JPH05190599A - 半導体装置の組立方法 - Google Patents

半導体装置の組立方法

Info

Publication number
JPH05190599A
JPH05190599A JP4001255A JP125592A JPH05190599A JP H05190599 A JPH05190599 A JP H05190599A JP 4001255 A JP4001255 A JP 4001255A JP 125592 A JP125592 A JP 125592A JP H05190599 A JPH05190599 A JP H05190599A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
cream solder
electrode
circuit board
bump
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4001255A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3257011B2 (ja
Inventor
Yoshifumi Kitayama
喜文 北山
Takahiko Yagi
能彦 八木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP00125592A priority Critical patent/JP3257011B2/ja
Publication of JPH05190599A publication Critical patent/JPH05190599A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3257011B2 publication Critical patent/JP3257011B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/113Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector
    • H01L2224/1133Manufacturing methods by local deposition of the material of the bump connector in solid form
    • H01L2224/1134Stud bumping, i.e. using a wire-bonding apparatus
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/11Manufacturing methods
    • H01L2224/118Post-treatment of the bump connector
    • H01L2224/1182Applying permanent coating, e.g. in-situ coating
    • H01L2224/11822Applying permanent coating, e.g. in-situ coating by dipping, e.g. in a solder bath
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341Surface mounted components
    • H05K3/3431Leadless components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3485Applying solder paste, slurry or powder

