JPH05180816A - インジェクタ - Google Patents
インジェクタInfo
- Publication number
- JPH05180816A JPH05180816A JP35908191A JP35908191A JPH05180816A JP H05180816 A JPH05180816 A JP H05180816A JP 35908191 A JP35908191 A JP 35908191A JP 35908191 A JP35908191 A JP 35908191A JP H05180816 A JPH05180816 A JP H05180816A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- heater
- temperature
- injector
- temperature sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Devices For Use In Laboratory Experiments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 急速な加熱と高温時の温度調節をバランス良
く取ることの出来るインジェクタを提供すること。 【構成】 試料気化室３を包含する加熱ブロック１と、
該加熱ブロックの前記試料気化室の回りに配置される制
御加熱用ヒ−タ２及び補助加熱用ヒ−タ４と、前記加熱
ブロック内に設置された温度センサ５と、これら制加熱
用ヒ−タと補助加熱用ヒ−タ及び温度センサ等を接続す
ると共に該温度センサで感知した温度により前記制御加
熱用ヒ−タ或いは補助加熱用ヒ−タの通電状態を制御す
る中央演算処理装置６と、より成るインジェクタ。
く取ることの出来るインジェクタを提供すること。 【構成】 試料気化室３を包含する加熱ブロック１と、
該加熱ブロックの前記試料気化室の回りに配置される制
御加熱用ヒ−タ２及び補助加熱用ヒ−タ４と、前記加熱
ブロック内に設置された温度センサ５と、これら制加熱
用ヒ−タと補助加熱用ヒ−タ及び温度センサ等を接続す
ると共に該温度センサで感知した温度により前記制御加
熱用ヒ−タ或いは補助加熱用ヒ−タの通電状態を制御す
る中央演算処理装置６と、より成るインジェクタ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、試料の化学分析で使
用されるガスクロマトグラフの加熱気化室を備えたイン
ジェクタに関し、より詳しくは試料を急速に加熱気化さ
せ高温時の温度調節精度を良くすることの出来るインジ
ェクタに関する。
用されるガスクロマトグラフの加熱気化室を備えたイン
ジェクタに関し、より詳しくは試料を急速に加熱気化さ
せ高温時の温度調節精度を良くすることの出来るインジ
ェクタに関する。
【０００２】
【従来の技術】ガスクロマトグラフ、特にキャピラリカ
ラムを用いるガスクロマトグラフでは炭化水素類をイン
ジェクタの試料気化室で気化させ、気化試料の一部を試
料気化室内にその端部を位置させたキャピラリカラムへ
導入し、他の大部分の試料はスプリット流路より排出す
る試料導入方法が用いられる。更に、炭素数の多い高沸
点の炭化水素類を分析する場合にはインジェクタの試料
気化室には室温に近い液体試料を導入し、急速に加熱気
化させてカラムへ移送する方法が効果的である。そして
前記試料気化室の周囲には小熱容量を有する気化室本体
と電力の大きいヒ−タを設置した加熱ブロックとを配置
し、急速に加熱気化させる構成にしてあることが多い。
ラムを用いるガスクロマトグラフでは炭化水素類をイン
ジェクタの試料気化室で気化させ、気化試料の一部を試
料気化室内にその端部を位置させたキャピラリカラムへ
導入し、他の大部分の試料はスプリット流路より排出す
る試料導入方法が用いられる。更に、炭素数の多い高沸
点の炭化水素類を分析する場合にはインジェクタの試料
気化室には室温に近い液体試料を導入し、急速に加熱気
化させてカラムへ移送する方法が効果的である。そして
前記試料気化室の周囲には小熱容量を有する気化室本体
と電力の大きいヒ−タを設置した加熱ブロックとを配置
し、急速に加熱気化させる構成にしてあることが多い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記する従来の加熱気
化室においては急速な加熱は実現しやすいが、気化試料
の沸点は種々異なっているため均質な混合気化試料を得
るためにも温度調節は精度良くする必要がある。しかし
図３に示すように、高温領域では温度の変動が大きく温
度調節する際の精度が悪化する温度領域が存在する。こ
れは従来の加熱ブロックを有するインジェクタの構成で
は加熱と放熱とのバランスが取りにくいことによるため
と考えられる。この発明はかかる課題に鑑みてなされた
ものであり、その目的とする所は急速な加熱と高温時の
温度調節をバランス良く取ることの出来るインジェクタ
を提供することにある。
化室においては急速な加熱は実現しやすいが、気化試料
の沸点は種々異なっているため均質な混合気化試料を得
るためにも温度調節は精度良くする必要がある。しかし
