5.0ml）より参考例４と同様の反応処理により目的化合
物（7.35ｇ）を得た。

【０２９４】C₂₂H₃₁NO₅(FW=389) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):0.89(3
H,d,J=6.9 Hz),0.91(3H,d,J=6.9 Hz),1.42(9H,s),1.78
(1H,m),2.01(1H,m),2.35(1H,m),2.47(1H,dd,J=16.5 and
4.6Hz),2.57-2.74(2H,complex),2.81(1H,dd,J=16.5 an
d 9.9 Hz),4.08-4.37(4H,complex),7.11-7.32(5H,compl
ex) 赤外線吸収スペクトル(liquid kBr pellet):2978(w),17
67(s),1730(s),1691(s) マススペクトル [M]⁺ =389 高分解能マススペクトル [M]⁺ =389.2208 (C₂₂H₃₁O₅N) 計算値：389.2202 m.p. 64-66°(H₂O-MeOH) 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+51.6°(C=1.0,CHCl₃) （参考例９３）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニル−５−フェニル
ペンタン酸ｔ−ブチルエステル 参考例９２で得られた４−（Ｓ）−イソプロピル−３−
（２−（Ｒ）−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１−オ
キソ−４−フェニルブチル）−２−オキサゾリジノン
（5.11ｇ）より参考例６３と同様に反応処理し、目的化
合物（4.45ｇ）を得た。

【０２９５】C₂₃H₂₈O₄(FW=368) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):1.40(9
H,s),1.83(1H,m),1.97(1H,m),2.41(1H,dd,J=16.5 and
3.3 Hz),2.52-2.64(2H,complex),2.69(1H,dd,J=16.5 an
d 8.6 Hz),2.89(1H,m),5.11(1H,d,J=12.2 Hz),5.19(1H,
d,J=12.2 Hz),7.06-7.44(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2978(m),17
31(s),1604(w) マススペクトル [M]⁺ =368 高分解能マススペクトル [M]⁺ =368.1997(C₂₃H₂₈O₄) 計算値：368.1988 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+13.0°(C=4.2,CHCl₃) （参考例９４）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニル−５−フェニル
ペンタン酸 参考例９３で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニル−５−フェニルペンタン酸ｔ−ブチルエステル
（4.40ｇ）を参考例７と同様に反応処理し目的化合物
（3.17ｇ）を得た。

【０２９６】C₁₉H₂₀O₄(FW=312) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):1.77-
2.10(2H,complex),2.53(1H,dd,J=15.5 and 3.6 Hz),2.5
5-2.70(2H,complex),2.83(1H,dd,J=15.5 and 9.2 Hz),
2.92(1H,m),5.12(1H,d,J=12.5 Hz),5.18(1H,d,J=12.5 H
z),7.06-7.42(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3031(m),17
36(s),1710(s),1604(w) マススペクトル [M+H]⁺ =313 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =313.1462(C₁₉H₂₁O₄) 計算値：313.1440 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+16.0°(C=1.4,EtOH) （参考例９５）３−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニル−５−フェニル
ペンタン酸２，２，２−トリクロロエチルエステル 参考例９４で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニル−５−フェニルペンタン酸（3.13ｇ）とトリクロ
ロエタノール（4.3ml ）より参考例８と同様に反応処理
し、目的化合物（4.07ｇ）を得た。

【０２９７】C₂₁H₂₁O₄Cl₃(FW=442,Cl=35) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):1.80-
2.12(2H,complex),2.51-2.83(3H,complex),2.88-3.09(2
H,complex),4.66(1H,d,J=11.9 Hz),4.71(1H,d,J=11.9 H
z),5.12(1H,d,J=12.5 Hz),5.19(1H,d,J=12.5 Hz),7.04-
7.45(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2958(w),29
47(w),1754(s),1733(s) マススペクトル [M]⁺ =442 高分解能マススペクトル [M]⁺ =442.0498(C₂₁H₂₁O₄(35C
l)₃) 計算値：442.0505 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+9.8 °(C=3.1,CHCl₃) （参考例９６）２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチル−４−フェニル酪酸 参考例９５で得られた３−（Ｒ）−ベンジルオキシカル
ボニル−５−フェニルペンタン酸２，２，２−トリクロ
ロエチルエステル（4.01ｇ）を参考例９と同様に反応処
理し、目的化合物（2.54ｇ）を得た。