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 受動部品、パッケージIC等の部品を搭載し
ても簡単に実装できる半導体装置の組立方法を提供する
ことを目的とする。 【構成】 半導体装置1のAl電極2上に凸形の2段形
状を有するバンプ5を形成する工程と、5μm以下の粒
子からなるクリーム半田7を前記バンプ5に転写する工
程と、回路基板8上の前記半導体装置1の電極2に対す
る電極9に前記半導体装置1を搭載する工程と、前記ク
リーム半田7を再溶融する工程からなる方法とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置を回路基板
上にバンプを介して接合するための組立方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体装置は多ピン化、大型化す
る傾向にある。そのため、パッケージした半導体装置を
回路基板に実装するよりも裸の半導体装置を直接基板に
フェースダウンで実装するクリップチップIC実装が注
目されている。
【0003】従来のクリップチップIC実装の一例につ
いて図3を参照しながら説明する。図に示すように、半
導体装置21のAl電極22上に真空装着あるいはスパ
ッタリングによってTi,Ptなどのバリアメタル23
を2層以上形成したのち、電気メッキ法によってバリア
メタル23上にAuバンプ24を形成する。一方回路基
板25上に形成した電極26上にクリーム半田27をス
クリーン印刷によって形成する。
【0004】その後、回路基板25の電極26と半導体
装置21のAl電極22とを位置合わせして、半導体装
置21を回路基板25上に搭載したのち、リフロー炉に
よってクリーム半田27を再溶融させ、半導体装置21
のAuバンプ24と回路基板25上の電極26を接合さ
せていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の方法
では、半導体装置21以外の受動部品、パッケージIC
等が搭載されるときに、クリーム半田27の印刷厚みを
変更する必要があった。そのため、クリーム半田27の
印刷を2回に分けなければならないという問題があっ
た。
【0006】また、実装した半導体装置21が不良の場
合には、リペアする必要があり、リペア時にクリーム半
田27を再び供給する必要があるが、スクリーン印刷法
では困難であるという問題があった。
【0007】本発明は上記課題を解決するもので、受動
部品、パッケージIC等の部品を搭載しても簡単に実装
できる方法およびリペア方法のできる半導体装置の組立
方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の組
立方法は上記目的を達成するために、第1の手段は、半
導体装置の電極上に凸形の2段形状を有するバンプを形
成する工程と、5μm以下の粒子からなるクリーム半田
を前記バンプに転写する工程と、回路基板上の前記半導
体装置の電極に対応する電極部に、前記半導体装置を搭
載する工程と、前記クリーム半田を再溶融させる工程と
からなる方法とする。
【0009】また、第2の手段は、不良の半導体装置を
再溶融させて回路基板より除去する工程と、クリーム半
田を転写した半導体装置を前記回路基板に搭載する工程
と、前記クリーム半田を再溶融させる工程とからなる方
法とする。
【0010】
【作用】本発明は上記した第1手段の方法により、クリ
ーム半田の転写が容易になるとともに、バンプ形状を凸
形の2段形状にしているため十分な量のクリーム半田を
転写することができることとなる。
【0011】また、第2手段の方法により、リペアの際
には半導体装置のAuバンプ側にクリーム半田が転写さ
れているため、簡単にリペアができることとなる。
【0012】
【実施例】(実施例1)以下、本発明の第1実施例につ
いて図1を参照しながら説明する。図1(a)に示すよ
うに、半導体装置1上のAl電極2にボールボンディン
グ手法によって、キャピラリー3を介し、Auワイヤ4
によって凸形の2段形状のAuバンプ5を形成する。
【0013】次に図1(b)に示すように、転写皿6に
5μm以下の形状のクリーム半田7を均一な厚みに形成
した後、Auバンプ5を形成した半導体装置1を反転し
てクリーム半田7上に乗せてクリーム半田7をAuバン
プ5にのみ選択的に転写させる。その後図1(c)に示
すように回路基板8上の電極9に半導体装置1を搭載し
てクリーム半田7を再溶融させる。
【0014】このように本発明の第1実施例の半導体装
置の組立方法によれば、Auバンプ5を凸形形状に形成
するとともに、クリーム半田7の粒径を5μm以下とし
ているので、Auバンプ5にのみ選択的にショートする
ことなくクリーム半田7を転写することができることと
なる。
【0015】(実施例2)以下、本発明の第2実施例に
ついて図2を参照しながら説明する。図2(a)に示す
ように半導体装置10が不良の場合、真空孔11を設け
た加熱ツール12により、不良の半導体装置10のみを
半田13の再溶融現象を利用して回路基板14上の電極
15により除去する。次に図2(b)に示すように、良
品の半導体装置10aのAl電極16上のAuバンプ1
7にクリーム半田18を形成したのち、回路基板14上
の電極15のリペア後残った半田19の上に良品の半導
体装置10aを搭載してリペアを行う。
【0016】このように本発明の第2実施例の半導体装
置の組立方法によれば、不良の半導体装置10を再溶融
させて除去し、新しい半導体装置10aのAuバンプ1
7にあらかじめクリーム半田18を形成しておくことに
より簡単にリペアができることとなる。
【0017】なお、第1実施例および第2実施例におい
て、Auバンプ5および17はボールボンディングで形
成したが電気メッキで形成しても良いことはいうまでも
ない。
【0018】
【発明の効果】以上の実施例から明らかなように、本発
明によればバンプを凸形の2段形状にしたことと、5μ
m以下のクリーム半田を用いることによって、十分な量
のクリーム半田を安定してバンプに転写することができ
る。
【0019】また、加熱ツールによって簡単に半田を溶
融させて不良の半導体装置を除去できるとともに、あら
かじめ半導体装置のバンプにクリーム半田が供給できる
ため、簡単にリペアを行うことができる半導体装置の組
立方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)本発明の第1実施例の半導体装置の組立
方法のAuバンプの形成状態を示す断面図 (b)同第1実施例のクリーム半田をAuバンプに転写
させる状態を示す断面図 (c)同第1実施例の電極に半導体装置を搭載してクリ
ーム半田を再溶融させる状態を示す断面図
【図2】(a)同第2実施例の不良の半導体装置を除去
する状態を示す断面図 (b)同第2実施例の良品の半導体装置を搭載する状態
を示す断面図
【図3】従来の半導体装置の組立方法を示す断面図
【符号の説明】
1,10 半導体装置 2,16 Al電極 5,17 Auバンプ 7,18 クリーム半田 8,14 回路基板 9,15 電極 12 加熱ツール

