JPH0517216A - 圧電セラミツクス - Google Patents
圧電セラミツクスInfo
- Publication number
- JPH0517216A JPH0517216A JP3194938A JP19493891A JPH0517216A JP H0517216 A JPH0517216 A JP H0517216A JP 3194938 A JP3194938 A JP 3194938A JP 19493891 A JP19493891 A JP 19493891A JP H0517216 A JPH0517216 A JP H0517216A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grain size
- porosity
- piezoelectric ceramics
- pbo
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 経時変化が小さく、エネルギー閉じ込め可能
な圧電素子用圧電セラミックスを提供することを目的と
する。 【構成】 PbO、TiO2 、ZrO2 からなり平均結
晶粒径が0.3〜0.5μm 、最大粒径が1μm 以下で
かつ気孔率が2%である圧電セラミックス。
な圧電素子用圧電セラミックスを提供することを目的と
する。 【構成】 PbO、TiO2 、ZrO2 からなり平均結
晶粒径が0.3〜0.5μm 、最大粒径が1μm 以下で
かつ気孔率が2%である圧電セラミックス。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、経時変化を小さくした
高周波数対応のフィルターや発振子として適する圧電セ
ラミックス、例えば、エネルギー閉じ込め形厚み振動を
生じさせる素子に用いる圧電セラミックスに関する。
高周波数対応のフィルターや発振子として適する圧電セ
ラミックス、例えば、エネルギー閉じ込め形厚み振動を
生じさせる素子に用いる圧電セラミックスに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、圧電セラミックス素子の原料とし
ては、チタン酸ジルコン酸鉛系の種々のものが知られて
いる。例えば、PbO、NiO、Nb2 O5 、Ti
O2 、ZrO2 からなる原料粉体がある。これらの原料
粉体からなる圧電セラミックス素子は、原料粉体を混合
して仮焼し、粒度調整して平均粒径を2〜3μm 、気孔
率を2%以下にしている。これは、結晶粒径を0.3〜
0.5μm とすると、気孔率が5%前後と多くなりエネ
ルギー閉じ込めができなくなるからであった。
ては、チタン酸ジルコン酸鉛系の種々のものが知られて
いる。例えば、PbO、NiO、Nb2 O5 、Ti
O2 、ZrO2 からなる原料粉体がある。これらの原料
粉体からなる圧電セラミックス素子は、原料粉体を混合
して仮焼し、粒度調整して平均粒径を2〜3μm 、気孔
率を2%以下にしている。これは、結晶粒径を0.3〜
0.5μm とすると、気孔率が5%前後と多くなりエネ
ルギー閉じ込めができなくなるからであった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の圧電セラミックスからなる圧電素子では、気孔率が
2%以下で平均粒径が2〜3μm の圧電素子では、経時
変化が0.5%/time decade 程度と大きい。この変化
はフィルターや発振子として加工した後でその周波数が
初期の値から大きく変動してしまうため問題となってい
る。
来の圧電セラミックスからなる圧電素子では、気孔率が
2%以下で平均粒径が2〜3μm の圧電素子では、経時
変化が0.5%/time decade 程度と大きい。この変化
はフィルターや発振子として加工した後でその周波数が
初期の値から大きく変動してしまうため問題となってい
る。
【0004】本発明は上記の従来技術の有する問題点に
鑑みてなされたもので、経時変化が小さく、エネルギー
閉じ込め可能な圧電素子用の圧電セラミックスを提供す
ることを目的とする。
鑑みてなされたもので、経時変化が小さく、エネルギー
閉じ込め可能な圧電素子用の圧電セラミックスを提供す
ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的のため、本発明
に係る圧電セラミックスはPbO、TiO2 、ZrO2
からなる原料粉体を混合して仮焼し、微粉砕して平均結
晶粒径が0.3〜0.5μm 、最大粒径が1μm 以下で
かつ気孔率が2%以下であることを特徴とする。本発明
において、平均結晶粒径を0.3〜0.5μm 、最大結
晶粒径を1μm以下としたのは、平均結晶粒径を0.3
μm 未満にすると、気孔率を抑えることができず、エネ
ルギー閉じ込めができない。平均結晶粒径が0.5μm
を超えると経時変化が大きくなる。気孔率を2%以下に
限定したのは、2%を超えるとエネルギー閉じ込めがで
き難くなるからである。
に係る圧電セラミックスはPbO、TiO2 、ZrO2
からなる原料粉体を混合して仮焼し、微粉砕して平均結
晶粒径が0.3〜0.5μm 、最大粒径が1μm 以下で
かつ気孔率が2%以下であることを特徴とする。本発明