【０２９８】C₁₄H₁₅O₄Cl₃(FW=352,Cl=35) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):1.92(1
H,m),2.10(1H,m),2.56-2.80(3H,complex),2.83-3.08(2
H,complex),4.72(1H,d,J=12.2 Hz),4.78(1H,d,J=12.2 H
z),7.11-7.38(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,kBr pellet c
m ^-1):3221(m),2951(m),1754(s),1731(s),1694(s) マススペクトル [M]⁺ =352 高分解能マススペクトル [M]⁺ =352.0013(C₁₄H₁₅O₄(35C
l)₃) 計算値：352.0035 m.p. 59-61℃ (H₂O-MeOH) 比旋光度〔α〕_D ²⁶=+21.1°(C=1.7,Et0H) （参考例９７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチル−４−フェニルブチル〕−（Ｓ）−ピペ
ラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例９６で得られた２−（Ｒ）−（２，２，２−トリ
クロロエトキシカルボニル）メチル−４−フェニル酪酸
（３５３mg）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ¹
−ベンジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエ
ステル（２５８mg）を参考例１０に示した方法に従い反
応処理し、目的化合物（４９２mg）を得た。

【０２９９】C₃₁H₃₇O₇Cl₃(FW=654) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):1.42(9
H,s),1.47-2.19(6H,complex),2.31-2.60(2H,complex),
2.65(1H,dd,J=17.2 and 4.0 Hz),3.02(1H,dd,J=17.2 an
d 10.6 Hz),3.22(1H,m),3.38(1H,m),4.21(1H,m),4.63(1
H,d,J=11.9 Hz),4.78(1H,d,J=11.9 Hz),5.16(2H,s),5.2
7(1H,m),7.05-7.42(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2955(m),17
35(s),1676(s) マススペクトル [M+H]⁺ =655 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =655.1721(C₃₁H₃₈O₇N₂
(35Cl)₃) 計算値：655.1745 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-16.4°(C=1.0,CHCl₃) （参考例９８）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−カルボキシメチル−１−オキソ−４−フェニルブチ
ル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例９７で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔１−オキソ−２−（Ｒ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチル−４−フェニルブ
チル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（３
３０mg）を参考例１１に示した方法に従い反応処理し、
目的化合物（２３１mg）を得た。

【０３００】C₂₉H₃₆O₇N₂(FW=524) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):1.42(9
H,s),1.43-2.19(6H,complex),2.27-2.73(2H,complex),
2.52(1H,dd,J=17.2 and 3.6 Hz),2.88(1H,dd,J=17.2 an
d 10.6 Hz),3.02-3.47(2H,complex),4.20(1H,m),5.15(2
H,s),5.26(1H,br.dd,J=4.6 and 3.3 Hz),6.79-7.41(10
H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):2977(m),17
33(s),1676(s) マススペクトル [M]⁺ =524 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =525.2593(C₂₉H₃₇O
₇N₂) 計算値：525.2601 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-29.5°(C=1.0,EtOH) （参考例９９）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソ−４−フェニルブチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ
−ブチルエステル 参考例９８で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−カルボキシメチル−１−オキソ
−４−フェニルブチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブ
チルエステル（２２８mg）とＯ−ベンジルヒドロキシル
アミンを参考例１２に示した反応処理により縮合させ、
目的化合物（２６０mg）を得た。