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体装置の電極上に凸形の2段形状を有
    するバンプを形成する工程と、5μm以下の粒子からな
    るクリーム半田を前記バンプに転写する工程と、回路基
    板上の前記半導体装置の電極に対応する電極部に前記半
    導体装置を搭載する工程と、前記クリーム半田を再溶融
    する工程とからなる半導体装置の組立方法。
  2. 【請求項2】不良の半導体装置を再溶融させて回路基板
    より除去する工程と、クリーム半田を転写した半導体装
    置を前記回路基板に搭載する工程と、前記クリーム半田
    を再溶融する工程とからなる半導体装置の組立方法。
JP00125592A 1992-01-08 1992-01-08 半導体装置の組立方法 Expired - Fee Related JP3257011B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP00125592A JP3257011B2 (ja) 1992-01-08 1992-01-08 半導体装置の組立方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP00125592A JP3257011B2 (ja) 1992-01-08 1992-01-08 半導体装置の組立方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05190599A true JPH05190599A (ja) 1993-07-30
JP3257011B2 JP3257011B2 (ja) 2002-02-18

Family

ID=11496352

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP00125592A Expired - Fee Related JP3257011B2 (ja) 1992-01-08 1992-01-08 半導体装置の組立方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3257011B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07142488A (ja) * 1993-11-15 1995-06-02 Nec Corp バンプ構造及びその製造方法並びにフリップチップ実装 構造
JP2003298167A (ja) * 2002-03-29 2003-10-17 Toshiba Corp 光半導体装置
WO2004105120A1 (ja) * 2003-05-20 2004-12-02 Fujitsu Limited Lsiパッケージ及びlsi素子の試験方法及び半導体装置の製造方法
CN100353499C (zh) * 1996-10-01 2007-12-05 松下电器产业株式会社 半导体元件及其制造方法,半导体器件及其制造方法
JP2011014565A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Fujitsu Ltd マルチチップモジュールおよびプリント基板ユニット並びに電子機器

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07142488A (ja) * 1993-11-15 1995-06-02 Nec Corp バンプ構造及びその製造方法並びにフリップチップ実装 構造
CN100353499C (zh) * 1996-10-01 2007-12-05 松下电器产业株式会社 半导体元件及其制造方法,半导体器件及其制造方法
JP2003298167A (ja) * 2002-03-29 2003-10-17 Toshiba Corp 光半導体装置
WO2004105120A1 (ja) * 2003-05-20 2004-12-02 Fujitsu Limited Lsiパッケージ及びlsi素子の試験方法及び半導体装置の製造方法
US7145250B2 (en) 2003-05-20 2006-12-05 Fujitsu Limited LSI package, LSI element testing method, and semiconductor device manufacturing method
CN100394571C (zh) * 2003-05-20 2008-06-11 富士通株式会社 Lsi插件及lsi元件的试验方法和半导体器件的制造方法
JP2011014565A (ja) * 2009-06-30 2011-01-20 Fujitsu Ltd マルチチップモジュールおよびプリント基板ユニット並びに電子機器

Also Published As

Publication number Publication date
JP3257011B2 (ja) 2002-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06188290A (ja) マルチチップモジュールをアセンブルするための方法及び装置
JPH05211205A (ja) チップ接続構造体
US20070269973A1 (en) Method of providing solder bumps using reflow in a forming gas atmosphere
US5973406A (en) Electronic device bonding method and electronic circuit apparatus
WO1997018584A1 (fr) Procede de formation de bosse de contact sur un dispositif a semi-conducteurs
JPH06151701A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH06124953A (ja) 半導体装置のバンプ形成方法
JP2928484B2 (ja) Icチップの試験のための方法および装置
JPH05190599A (ja) 半導体装置の組立方法
US5505367A (en) Method for bumping silicon devices
JPH04225542A (ja) 半導体装置
JPH03187228A (ja) 半田バンプの形成方法
JP2881088B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH01209736A (ja) 半導体素子の交換方法
JPH05218136A (ja) フリップチップ・ボンディング方法
Puttlitz et al. Solder transfer technique for flip-chip and electronic assembly applications
JPH08316619A (ja) プリント配線板及びその製造方法
JPH05190552A (ja) 半導体装置及びその製造方法
US20240332233A1 (en) Method of bonding column type deposits
JPH05259167A (ja) 半導体装置
JPH0669640A (ja) 半田バンプ形成方法
JPH0730014A (ja) 半田バンプの形成方法
JP2006313929A (ja) フリップチップ型icの製造方法、および、フリップチップ型ic実装回路基板の製造方法
JPS61206234A (ja) 感熱記録ヘツドのicチツプリペア方法
JPH05121488A (ja) ベアチツプ実装基板

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071207

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081207

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees