JPH05170705A - ラジカル重合性２官能（メタ）アクリレート - Google Patents
ラジカル重合性２官能（メタ）アクリレートInfo
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- JPH05170705A JPH05170705A JP34150991A JP34150991A JPH05170705A JP H05170705 A JPH05170705 A JP H05170705A JP 34150991 A JP34150991 A JP 34150991A JP 34150991 A JP34150991 A JP 34150991A JP H05170705 A JPH05170705 A JP H05170705A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 産業上有用な新規な（メタ）アクリレートを
提供する。 【構成】 一般式 【化１】 （式中Ｒ1 はＨまたはＣＨ3 、ｌは０または１、ｍは２
〜４、ｎは２〜１２である）で示されるラジカル重合性
２官能（メタ）アクリレート。
提供する。 【構成】 一般式 【化１】 （式中Ｒ1 はＨまたはＣＨ3 、ｌは０または１、ｍは２
〜４、ｎは２〜１２である）で示されるラジカル重合性
２官能（メタ）アクリレート。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なラジカル重合性
２官能（メタ）アクリレートに関する。
２官能（メタ）アクリレートに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、多官能の（メタ）アクリレートは
一般に重合体原料に使用され、すでに種々の化合物が知
られている。例えば、ヘキサンジオールジ（メタ）アク
リレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート
などの脂肪族（メタ）アクリレートモノマー、ビスフェ
ノールＡジグリシジル（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノールＡポリエトキシ（メタ）アクリレートなどの芳香
族（メタ）アクリレートが挙げられる。
一般に重合体原料に使用され、すでに種々の化合物が知
られている。例えば、ヘキサンジオールジ（メタ）アク
リレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート
などの脂肪族（メタ）アクリレートモノマー、ビスフェ
ノールＡジグリシジル（メタ）アクリレート、ビスフェ
ノールＡポリエトキシ（メタ）アクリレートなどの芳香
族（メタ）アクリレートが挙げられる。
【０００３】上記記載の脂肪族及び芳香族（メタ）アク
リレートの重合体又は共重合体は、一般に電子部品材
料、光学材料、歯科材料、各種高分子の架橋材料等に使
用される。しかし、脂肪族系（メタ）アクリレートは、
一般に重合性に優れるものの強度、耐久性が低く、芳香
族系（メタ）アクリレートはその欠点をある程度改善す
る事ができたものの未だ満足の出来るものではなかっ
た。
リレートの重合体又は共重合体は、一般に電子部品材
料、光学材料、歯科材料、各種高分子の架橋材料等に使
用される。しかし、脂肪族系（メタ）アクリレートは、
一般に重合性に優れるものの強度、耐久性が低く、芳香
族系（メタ）アクリレートはその欠点をある程度改善す
る事ができたものの未だ満足の出来るものではなかっ
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題に
鑑み、重合体又は共重合体の物理的強度、耐久性に優れ
たモノマー材料を提供することを目的とする。
鑑み、重合体又は共重合体の物理的強度、耐久性に優れ
たモノマー材料を提供することを目的とする。
【０００５】
【問題を解決するための手段】即ち、本発明は、一般式
【０００６】
【化２】
【０００７】（式中Ｒ1 は−Ｈまたは−ＣＨ3 、ｌは０
または１、ｍは２〜４、ｎは２〜１２である。）で示さ
れるラジカル重合性２官能（メタ）アクリレートであ
る。
または１、ｍは２〜４、ｎは２〜１２である。）で示さ
れるラジカル重合性２官能（メタ）アクリレートであ
る。
【０００８】本発明で提供する上記（メタ）アクリレー
トは上記一般式で示されるものであればよいが、特に良
好なものを具体的に例示すると次ぎのものである。
トは上記一般式で示されるものであればよいが、特に良
好なものを具体的に例示すると次ぎのものである。
【０００９】
【化３】
【００１０】
【化４】
【００１１】前記一般式で示される本発明の（メタ）ア
クリレートは常温、常圧で白色固体であり、アルコー
ル、テトラヒドロフラン、アセトンなどの通常の有機溶
媒に可溶であるが水には不溶である。
クリレートは常温、常圧で白色固体であり、アルコー
ル、テトラヒドロフラン、アセトンなどの通常の有機溶
媒に可溶であるが水には不溶である。
【００１２】本発明の（メタ）アクリレートは、以下
（ａ）〜（ｄ）のような方法で分析を行い確認すること
が出来る。
（ａ）〜（ｄ）のような方法で分析を行い確認すること
が出来る。
【００１３】（ａ） 赤外吸収スペクトル（Ｉ．Ｒ） 本発明の前記一般式で示される（メタ）アクリレートを
Ｉ．Ｒ．分析すると、（メタ）アクリレートのカルボニ
ル基の吸収が１７１８ｃｍ-1に、二重結合による吸収が
１６４０ｃｍ-1に、ビフェニル基に直接結合したカルボ
ニル基の吸収が１７３０ｃｍ-1に、ウレタン結合のカル
ボニル基の吸収が１６４０ｃｍ-1に現われる。又、ベン