【０３０１】C₃₆H₄₃O₇N₃(FW=629) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl₃, δ ppm):1.30-
2.78(10H,complex),1.42(9H,s),3.14-3.54(2H,comple
x),4.24(1H,m),4.83(1H,d,J=11.7 Hz),4.88(1H,d,J=11.
7 Hz),5.15(2H,s),5.26(1H,m),7.05-7.48(15H,comple
x),8.15(1H,m) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm ^-1):3252(w),29
77(m),1732(s),1672(s) マススペクトル [M+H]⁺ =630 高分解能マススペクトル [M+H]⁺ =630.3162(C₃₆H₄₄O
₇N₃) 計算値：６３０．３１７９ （参考例１００）Ｎ^１ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−
（Ｒ）−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−
１−オキソ−４−フェニルブチル〕−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸 参考例９９で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソ−４−フェニルブチル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（２６０mg）
を参考例１３と同様の反応処理により目的化合物（２３
０mg）を得た。不純物を含有していたが、精製すること
なく次の反応（実施例２０）に使用した。

【０３０２】（参考例１０１）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｒ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−４−メ
チル−１−オキソペンチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例４６で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ² −〔２−（Ｒ）−ベンジルオキシアミノカルボニ
ル）メチル−４−メチル−１−オキソペンチル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（４０１mg）
を参考例１３と同様の反応処理により目的化合物（３７
５mg）を得た。少量の不純物を含有していたが、精製す
ることなく次の工程（実施例３２及び３６）に使用し
た。

【０３０３】（参考例１０２）２−（Ｓ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボ
ニル）メチルヘプタン酸 ４−（Ｒ）−イソプロピル−２−オキサゾリジノンとヘ
プタノイルクロライドを出発原料とし対応するＲ配置化
合物の合成法（参考例３，４，５，６，７，８，９のル
ート）に従い目的化合物が合成された。

【０３０４】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.89(3H,t,J=6.5 Hz),1.18-1.47(6H,complex),1.47-
1.82(2H,complex),2.61(1H,dd,J=15.2 and 2.9 Hz),2.8
8(1H,dd,J=15.2 and 9.3 Hz),2.94(1H,m),4.72(1H,d,J=
12.0 Hz),4.79(1H,d,J=12.0Hz) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):1758(s),170
9(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=319.0261(C₁₁H₁₈O₄Cl₃) 計算値：319.0271 比旋光度〔α〕_D ²⁶=-11.2 (C=3.96) （参考例１０３）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔１−オキソ
−２−（Ｓ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチルヘプチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−
ブチルエステル 参考例１０２で得られた２−（Ｓ）−（２，２，２−ト
リクロロエトキシカルボニル）メチルヘプタン酸（４１
３mg）より得られた酸クロライドと（Ｓ）−Ｎ¹ −ベン
ジルオキシカルボニルピペラジン酸ｔ−ブチルエステル
（４２０mg）を参考例１０に示した方法に従い反応処理
し、目的化合物（６７５mg）を得た。

【０３０５】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.6 Hz),0.97-2.14(12H,complex),1.43
(3H,s),2.50(1H,dd,J=17.5 and 4.9 Hz),2.95(1H,dd,J=
17.5and 9.9 Hz),2.97(1H,m),3.28(1H,m),4.40(1H,m),
4.58(1H,d,J=12.5 Hz),4.85(1H,d,J=12.5 Hz),5.10(1H,
d,J=12.5 Hz),5.21(1H,d,J=12.5 Hz),5.29(1H,br.d,J=
4.3 Hz),7.22-7.42(5H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2931(m),173
5(s),1677(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=620.1833(C₂₈H₃₉N₂O₇ ³⁵Cl
₃) 計算値：620.1823 （参考例１０４）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｓ）
−カルボキシメチル−１−オキソヘプチル〕−（Ｓ）−
ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１０３で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニ
ル−Ｎ² −〔１−オキソ−２−（Ｓ）−（２，２，２−
トリクロロエトキシカルボニル）メチルヘプチル〕−
（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステル（６７０mg）
を参考例１１に示した方法に従い反応処理し、目的化合
物（４８９mg）を得た。