において、平均結晶粒径を0.3〜0.5μm 、最大結
晶粒径を1μm以下としたのは、平均結晶粒径を0.3
μm 未満にすると、気孔率を抑えることができず、エネ
ルギー閉じ込めができない。平均結晶粒径が0.5μm
を超えると経時変化が大きくなる。気孔率を2%以下に
限定したのは、2%を超えるとエネルギー閉じ込めがで
き難くなるからである。
【0006】
【作用】本発明は、上記のように構成したので、Pb
O、TiO2 、ZrO2 からなる圧電セラミックスにお
いて、スリップキャスティング方法を用いることにより
平均結晶粒径が0.3〜0.5μm で気孔率が2%以下
にでき、これによりエネルギー閉じ込めができるように
なり、強度が強くでき、薄い素子のフィルターが作れ
る。
O、TiO2 、ZrO2 からなる圧電セラミックスにお
いて、スリップキャスティング方法を用いることにより
平均結晶粒径が0.3〜0.5μm で気孔率が2%以下
にでき、これによりエネルギー閉じ込めができるように
なり、強度が強くでき、薄い素子のフィルターが作れ
る。
【0007】
【実施例】以下、実施例を説明する。実施例1 原料粉体を、PbO、NiO、Nb2 O5 、TiO2、
ZrO2 の粉体をPb{(Ni1/3 Nb2/3)0.07 Ti
0.48 Zr0.45}O3 で表される組成の成分比に秤量
(約300g)したものを混合、乾燥の後700〜90
0℃で2時間仮焼した。これを粉砕し、粉砕条件(時
間、メディア種)を変えて平均粒子径0.2μm の粉末
を作製した。これにバインダーと水を加えてスラリーを
作り、スリップキャスティングにより試料の成形を行っ
た。
ZrO2 の粉体をPb{(Ni1/3 Nb2/3)0.07 Ti
0.48 Zr0.45}O3 で表される組成の成分比に秤量
(約300g)したものを混合、乾燥の後700〜90
0℃で2時間仮焼した。これを粉砕し、粉砕条件(時
間、メディア種)を変えて平均粒子径0.2μm の粉末
を作製した。これにバインダーと水を加えてスラリーを
作り、スリップキャスティングにより試料の成形を行っ
た。
【0008】比較例1 比較のため、平均粒子径1.0μm の粉末を用いた以外
は上記実施例1と同様にしてスリップキャスティングに
より成形を行った。比較例2 上記実施例1のスラリーを乾燥、整粒後、乾式プレスに
より成形を行った。比較例3 同様に、上記比較例1のスラリーを乾燥、整粒後、乾式
プレスにより成形を行った。上記4種の成形体を117
0〜1200℃で焼成した。焼成後得られた磁器の両主
面に電極を形成し、50〜80℃の絶縁油中において2
〜3KV/mmの電圧で30分間分極処理した。得られた圧
電性磁器について、それぞれ誘電率(εr)、エネルギ
ー閉じ込め縦振動の電気機械結合係数(Kt)を測定し
た。その結果を表1に示した。この結果から明らかなよ
うに、本実施例によれば、電気機械結合係数(Kt)の
経時変化が0.12%/time decade 以下と小さい。
は上記実施例1と同様にしてスリップキャスティングに
より成形を行った。比較例2 上記実施例1のスラリーを乾燥、整粒後、乾式プレスに
より成形を行った。比較例3 同様に、上記比較例1のスラリーを乾燥、整粒後、乾式
プレスにより成形を行った。上記4種の成形体を117
0〜1200℃で焼成した。焼成後得られた磁器の両主
面に電極を形成し、50〜80℃の絶縁油中において2
〜3KV/mmの電圧で30分間分極処理した。得られた圧
電性磁器について、それぞれ誘電率(εr)、エネルギ
ー閉じ込め縦振動の電気機械結合係数(Kt)を測定し
た。その結果を表1に示した。この結果から明らかなよ
うに、本実施例によれば、電気機械結合係数(Kt)の
経時変化が0.12%/time decade 以下と小さい。
【0009】
【表1】
【0010】
【発明の効果】本発明によれば、経時変化が少なく、エ
ネルギー閉じ込め型の素子を作ることができる。また、
強度が強いためワレカケ不良を低減することができる。
ネルギー閉じ込め型の素子を作ることができる。また、
強度が強いためワレカケ不良を低減することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 PbO、TiO2 、ZrO2 からなり平
均結晶粒径が0.3〜0.5μm 、最大粒径が1μm 以
下でかつ気孔率が2%以下であることを特徴とする圧電
セラミックス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3194938A JPH0517216A (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | 圧電セラミツクス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3194938A JPH0517216A (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | 圧電セラミツクス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0517216A true JPH0517216A (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=16332837