ゼン環に基づく吸収が１６０８ｃｍ-1に現われる。
Ｉ．Ｒ．分析すると、（メタ）アクリレートのカルボニ
ル基の吸収が１７１８ｃｍ-1に、二重結合による吸収が
１６４０ｃｍ-1に、ビフェニル基に直接結合したカルボ
ニル基の吸収が１７３０ｃｍ-1に、ウレタン結合のカル
ボニル基の吸収が１６４０ｃｍ-1に現われる。又、ベン
ゼン環に基づく吸収が１６０８ｃｍ-1に現われる。
【００１４】従って、Ｉ．Ｒ．分析によってメタクリル
基、ビフェニル基、ビフェニル基に直結したカルボニル
基、ウレタン結合の有無についての確認ができる。
基、ビフェニル基、ビフェニル基に直結したカルボニル
基、ウレタン結合の有無についての確認ができる。
【００１５】（ｂ） 1Ｈ核磁気共鳴スペクトル 1 Ｈの化学シフトを調べる事によって生成物を同定する
ことが出来る。本発明の化合物についての具体的な同定
については後述する実施例で述べるが、本発明の化合物
が何であるかは 1Ｈ核磁気共鳴スペクトルで確認するこ
とができる。
ことが出来る。本発明の化合物についての具体的な同定
については後述する実施例で述べるが、本発明の化合物
が何であるかは 1Ｈ核磁気共鳴スペクトルで確認するこ
とができる。
【００１６】（ｃ） 質量スペクトル フィールドイオン−質量スペクトル法を用いて前記一般
式で示される（メタ）アクリレートを測定することによ
り分子イオンピークＭ+ を確認することができる。
式で示される（メタ）アクリレートを測定することによ
り分子イオンピークＭ+ を確認することができる。
【００１７】（ｄ） 元素分析 本発明の（メタ）アクリレートの同定は、前記 1Ｈ核磁
気共鳴スペクトルで判明するが、該化合物におけるＨ、
Ｃ、Ｎ各元素の理論計算値と実際に得られる化合物との
各元素分析結果を比較することにより更に明確な同定が
可能となる。
気共鳴スペクトルで判明するが、該化合物におけるＨ、
Ｃ、Ｎ各元素の理論計算値と実際に得られる化合物との
各元素分析結果を比較することにより更に明確な同定が
可能となる。
【００１８】以上（ａ）〜（ｄ）に述べたような分析手
段で本発明の（メタ）アクリレートを同定することがで
きる。
段で本発明の（メタ）アクリレートを同定することがで
きる。
【００１９】本発明の（メタ）アクリレートは、前記し
たように新規物質であり、ポリマーの一般的な原料とし
て広く利用できる。
たように新規物質であり、ポリマーの一般的な原料とし
て広く利用できる。
【００２０】上記化合物は、中心骨格に剛直なビフェニ
ル構造を持ち、その両端にアルキレンのフレキシブルな
構造を有するためモノマー間で配向性を示し、その結果
得られたポリマーが従来よりも高強度となる。
ル構造を持ち、その両端にアルキレンのフレキシブルな
構造を有するためモノマー間で配向性を示し、その結果
得られたポリマーが従来よりも高強度となる。
【００２１】本発明の（メタ）アクリレートの製法は特
に限定されず如何なる方法で製造してもよい。一般に好
適に採用しうる代表的な製法を挙げると次のような方法
である。
に限定されず如何なる方法で製造してもよい。一般に好
適に採用しうる代表的な製法を挙げると次のような方法
である。
【００２２】本発明の（メタ）アクリレートの代表的な
製造方法を以下に説明する。先ず一般式（１） ＨＯ−（ＣＨ2 ）n −ＯＨ （１） で表されるアルキルジオールと（メタ）アクリル酸クロ
ライドあるいは、一般式（２）
製造方法を以下に説明する。先ず一般式（１） ＨＯ−（ＣＨ2 ）n −ＯＨ （１） で表されるアルキルジオールと（メタ）アクリル酸クロ
ライドあるいは、一般式（２）
【００２３】
【化５】
【００２４】（式中Ｒ2 は−Ｈあるいは−ＣＨ3 、ｍ＝
２〜４）で表されるイソシアナートアルキル（メタ）ア
クリレートを反応させて下記式（３）の化合物を得る。
２〜４）で表されるイソシアナートアルキル（メタ）ア
クリレートを反応させて下記式（３）の化合物を得る。
【００２５】
【化６】
【００２６】（式中Ｒは−Ｈ、−ＣＨ3 、ｌはＣまたは
１、ｍ＝２〜４、ｎ＝２〜１２である）この化合物と下
記式（４）の化合物を適当な塩基性触媒下で反応させて
前記一般式で示される新規化合物の（メタ）アクリレー
トが得られる。
１、ｍ＝２〜４、ｎ＝２〜１２である）この化合物と下
記式（４）の化合物を適当な塩基性触媒下で反応させて
前記一般式で示される新規化合物の（メタ）アクリレー
トが得られる。
【００２７】
【化７】
【００２８】製造方法についてさらに具体的に説明する
とまず、（メタ）アクリル酸クロライドあるいは、前記
一般式（２）で表されるイソシアナートアルキル（メ
タ）アクリレートを（メタ）アクリル酸クロライドの場
合ピリジン、トリエチルアミン等の塩基性触媒下で、イ
ソシアナートアルキル（メタ）アクリレートの場合ジブ
チル錫ラウレートを触媒として、前記一般式（１）で表
されるジオールと無溶媒下、あるいはテトラヒドロフラ
ン（ＴＨＦ）、クロロホルム、ベンゼン等適当な溶媒中
で氷冷下攪拌しながら１時間反応させ、その後室温まで
徐々に温度を上げさらに１〜２時間反応を行う。反応終
了後、余剰のジオールを水洗により除去して前記一般式
（３）の化合物を得る。さらにこの化合物と前記一般式
（４）の化合物をピリジン、トリエチルアミン等の塩基
性触媒下で反応させた後、アルコール、エーテル等適宜
溶媒を用いて再結晶を繰り返すことにより前記一般式で
示される本発明の（メタ）アクリレートが得られる。
とまず、（メタ）アクリル酸クロライドあるいは、前記
一般式（２）で表されるイソシアナートアルキル（メ
タ）アクリレートを（メタ）アクリル酸クロライドの場
合ピリジン、トリエチルアミン等の塩基性触媒下で、イ
ソシアナートアルキル（メタ）アクリレートの場合ジブ
チル錫ラウレートを触媒として、前記一般式（１）で表
されるジオールと無溶媒下、あるいはテトラヒドロフラ
ン（ＴＨＦ）、クロロホルム、ベンゼン等適当な溶媒中
で氷冷下攪拌しながら１時間反応させ、その後室温まで
徐々に温度を上げさらに１〜２時間反応を行う。反応終
了後、余剰のジオールを水洗により除去して前記一般式
（３）の化合物を得る。さらにこの化合物と前記一般式
（４）の化合物をピリジン、トリエチルアミン等の塩基
性触媒下で反応させた後、アルコール、エーテル等適宜
溶媒を用いて再結晶を繰り返すことにより前記一般式で
示される本発明の（メタ）アクリレートが得られる。
【００２９】本発明の（メタ）アクリレートは、それ自
身単独で重合させて強度の優れた材料となりえるが、反
応性希釈剤として他のモノマーと共重合させても優れた
特性を示す。従って本発明の（メタ）アクリレートは重
合体を得るためのモノマーとして優れた原料となる。例
えば本発明の（メタ）アクリレートは、単独あるいは他
のモノマーで希釈し無機フィラーおよび触媒を添加し
て、歯科用充填材などに使う事ができる。その場合従来
のモノマーに比べ２割以上の強度向上が可能である。
身単独で重合させて強度の優れた材料となりえるが、反
応性希釈剤として他のモノマーと共重合させても優れた
特性を示す。従って本発明の（メタ）アクリレートは重
合体を得るためのモノマーとして優れた原料となる。例
えば本発明の（メタ）アクリレートは、単独あるいは他
のモノマーで希釈し無機フィラーおよび触媒を添加し
て、歯科用充填材などに使う事ができる。その場合従来
のモノマーに比べ２割以上の強度向上が可能である。
【００３０】
【実施例】本発明を具体的に説明するために以下実施例
を挙げて説明するが本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
を挙げて説明するが本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
【００３１】実施例１ １００ｍｌのナス型フラスコに４，４′ビフェニルジカ
ルボニルクロリド２．７９ｇ（０．０１ｍｏｌ）、テト
ラヒドロフラン７０ｍｌ、ジ−ｔｅｒブチルメチルフェ
ノール０．００１ｇを加え、攪拌しながらヒドロキシエ
チルメタクリレート２．８６ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、
ピリジン１．５８ｇ（０．０２ｍｏｌ）のテトラヒドロ
フラン５ｍｌ溶液を０．５時間攪拌した後、３時間加熱
還流した。反応液をろ過し、テトラヒドロフランを除去
した後、得られた固体をエタノールにて再結晶すること
により目的とする下記構造式の白色結晶２．３ｇを得
た。収率は、４９．６％であった。
ルボニルクロリド２．７９ｇ（０．０１ｍｏｌ）、テト
ラヒドロフラン７０ｍｌ、ジ−ｔｅｒブチルメチルフェ
ノール０．００１ｇを加え、攪拌しながらヒドロキシエ
チルメタクリレート２．８６ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、
ピリジン１．５８ｇ（０．０２ｍｏｌ）のテトラヒドロ
フラン５ｍｌ溶液を０．５時間攪拌した後、３時間加熱
還流した。反応液をろ過し、テトラヒドロフランを除去
した後、得られた固体をエタノールにて再結晶すること
により目的とする下記構造式の白色結晶２．３ｇを得
た。収率は、４９．６％であった。
【００３２】得られた反応生成物の赤外吸収スペクトル
によれば、３４００ｃｍ-1付近のＯＨ基に基因する吸収
が消失し１７３０ｃｍ-1にフェニル基に直結したカルボ
ン酸エステルのカルボニル基による吸収が観察された。
又、メタクリレートのカルボニル基およびＣ＝Ｃの吸収
が１７１８ｃｍ-1と１６３６ｃｍ-1に、ビフェニル基の
吸収が１６０８ｃｍ-1に観察された。
によれば、３４００ｃｍ-1付近のＯＨ基に基因する吸収
が消失し１７３０ｃｍ-1にフェニル基に直結したカルボ
ン酸エステルのカルボニル基による吸収が観察された。
又、メタクリレートのカルボニル基およびＣ＝Ｃの吸収
が１７１８ｃｍ-1と１６３６ｃｍ-1に、ビフェニル基の
吸収が１６０８ｃｍ-1に観察された。
【００３３】次に、生成物の 1Ｈ核磁気共鳴スペクトル
を用いて同定を行った。結果は以下の通りである。
を用いて同定を行った。結果は以下の通りである。
【００３４】
【化８】
【００３５】（ａ）＝５．５１，６．０７ｐｐｍ（ダブ
レット(doblet)、４Ｈ） （ｂ）＝１．９３ｐｐｍ（シングレット (singlet)、６
Ｈ） （ｃ）＋（ｄ）＝４．５７ｐｐｍ（シングレット (sing
let)、８Ｈ） （ｅ）＋（ｆ）＝７．６３〜８．２２ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） 更にまた生成物の質量分析スペクトルによりｍ／ｅ＝４
６６の分子イオンピークが観察された。
レット(doblet)、４Ｈ） （ｂ）＝１．９３ｐｐｍ（シングレット (singlet)、６
Ｈ） （ｃ）＋（ｄ）＝４．５７ｐｐｍ（シングレット (sing
let)、８Ｈ） （ｅ）＋（ｆ）＝７．６３〜８．２２ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） 更にまた生成物の質量分析スペクトルによりｍ／ｅ＝４
６６の分子イオンピークが観察された。
【００３６】更にまた生成物の元素分析の結果を以下に
示す。
示す。
【００３７】
【表１】
【００３８】これらの結果より反応生成物は、
【００３９】
【化９】
【００４０】であることが確認できた。
【００４１】実施例２ ３００ｍｌの三つ口フラスコに、１，６−ヘキサンジオ
ール２９．７ｇ（０．２５１ｍｏｌ）、トリエチレルア
ミン１０５．６ｇ（０．１０４ｍｏｌ）、テトラヒドロ
フラン２００ｍｌを加え、氷冷下メタクリル酸クロリド
１０９ｇ（０．１０４ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後
４０℃に加熱し、１５時間反応させた。生じた沈澱物を
炉別した後、炉液を濃縮し、水とベンゼンを加えて抽出
洗浄した。有機層を濃縮し、ｎ−ヘキサンで洗浄した後
さらに濃縮して６−メタクリロキシヘキサノール１を得
た。収率は５２％であった。
ール２９．７ｇ（０．２５１ｍｏｌ）、トリエチレルア
ミン１０５．６ｇ（０．１０４ｍｏｌ）、テトラヒドロ
フラン２００ｍｌを加え、氷冷下メタクリル酸クロリド
１０９ｇ（０．１０４ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後
４０℃に加熱し、１５時間反応させた。生じた沈澱物を
炉別した後、炉液を濃縮し、水とベンゼンを加えて抽出
洗浄した。有機層を濃縮し、ｎ−ヘキサンで洗浄した後
さらに濃縮して６−メタクリロキシヘキサノール１を得
た。収率は５２％であった。
【００４２】別の１００ｍｌのナス型フラスコに４，
４′ビフェニルジカルボニルクロリド２．７９ｇ（０．
０１ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン７０ｍｌ、ジ−ｔｅ
ｒブチルメチルフェノール０．００１ｇを加え、攪拌し
ながら前記で得た６−メタクリロキシヘキサノール４．
９２ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、ピリジン１．５８ｇ
（０．０２ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５ｍｌ溶液を
加え、０．５時間攪拌した後、３時間加熱還流した。反
応液をろ過し、テトラヒドロフランを除去した後、得ら
れた固体をエタノールにて再結晶することにより下記構
造の白色結晶２．５１ｇを得た。収率は、３３．３％で
あった。
４′ビフェニルジカルボニルクロリド２．７９ｇ（０．
０１ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン７０ｍｌ、ジ−ｔｅ
ｒブチルメチルフェノール０．００１ｇを加え、攪拌し
ながら前記で得た６−メタクリロキシヘキサノール４．
９２ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、ピリジン１．５８ｇ
（０．０２ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５ｍｌ溶液を
加え、０．５時間攪拌した後、３時間加熱還流した。反
応液をろ過し、テトラヒドロフランを除去した後、得ら
れた固体をエタノールにて再結晶することにより下記構
造の白色結晶２．５１ｇを得た。収率は、３３．３％で
あった。
【００４３】この生成物の赤外吸収スペクトルは実施例
１と同様な吸収を示した。次に生成物の 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルを用いて同定を行った。
１と同様な吸収を示した。次に生成物の 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルを用いて同定を行った。
【００４４】結果は、次の通りであった。
【００４５】
【化１０】
【００４６】（ａ）＝５．５２，６．０８ｐｐｍ（ダブ
レット(doblet)、４Ｈ） （ｂ）＝１．９３ｐｐｍ（シングレット (singlet)、６
Ｈ） （ｃ）＋（ｅ）＝４．０７〜４．３５ｐｐｍ（マルチプ
レット (multiplet)、８Ｈ） （ｄ）＝１．５３〜１．７９ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、１６Ｈ） （ｆ）＋（ｇ）＝７．６１〜８．２０ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） 更にまた生成物の元素分析の結果は以下に示す通りであ
った。
レット(doblet)、４Ｈ） （ｂ）＝１．９３ｐｐｍ（シングレット (singlet)、６
Ｈ） （ｃ）＋（ｅ）＝４．０７〜４．３５ｐｐｍ（マルチプ
レット (multiplet)、８Ｈ） （ｄ）＝１．５３〜１．７９ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、１６Ｈ） （ｆ）＋（ｇ）＝７．６１〜８．２０ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） 更にまた生成物の元素分析の結果は以下に示す通りであ
った。
【００４７】
【表２】
【００４８】また、生成物の質量分析スペクトルにより
ｍ／ｅ＝５７８の分子イオンピークが観察された。
ｍ／ｅ＝５７８の分子イオンピークが観察された。
【００４９】以上の結果より反応生成物が上記構造式で
示されるメタクリレートであることが確認できた。
示されるメタクリレートであることが確認できた。
【００５０】実施例３ ３００ｍｌの三つ口フラスコに、１，１０−デカンジオ
ール６．３５ｇ（０．０２５１ｍｏｌ）、トリエチレル
アミン１０．５６ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）、テトラヒ
ドロフラン２００ｍｌを加え、氷冷下メタクリル酸クロ
リド１０９ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）滴下した。滴下終