【０３０６】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.84(3H,t,J=6.6 Hz),0.94-2.17(12H,complex),1.42
(9H,s),2.37(1H,m),2.80-3.09(2H,complex),3.18(1H,
m),4.39(1H,m),5.00-5.36(3H,complex),7.18-7.42(5H,c
omplex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3190(w),293
2(s),1735(s),1679(s) 高分解能マススペクトル[M+H-H₂O]⁺=473.2672(C₂₆H₃₇N₂
O₆) 計算値：473.2652 （参考例１０５）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｓ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエス
テル 参考例１０４で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニ
ル−Ｎ² −〔２−（Ｓ）−カルボキシメチル−１−オキ
ソヘプチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸ｔ−ブチルエステ
ル（４８９mg）とＯ−ベンジルヒドロキシルアミンを参
考例１２に示した反応処理により縮合させ目的化合物
（４３２mg）を得た。

【０３０７】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.87(3H,t,J=6.6 Hz),0.93-2.38(14H,complex),1.42
(9H,s),2.81-3.32(2H,complex),4.32(1H,m),4.75-4.95
(2H,complex),5.10(1H,d,J=11.9 Hz),5.20(1H,d,J=11.9
Hz),5.27(1H,m),7.22-7.46(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3252(m),293
1(s),1735(s),1675(s) 高分解能マススペクトル[M+H]⁺=596.3327(C₃₃H₄₆N₃O₇) 計算値：596.3335 比旋光度［α］_D ²⁶ =+37.1°(C=1.00,EtOH) （参考例１０６）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −〔２−（Ｓ）
−（ベンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オ
キソヘプチル〕−（Ｓ）−ピペラジン酸 参考例１０５で得られたＮ¹ −ベンジルオキシカルボニ
ル−Ｎ² −〔２−（Ｓ）−（ベンジルオキシカルボニ
ル）メチル−１−オキソヘプチル〕−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸ｔ−ブチルエステル（３７７mg）を参考例１３と同
様の反応処理により目的化合物（３０１mg）を得た。

【０３０８】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.83(3H,t,J=5.8 Hz),0.97-2.20(15H,complex),3.14
(1H,m),4.24(1H,m),4.70-4.95(2H,br.s),5.02-5.33(3H,
complex),7.18-7.48(10H,complex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3230(w),294
0(m),1720(s),1655(s) 比旋光度［α］_D ²⁶ =+21.4°(C=1.0,EtOH) （参考例１０７）Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニル−Ｎ² −［１−オキソ
−２−（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカル
ボニル）メチル−４−メチルペンチル］−（Ｓ）−ピペ
ラジン酸ｔ−ブチルエステル 参考例１０の方法に従い、参考例４４で得られた２−
（Ｒ）−（２，２，２−トリクロロエトキシカルボニ
ル）メチル−４−メチルペンタン酸（４０５mg）と
（Ｓ）−Ｎ¹ −ベンジルオキシカルボニルピペラジン酸
ｔ−ブチルエステル（４２１mg）を出発原料として同様
の反応処理により目的化合物（６３２mg）を得た。

【０３０９】核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δpp
m):0.87(3H,d,J=6.6 Hz),0.94(3H,d,J=6.6 Hz),1.10-1.
71(4H,complex),1.43(9H,s),1.73-2.15(3H,complex),2.
62(1H,dd,J=17.2 and 3.8 Hz),2.91(1H,dd,J=17.2 and
10.9 Hz),3.23(1H,dd,J=10.5and 7.7 Hz),3.47(1H,dd,J
=12.2 and 9.7 Hz),4.28(1H,m),4.61(1H,d,J=12.5 Hz),
4.77(1H,d,J=12.5 Hz),5.14(1H,d,J=12.5 Hz),5.21(1H,
d,J=12.5 Hz),5.26(1H,t,J=4.3 Hz),7.27-7.42(5H,comp
lex) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):2960(m),173
5(s),1675(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=606.1664(C₂₇H₃₇N₂O₇ ³⁵Cl
₃) 計算値：606.1667 比旋光度［α］_D ²⁶ =-4.3 °（Ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ
_３） （参考例１０８）Ｎ^２ −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニ
ル）メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジ
ン酸（４Ｓ，５Ｓ）−［５−メチル−３−オキソヘ プタ
ン］−４−イルアミド 実施例１の方法に従い参考例１７で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジ
ルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチ
ル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４Ｓ，５Ｓ）−５−メチ
ル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド（６４mg）の
保護基を接触還元反応により除去し逆相シリカゲル分取
薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.25mm厚，
水：メタノール＝４：６展開，メタノール溶出）により
精製すると目的化合物（３５mg）を得られた。ヘキサン
−酢酸エチルより再結晶し融点６９−７２℃の白色結晶
を得た。

【０３１０】核磁気共鳴スペクトル(500MHz,CDCl₃,δpp
m):0.85(3H,t,J=6.7 Hz),0.87(3H,t,J=6.1 Hz),0.92(3
H,d,J=6.7 Hz)1.00-2.00(15H,complex),1.09(3H,t,J=7.
3 Hz),2.31(1H,dd,J=12.0 and 4.4 Hz),2.49(1H,br.t,J
=12.0 Hz),2.55(2H,q,J=7.3 Hz),2.83(1H,m),3.01(1H,b
r.d,J=12.8 Hz),3.95(1H,m),4.64(1H,dd,J=8.5 and 4.9
Hz),4.75(1H,br.d,J=12.8 Hz),5.31(1H,br.s),7.38(1
H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3303(m),171
4(m),1667(s),1626(s) 高分解能マススペクトル[M+2H-H₂O]⁺=424.3072(C₂₂H₄₀N
₄O₄) 計算値：424.3055 比旋光度［α］_D ²⁶ =-30.7°(C=1.01,EtOH) （参考例１０９）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸
（４Ｒ，５Ｒ）−５−メチル−３−オキソヘプタン−４
−イルアミド 実施例１の方法に従い参考例２０で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（２−ベ
ンジルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘ
プチル］−（Ｓ）−ピペラジン酸（４Ｒ，５Ｒ）−５−
メチル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド（３７m
g）の保護基を接触還元により除去しシリカゲル分取薄
層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm、0.5mm 厚、ク
ロロホルム：メタノール＝１５：１展開、酢酸エチル：
メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合
物（１９mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.77-0.93
(6H,complex),0.97(3H,d,J=6.6 Hz),1.06(3H,t,J=7.3 H
z),1.15-2.63(17H,complex),2.52(2H,q),2.70-3.19(2H,
complex),3.95(1H,m),4.47-4.73(2H,complex),5.25(1H,
s),6.81(1H,d,J=8.6 Hz),7.70-8.80(1H,br.s),9.54(1H,
br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3274(m),293
3(s),1718(m),1665(s),1628(s) マススペクトルm/z[M]⁺=440 高分解能マススペクトル[M-H₃NO]⁺=407.2791(C₂₂H₃₇N₃O
₄) 計算値：407.2784 比旋光度［α］_D ²⁶ =+2.7 °(C=0.99,EtOH) （参考例１１０）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ヒドロキシアミノカルボニル）
メチル−１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸
（４Ｓ，５Ｓ）−５−メチル−３−オキソヘプタン−４
−イルアミド 実施例１の方法に従い参考例３１で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（ベンジ
ルオキシアミノカルボニル）メチル−１−オキソヘプチ
ル］−（Ｒ）−ピペラジン酸（４Ｓ，５Ｓ）−５−メチ
ル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド（６７mg）の
保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取薄層ク
ロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，クロロ
ホルム：メタノール＝２０：１二重展開，酢酸エチル：
メタノール＝１０：１溶出）により精製すると目的化合
物（４１mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.80-0.92
(6H,complex),0.95(3H,d,J=6.6 Hz),1.06(3H,t,J=7.3 H
z),1.10-2.87(15H,complex),2.59(2H,q,J=7.3Hz),3.79
(1H,br.d,J=13.9 Hz),4.02(1H,m),4.35(1H,br.d,J=12.5
Hz),4.62(1H,dd,J=8.2,5.6 Hz),5.29(1H,d,J=3.3 Hz),
7.64(1H,d,J=17.9 Hz),9.43(1H,br,s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3270(s),293
3(s),1716(s),1650(s)1630(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=440.3032(C₂₂H₄₀N₄O₅) 計算値：440.3299 比旋光度［α］_D ²⁶ =+47.2°(C=1.00,EtOH) （参考例１１１）Ｎ² −［２−（Ｒ）−（２−ヒドロキシアミノ−２−オ
キソエチル）−１−オキソヘプチル］−（Ｒ）−ピペラ
ジン酸（４Ｒ，５Ｒ）−５−メチル−３−オキソヘプタ
ン−４−イルアミド 実施例１の方法に従い参考例３２で得られたＮ¹ −ベン
ジルオキシカルボニル−Ｎ² −［２−（Ｒ）−（２−ベ
ンジルオキシアミノ−２−オキソエチル）−１−オキソ
ヘプチル］−（Ｒ）−ピペラジン酸（４Ｒ，５Ｒ）−５
−メチル−３−オキソヘプタン−４−イルアミド（５４
mg）の保護基を接触還元により除去し、シリカゲル分取
薄層クロマトグラフィー（２０cm×２０cm，0.5mm 厚，
クロロホルム：メタノール＝２５：１三重展開，酢酸エ
チル：メタノール＝１０：１溶出）により目的化合物
（２９mg）が得られた。 核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl₃,δppm):0.78-0.99
(9H,complex),1.03(3H,t,J=7.3Hz),1.11-1.84(13H,comp
lex),2.18(1H,m),2.30-2.88(6H,complex),3.10(1H,br.
d,J=13.9 Hz),3.82(1H,d,J=12.5 Hz),4.19(1H,m),4.64
(1H,dd,J=8.6 and7.9 Hz),5.23(1H,d,J=4.0 Hz),7.18(1
H,br.d,J=8.6 Hz),7.79(1H,br.s),8.84(1H,br.s) 赤外線吸収スペクトル(liquid film,cm^-1):3275(m),294
5(m),1715(m),1655(s),1635(s) 高分解能マススペクトル[M]⁺=440.2991(C₂₂H₄₀N₄O₅) 計算値：440.2998 比旋光度［α］_D ²⁶ =+76.4°（Ｃ＝０．２８，ＥｔＯ
Ｈ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹沢 和比古 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ¹ は−ＯＲ³ 基（式中、Ｒ³ は水素原子又は
   炭素数１乃至４個のアルキル基を示す）−ＮＲ⁴ Ｒ⁵ 基
   （式中、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ は同一又は異なって水素原子、炭
   素数１乃至４個のアルキル基又は炭素数１乃至４個のア
   ルコキシ基を示す）、−ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＲ⁷ 基
   （式中、Ｒ⁶ は水素原子又は炭素数１乃至４個のアルキ
   ル基を示し、Ｒ⁷ は炭素数１乃至４個のアルキル基を示
   す）、−ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＯＲ⁸ 基（式中、Ｒ⁶ は
   前述のものと同意義を示し、Ｒ⁸ は炭素数１乃至４個の
   アルキル基を示す）又は−ＮＨＣＨ（Ｒ⁶ ）ＣＯＮＲ⁹
   Ｒ¹⁰基（式中、Ｒ⁶ は前述のものと同意義を示し、Ｒ⁹
   及びＲ¹⁰は同一又は異なって水素原子若しくは炭素数１
   乃至４個のアルキル基を示すか又はＮＲ⁹ Ｒ¹⁰が一緒に
   なって複素環基を示す）を示し、Ｒ² は水素原子、炭素
   数３乃至１６個のアルキル基又は置換されていてもよい
   フェニルと炭素数１乃至４個のアルキルからなるアラル
   キル基を示す。）を示す。但し、Ｒ¹ が−ＮＨＣＨ（Ｒ
   ^6a）ＣＯＲ^7a基（式中、Ｒ^6aとＲ^7aの組み合わせはイソ
   ブチルとメチル基又はエチルとｓｅｃ−ブチル基であ
   る）であり、Ｒ² がペンチル基である化合物を除く。］
   を有する化合物。
2. 【請求項２】請求項１に記載の化合物を有効成分とする
   血管新生抑制剤、癌浸潤抑制剤又は癌転移抑制剤。