図３に示すように、高温領域では温度の変動が大きく温
度調節する際の精度が悪化する温度領域が存在する。こ
れは従来の加熱ブロックを有するインジェクタの構成で
は加熱と放熱とのバランスが取りにくいことによるため
と考えられる。この発明はかかる課題に鑑みてなされた
ものであり、その目的とする所は急速な加熱と高温時の
温度調節をバランス良く取ることの出来るインジェクタ
を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち、この発明は上記す
る課題を解決するために、インジェクタが、試料気化室
を包含する加熱ブロックと、該加熱ブロックの前記試料
気化室の回りに配置される制御加熱用ヒ−タ及び補助加
熱用ヒ−タと、前記加熱ブロック内に設置された温度セ
ンサと、これら制加熱用ヒ−タと補助加熱用ヒ−タ及び
温度センサ等を接続すると共に該温度センサで感知した
温度により前記制御加熱用ヒ−タ或いは補助加熱用ヒ−
タの通電状態を制御する中央演算処理装置と、より成る
ことを特徴とする。
る課題を解決するために、インジェクタが、試料気化室
を包含する加熱ブロックと、該加熱ブロックの前記試料
気化室の回りに配置される制御加熱用ヒ−タ及び補助加
熱用ヒ−タと、前記加熱ブロック内に設置された温度セ
ンサと、これら制加熱用ヒ−タと補助加熱用ヒ−タ及び
温度センサ等を接続すると共に該温度センサで感知した
温度により前記制御加熱用ヒ−タ或いは補助加熱用ヒ−
タの通電状態を制御する中央演算処理装置と、より成る
ことを特徴とする。
【０００５】
【作用】上記手段としたこの発明にかかるインジェクタ
の作用を添付図の符号を用いて説明する。即ち、加熱ブ
ロック１を急速加熱し所定の高温状態になると補助加熱
用ヒ−タ４は通電を停止し、温度センサ５で加熱ブロッ
ク１の温度を測定しつつ制御加熱用ヒ−タ２の通電状態
をＣＰＵ６でＯＮ、ＯＦＦさせて所定温度を維持するよ
うに制御する。このような制御方法によれば、図２に示
すように、高温時における微妙な温度バランスが取りや
すく且つ必要な温度領域における精度を維持することが
出来る。
の作用を添付図の符号を用いて説明する。即ち、加熱ブ
ロック１を急速加熱し所定の高温状態になると補助加熱
用ヒ−タ４は通電を停止し、温度センサ５で加熱ブロッ
ク１の温度を測定しつつ制御加熱用ヒ−タ２の通電状態
をＣＰＵ６でＯＮ、ＯＦＦさせて所定温度を維持するよ
うに制御する。このような制御方法によれば、図２に示
すように、高温時における微妙な温度バランスが取りや
すく且つ必要な温度領域における精度を維持することが
出来る。
【０００６】
【実施例】以下、この発明の具体的実施例について図面
を参照して説明する。図１はこの発明にかかるインジェ
クタの縦断面図である。１は加熱ブロックであって中央
部に試料気化室３を包含するように配置してある。該加
熱ブロック１はアルミニウム等の熱伝達率の良い金属で
製作され前記試料気化室３の回りに制御加熱用ヒ−タ２
と、補助加熱用ヒ−タ４とが配置されている。更に該加
熱ブロック１内には温度センサ（白金感熱体或いは熱電
対等）５が設置され、これら制御加熱用ヒ−タ２と補助
加熱用ヒ−タ４及び温度センサ５等はガスクロマトグラ
フの中央演算処理装置（ＣＰＵ）６に接続される。こう
して前記温度センサ５により温度を感知して必要高温状
態が制御される。即ち、急速加熱時には制御加熱用ヒ−
タ２と補助加熱用ヒ−タ４とは共に通電状態とし、所定
温度に達した時点で制御加熱用ヒ−タ２をＣＰＵ６によ
り温度制御するようにしてある。尚、比較的低温での温
度制御を行う場合には前記補助加熱用ヒ−タ４には通電
しないで制御加熱用ヒ−タ２のみで温度制御を行う。
を参照して説明する。図１はこの発明にかかるインジェ
クタの縦断面図である。１は加熱ブロックであって中央
部に試料気化室３を包含するように配置してある。該加
熱ブロック１はアルミニウム等の熱伝達率の良い金属で
製作され前記試料気化室３の回りに制御加熱用ヒ−タ２
と、補助加熱用ヒ−タ４とが配置されている。更に該加
熱ブロック１内には温度センサ（白金感熱体或いは熱電
対等）５が設置され、これら制御加熱用ヒ−タ２と補助
加熱用ヒ−タ４及び温度センサ５等はガスクロマトグラ
フの中央演算処理装置（ＣＰＵ）６に接続される。こう
して前記温度センサ５により温度を感知して必要高温状
態が制御される。即ち、急速加熱時には制御加熱用ヒ−
タ２と補助加熱用ヒ−タ４とは共に通電状態とし、所定
温度に達した時点で制御加熱用ヒ−タ２をＣＰＵ６によ
り温度制御するようにしてある。尚、比較的低温での温
度制御を行う場合には前記補助加熱用ヒ−タ４には通電
しないで制御加熱用ヒ−タ２のみで温度制御を行う。
【０００７】この発明にかかるインジェクタの構成は以
上のようであるが、次にその作用について説明する。即
ち、加熱ブロック１を急速加熱し所定の高温状態になる
と補助加熱用ヒ−タ４は通電を停止し、温度センサ５で
加熱ブロック１の温度を測定しつつ制御加熱用ヒ−タ２
の通電状態をＣＰＵ６でＯＮ、ＯＦＦさせて所定温度を
維持するように制御するのである。このような制御方法
によれば、図２に示すように、高温時における微妙な温