了後４０℃に加熱し、１５時間反応させた。生じた沈澱
物を炉別した後、炉液を濃縮し、水とベンゼンを加えて
抽出洗浄した。有機層を濃縮し、ｎ−ヘキサンで洗浄し
た後さらに濃縮して１０−メタクリロキシヘキサノール
を得た。収率は５２％であった。
ール６．３５ｇ（０．０２５１ｍｏｌ）、トリエチレル
アミン１０．５６ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）、テトラヒ
ドロフラン２００ｍｌを加え、氷冷下メタクリル酸クロ
リド１０９ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）滴下した。滴下終
了後４０℃に加熱し、１５時間反応させた。生じた沈澱
物を炉別した後、炉液を濃縮し、水とベンゼンを加えて
抽出洗浄した。有機層を濃縮し、ｎ−ヘキサンで洗浄し
た後さらに濃縮して１０−メタクリロキシヘキサノール
を得た。収率は５２％であった。
【００５１】別の１００ｍｌのナス型フラスコに４，
４′ビフェニルジカルボニルクロリド２．７９ｇ（０．
０１ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン７０ｍｌ、ジｔｅｒ
ブチルメチルフェノール０．００１ｇを加え、攪拌しな
がら上記で得られた１０−メタクリロキシヘキサノール
２．８６ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、ピリジン１．５８ｇ
（０．０２ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５ｍｌ溶液を
加え０．５時間攪拌した後、３時間加熱還流した。反応
液をろ過し、テトラヒドロフランを除去した後、得られ
た固体をエタノールにて再結晶することにより下記構造
式の白色結晶３．４４ｇを得た。収率は、３９．７％で
あった。
４′ビフェニルジカルボニルクロリド２．７９ｇ（０．
０１ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン７０ｍｌ、ジｔｅｒ
ブチルメチルフェノール０．００１ｇを加え、攪拌しな
がら上記で得られた１０−メタクリロキシヘキサノール
２．８６ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、ピリジン１．５８ｇ
（０．０２ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５ｍｌ溶液を
加え０．５時間攪拌した後、３時間加熱還流した。反応
液をろ過し、テトラヒドロフランを除去した後、得られ
た固体をエタノールにて再結晶することにより下記構造
式の白色結晶３．４４ｇを得た。収率は、３９．７％で
あった。
【００５２】この生成物の赤外吸収スペクトルは実施例
１と同様な吸収を示した。次に生成物の 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルを用いて同定を行った。
１と同様な吸収を示した。次に生成物の 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルを用いて同定を行った。
【００５３】結果は次の通りであった。
【００５４】
【化１１】
【００５５】（ａ）＝５．５３，６．０９ｐｐｍ（ダブ
レット(doblet)、４Ｈ） （ｂ）＝１．９４ｐｐｍ（シングレット (singlet)、６
Ｈ） （ｃ）＋（ｅ）＝４．１０〜４．３９ｐｐｍ（マルチプ
レット (multiplet)、８Ｈ） （ｄ）＝１．５１〜１．７９ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、３２Ｈ） （ｆ）＋（ｇ）＝７．６１〜８．２１ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） 更にまた生成物の元素分析の結果は以下に示す通りであ
った。
レット(doblet)、４Ｈ） （ｂ）＝１．９４ｐｐｍ（シングレット (singlet)、６
Ｈ） （ｃ）＋（ｅ）＝４．１０〜４．３９ｐｐｍ（マルチプ
レット (multiplet)、８Ｈ） （ｄ）＝１．５１〜１．７９ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、３２Ｈ） （ｆ）＋（ｇ）＝７．６１〜８．２１ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） 更にまた生成物の元素分析の結果は以下に示す通りであ
った。
【００５６】
【表３】
【００５７】また、生成物の質量分析スペクトルにより
ｍ／ｅ＝６９０の分子イオンピークが観察された。
ｍ／ｅ＝６９０の分子イオンピークが観察された。
【００５８】以上の結果より反応生成物が上記構造式で
示されるメタクリレートであることが確認できた。
示されるメタクリレートであることが確認できた。
【００５９】実施例４ ３００ｍｌの三つ口フラスコに、１，６−ヘキサンジオ
ール２９．７ｇ（０．０２５１ｍｏｌ）、トリエチレル
アミン１０．５６ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）、テトラヒ
ドロフラン２００ｍｌを加え、氷冷下アクリル酸クロリ
ド１０．９ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）滴下した。滴下終
了後４０℃に加熱し、１５時間反応させた。生じた沈澱
物を炉別した後、炉液を濃縮し、水とベンゼンを加えて
抽出洗浄した。有機層を濃縮し、ｎ−ヘキサンで洗浄し
た後さらに濃縮して６−アクリロキシヘキサノール１を