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3194938A Pending JPH0517216A (ja) | 1991-07-08 | 1991-07-08 | 圧電セラミツクス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0517216A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06112542A (ja) * | 1992-08-12 | 1994-04-22 | Daishinku Co | 圧電セラミックスおよび圧電セラミックスの製造方法およびセラミックス振動子ならびに圧電トランス |
US5657063A (en) * | 1993-02-22 | 1997-08-12 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Ink jet apparatus |
EP1367036A3 (en) * | 2002-05-30 | 2006-09-27 | TDK Corporation | Piezoelectric ceramic production method and piezoelectric element production method |
JP2011099497A (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Titecs Japan:Kk | 複合制振材料、制振部材及び制振フィルム |
-
1991
- 1991-07-08 JP JP3194938A patent/JPH0517216A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06112542A (ja) * | 1992-08-12 | 1994-04-22 | Daishinku Co | 圧電セラミックスおよび圧電セラミックスの製造方法およびセラミックス振動子ならびに圧電トランス |
US5657063A (en) * | 1993-02-22 | 1997-08-12 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Ink jet apparatus |
EP1367036A3 (en) * | 2002-05-30 | 2006-09-27 | TDK Corporation | Piezoelectric ceramic production method and piezoelectric element production method |
JP2011099497A (ja) * | 2009-11-05 | 2011-05-19 | Titecs Japan:Kk | 複合制振材料、制振部材及び制振フィルム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3259678B2 (ja) | 圧電磁器組成物 | |
JPH11228227A (ja) | 圧電磁器組成物 | |
JPH10297969A (ja) | 圧電磁器組成物 | |
JP6919236B2 (ja) | 圧電組成物及び圧電素子 | |
JPH0517216A (ja) | 圧電セラミツクス | |
JP2884635B2 (ja) | 圧電セラミックスおよびその製造方法 | |
JP3125624B2 (ja) | 圧電磁器 | |
JP2006265055A (ja) | 圧電セラミックスの製造方法 | |
JP2884631B2 (ja) | 圧電セラミックスとその製造方法 | |
US4024081A (en) | Ferroelectric ceramic compositions | |
JPH09278535A (ja) | セラミックスの製造方法 | |
JP4355115B2 (ja) | 圧電磁器および圧電素子 | |
JP2570662B2 (ja) | 強誘電性磁器体 | |
JPH05139825A (ja) | チタン酸鉛系圧電磁器の製造方法 | |
JPH09221359A (ja) | 圧電磁器組成物 | |
JP4179029B2 (ja) | 圧電セラミックの製造方法 | |
JP4467168B2 (ja) | 圧電磁器および圧電素子 | |
JP3117247B2 (ja) | 圧電磁器の製造方法 | |
JPH07206519A (ja) | 圧電磁器 | |
JPH07315924A (ja) | 圧電磁器組成物 | |
JPH0826824A (ja) | 圧電磁器組成物およびその製造方法 | |
JP2768068B2 (ja) | Pzt圧電板の製造方法 | |
JPH03232755A (ja) | 圧電磁器の製造方法 | |
JPH03115167A (ja) | 圧電セラミックス | |
JP2001089232A (ja) | 磁器組成物 |