度バランスが取りやすく且つ必要な温度領域における精
度を維持することが出来る。
上のようであるが、次にその作用について説明する。即
ち、加熱ブロック１を急速加熱し所定の高温状態になる
と補助加熱用ヒ−タ４は通電を停止し、温度センサ５で
加熱ブロック１の温度を測定しつつ制御加熱用ヒ−タ２
の通電状態をＣＰＵ６でＯＮ、ＯＦＦさせて所定温度を
維持するように制御するのである。このような制御方法
によれば、図２に示すように、高温時における微妙な温
度バランスが取りやすく且つ必要な温度領域における精
度を維持することが出来る。
【０００８】この発明にかかるインジェクタの一実施例
は以上のとおりであるが、更に補助加熱用ヒ−タ４の数
を増やし比較的低い高温域、比較的高い高温領域、これ
らの中間程度の高温領域と分け、それぞれの領域で補助
加熱用ヒ−タの通電状態もＣＰＵ６により制御して高温
時の加熱炉内の温度制御を行うようにしても良い。
は以上のとおりであるが、更に補助加熱用ヒ−タ４の数
を増やし比較的低い高温域、比較的高い高温領域、これ
らの中間程度の高温領域と分け、それぞれの領域で補助
加熱用ヒ−タの通電状態もＣＰＵ６により制御して高温
時の加熱炉内の温度制御を行うようにしても良い。
【０００９】
【発明の効果】この発明にかかるインジェクタは以上詳
述したような構成としたので簡単な構成により急速加熱
と高温領域での精度の良い温度調節を実現することが出
来る。このように高温領域での精度の良い温度調節が可
能になると沸点の高い試料の混合状態も均質にしやすく
それだけ精度の良い分析が可能となる。
述したような構成としたので簡単な構成により急速加熱
と高温領域での精度の良い温度調節を実現することが出
来る。このように高温領域での精度の良い温度調節が可
能になると沸点の高い試料の混合状態も均質にしやすく
それだけ精度の良い分析が可能となる。
【図１】この発明にかかるインジェクタの縦断面図であ
る。
る。
【図２】この発明にかかるインジェクタに試料を導入し
所定温度に達した場合の加熱量の変動状態を示す図であ
る。
所定温度に達した場合の加熱量の変動状態を示す図であ
る。
【図３】従来のインジェクタに試料を導入し所定温度に
達した場合の加熱量の変動状態を示す図である。
達した場合の加熱量の変動状態を示す図である。
１ 加熱ブロック ２ 制御加熱用ヒ−タ ３ 試料気化室 ４ 補助加熱用ヒ−タ ５ 温度センサ ６ 中央演算処理装置
（ＣＰＵ）
（ＣＰＵ）
Claims (1)
- 【請求項１】試料気化室を包含する加熱ブロックと、該
加熱ブロックの前記試料気化室の回りに配置される制御
加熱用ヒ−タ及び補助加熱用ヒ−タと、前記加熱ブロッ
ク内に設置された温度センサと、これら制加熱用ヒ−タ
と補助加熱用ヒ−タ及び温度センサ等を接続すると共に
該温度センサで感知した温度により前記制御加熱用ヒ−
タ或いは補助加熱用ヒ−タの通電状態を制御する中央演
算処理装置と、より成るインジェクタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35908191A JPH05180816A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | インジェクタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35908191A JPH05180816A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | インジェクタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05180816A true JPH05180816A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=18462648
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35908191A Pending JPH05180816A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | インジェクタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05180816A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022254523A1 (ja) * | 2021-05-31 | 2022-12-08 | 株式会社島津製作所 | 試料気化ユニット及びガスクロマトグラフ |
-
1991
- 1991-12-27 JP JP35908191A patent/JPH05180816A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022254523A1 (ja) * | 2021-05-31 | 2022-12-08 | 株式会社島津製作所 | 試料気化ユニット及びガスクロマトグラフ |
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