得た。収率は５２％であった。
ール２９．７ｇ（０．０２５１ｍｏｌ）、トリエチレル
アミン１０．５６ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）、テトラヒ
ドロフラン２００ｍｌを加え、氷冷下アクリル酸クロリ
ド１０．９ｇ（０．０１０４ｍｏｌ）滴下した。滴下終
了後４０℃に加熱し、１５時間反応させた。生じた沈澱
物を炉別した後、炉液を濃縮し、水とベンゼンを加えて
抽出洗浄した。有機層を濃縮し、ｎ−ヘキサンで洗浄し
た後さらに濃縮して６−アクリロキシヘキサノール１を
得た。収率は５２％であった。
【００６０】別の１００ｍｌのナス型フラスコに４，
４′ビフェニルジカルボニルクロリド２．７９ｇ（０．
０１ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン７０ｍｌ、ジｔｅｒ
ブチルメチルフェノール０．００１ｇを加え、攪拌しな
がら上記で得られた６−アクリロキシヘキサノール２．
８６ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、ピリジン１．５８ｇ
（０．０２ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５ｍｌ溶液を
加え０．５時間攪拌した後、３時間加熱還流した。反応
液をろ過し、テトラヒドロフランを除去した後、得られ
た固体をエタノールにて再結晶することにより下記構造
式の白色結晶２．１０ｇを得た。収率は、２８．９％で
あった。
４′ビフェニルジカルボニルクロリド２．７９ｇ（０．
０１ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン７０ｍｌ、ジｔｅｒ
ブチルメチルフェノール０．００１ｇを加え、攪拌しな
がら上記で得られた６−アクリロキシヘキサノール２．
８６ｇ（０．０２２ｍｏｌ）、ピリジン１．５８ｇ
（０．０２ｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５ｍｌ溶液を
加え０．５時間攪拌した後、３時間加熱還流した。反応
液をろ過し、テトラヒドロフランを除去した後、得られ
た固体をエタノールにて再結晶することにより下記構造
式の白色結晶２．１０ｇを得た。収率は、２８．９％で
あった。
【００６１】この生成物の赤外吸収スペクトルは実施例
１と同様な吸収を示した。次に生成物の 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルを用いて同定を行った。
１と同様な吸収を示した。次に生成物の 1Ｈ核磁気共鳴
スペクトルを用いて同定を行った。
【００６２】結果は次の通りであった。
【００６３】
【化１２】
【００６４】（ａ）＋（ｂ）＝５．８４〜６．３７ｐｐ
ｍ（マルチプレット (multiplet)、６Ｈ） （ｃ）＋（ｅ）＝３．９５〜４．２８ｐｐｍ（マルチプ
レット (multiplet)、８Ｈ） （ｄ）＝１．４４〜１．８３ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、２４Ｈ） （ｆ）＋（ｇ）＝７．０５〜８．２１ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） 更にまた生成物の元素分析の結果は以下に示す通りであ
った。
ｍ（マルチプレット (multiplet)、６Ｈ） （ｃ）＋（ｅ）＝３．９５〜４．２８ｐｐｍ（マルチプ
レット (multiplet)、８Ｈ） （ｄ）＝１．４４〜１．８３ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、２４Ｈ） （ｆ）＋（ｇ）＝７．０５〜８．２１ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） 更にまた生成物の元素分析の結果は以下に示す通りであ
った。
【００６５】
【表４】
【００６６】また、生成物の質量分析スペクトルにより
ｍ／ｅ＝６０６の分子イオンピークが観察された。
ｍ／ｅ＝６０６の分子イオンピークが観察された。
【００６７】以上の結果より反応生成物が上記構造式で
示されるアクリレートであることが確認された。
示されるアクリレートであることが確認された。
【００６８】実施例５ ３００ｍｌの三つ口フラスコに、１，６−ヘキサンジオ
ール２９．７ｇ（０．０２５１ｍｏｌ）、ジブチル錫ラ
ウレート０．０１ｍｏｌとテトラヒドロフラン２００ｍ
ｌを加え、氷冷下イソシアナト（０．０１０４ｍｏｌ）
滴下した。滴下終了後４０℃に加熱し、３時間反応させ
た。生じた沈澱物を炉別した後、炉液を濃縮し、水とベ
ンゼンを加えて抽出洗浄した。有機層を濃縮し、ｎ−ヘ
キサンで洗浄した後さらに濃縮して下記化合物（ａ）を
得た。
ール２９．７ｇ（０．０２５１ｍｏｌ）、ジブチル錫ラ
ウレート０．０１ｍｏｌとテトラヒドロフラン２００ｍ
ｌを加え、氷冷下イソシアナト（０．０１０４ｍｏｌ）
滴下した。滴下終了後４０℃に加熱し、３時間反応させ
た。生じた沈澱物を炉別した後、炉液を濃縮し、水とベ
ンゼンを加えて抽出洗浄した。有機層を濃縮し、ｎ−ヘ
キサンで洗浄した後さらに濃縮して下記化合物（ａ）を
得た。
【００６９】
【化１３】
【００７０】収率は５２％であった。
【００７１】別の１００ｍｌのナス型フラスコに４，
４′ビフェニルジカルボニルクロリド２．７９ｇ（０．
０１ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン７０ｍｌ、ジ−ｔｅ
ｒブチルメチルフェノール０．００１ｇを加え、攪拌し
ながら上記化合物（ａ）６．０ｇ（０．０２２ｍｏ
ｌ）、ピリジン１．５８ｇ（０．０２ｍｏｌ）のテトラ
ヒドロフラン５ｍｌ溶液を加え、０．５時間攪拌した
後、３時間加熱還流した。反応液をろ過し、テトラヒド
ロフランを除去した後、得られた固体をエタノールにて
再結晶することにより下記構造式の白色結晶５．１０ｇ
を得た。収率は、５５．０％であった。
４′ビフェニルジカルボニルクロリド２．７９ｇ（０．
０１ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン７０ｍｌ、ジ−ｔｅ
ｒブチルメチルフェノール０．００１ｇを加え、攪拌し
ながら上記化合物（ａ）６．０ｇ（０．０２２ｍｏ
ｌ）、ピリジン１．５８ｇ（０．０２ｍｏｌ）のテトラ
ヒドロフラン５ｍｌ溶液を加え、０．５時間攪拌した
後、３時間加熱還流した。反応液をろ過し、テトラヒド
ロフランを除去した後、得られた固体をエタノールにて
再結晶することにより下記構造式の白色結晶５．１０ｇ
を得た。収率は、５５．０％であった。
【００７２】この生成物の赤外吸収スペクトルは、実施
例１とほぼ同様な吸収を示し、更にウレタン結合に由来
するカルボニル基の吸収が１６４０ｃｍ-1に現われてい
た。次に生成物の 1Ｈ核磁気共鳴スペクトルを用いて同
定を行った。
例１とほぼ同様な吸収を示し、更にウレタン結合に由来
するカルボニル基の吸収が１６４０ｃｍ-1に現われてい
た。次に生成物の 1Ｈ核磁気共鳴スペクトルを用いて同
定を行った。
【００７３】結果は次の通りであった。
【００７４】
【化１４】
【００７５】（ａ）＝５．５４，６．０８ｐｐｍ（ダブ
レット(doblet)、４Ｈ） （ｂ）＝１．９４ｐｐｍ（シングレット (singlet)、６
Ｈ） （ｃ）＋（ｅ）＋（ｇ）＝３．９６〜４．３８ｐｐｍ
（マルチプレット (multiplet)、１２Ｈ） （ｄ）＝３．０２〜３．４６ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、４Ｈ） （ｆ）＝１．５２〜１．７８ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、１６Ｈ） （ｈ）＋（ｉ）＝７．６２〜８．２２ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） （ｊ）＝４．７８ｐｐｍ（ブロード (browd)、２Ｈ） 更にまた生成物の元素分析の結果は以下に示す通りであ
った。
レット(doblet)、４Ｈ） （ｂ）＝１．９４ｐｐｍ（シングレット (singlet)、６
Ｈ） （ｃ）＋（ｅ）＋（ｇ）＝３．９６〜４．３８ｐｐｍ
（マルチプレット (multiplet)、１２Ｈ） （ｄ）＝３．０２〜３．４６ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、４Ｈ） （ｆ）＝１．５２〜１．７８ｐｐｍ（マルチプレット
(multiplet)、１６Ｈ） （ｈ）＋（ｉ）＝７．６２〜８．２２ｐｐｍ（テトラプ
レット (tetraplet)、８Ｈ） （ｊ）＝４．７８ｐｐｍ（ブロード (browd)、２Ｈ） 更にまた生成物の元素分析の結果は以下に示す通りであ
った。
【００７６】
【表５】
【００７７】また、生成物の質量分析スペクトルにより
ｍ／ｅ＝７５２の分子イオンピークが観察された。
ｍ／ｅ＝７５２の分子イオンピークが観察された。
【００７８】以上の結果より反応生成物が上記構造式で
示されるメタクリレートであることが確認出来た。
示されるメタクリレートであることが確認出来た。
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式、 【化１】 （式中Ｒ1 は−Ｈまたは−ＣＨ3 、ｌは０または１、ｍ
は２〜４、ｎは２〜１２である）で示されるラジカル重
合性２官能（メタ）アクリレート
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3341509A JP3021152B2 (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | ラジカル重合性２官能（メタ）アクリレート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3341509A JP3021152B2 (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | ラジカル重合性２官能（メタ）アクリレート |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05170705A true JPH05170705A (ja) | 1993-07-09 |
| JP3021152B2 JP3021152B2 (ja) | 2000-03-15 |
Family
ID=18346618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3341509A Expired - Fee Related JP3021152B2 (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | ラジカル重合性２官能（メタ）アクリレート |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3021152B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7794917B2 (en) | 2006-09-25 | 2010-09-14 | Fujifilm Corporation | Curable composition, color filter and manufacturing method thereof |
| WO2010048067A3 (en) * | 2008-10-22 | 2011-05-19 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition comprising biphenyl di(meth)acrylate monomer comprising urethane moieties |
| US20150275026A1 (en) * | 2012-10-29 | 2015-10-01 | Ariste Medical, Inc. | Polymer coating compositions and coated products |
| CN106661152A (zh) * | 2014-08-26 | 2017-05-10 | 德山齿科株式会社 | 聚合性单体、固化性组合物以及树脂部件 |
| JP2017110162A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 株式会社トクヤマデンタル | ポリアリールエーテルケトン樹脂材料用接着性組成物 |
| US10729820B2 (en) | 2014-04-22 | 2020-08-04 | Ariste Medical, Llc | Methods and processes for application of drug delivery polymeric coatings |
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|---|---|---|---|---|
| US20080221291A1 (en) | 2007-03-07 | 2008-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured optical films comprising biphenyl difunctional monomers |
-
1991
- 1991-12-24 JP JP3341509A patent/JP3021152B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7794917B2 (en) | 2006-09-25 | 2010-09-14 | Fujifilm Corporation | Curable composition, color filter and manufacturing method thereof |
| WO2010048067A3 (en) * | 2008-10-22 | 2011-05-19 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition comprising biphenyl di(meth)acrylate monomer comprising urethane moieties |
| US8389599B2 (en) | 2008-10-22 | 2013-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Dental composition comprising biphenyl di(meth)acrylate monomer comprising urethane moieties |
| CN107043561A (zh) * | 2012-10-29 | 2017-08-15 | 阿里斯特医疗有限责任公司 | 聚合物涂料组合物和涂覆的产品 |
| US9605175B2 (en) * | 2012-10-29 | 2017-03-28 | Ariste Medical, Llc | Polymer coating compositions and coated products |
| AU2013338051B2 (en) * | 2012-10-29 | 2017-05-04 | Ariste Medical, Llc. | Polymer coating compositions and coated products |
| AU2013338051C1 (en) * | 2012-10-29 | 2017-08-10 | Ariste Medical, Llc. | Polymer coating compositions and coated products |
| US20150275026A1 (en) * | 2012-10-29 | 2015-10-01 | Ariste Medical, Inc. | Polymer coating compositions and coated products |
| US10314912B2 (en) | 2012-10-29 | 2019-06-11 | Ariste Medical, Llc | Polymer coating compositions and coated products |
| EP2912121B1 (en) * | 2012-10-29 | 2019-09-25 | Ariste Medical, LLC | Polymer coating compositions and coated products |
| CN107043561B (zh) * | 2012-10-29 | 2019-10-11 | 阿里斯特医疗有限责任公司 | 聚合物涂料组合物和涂覆的产品 |
| US10729820B2 (en) | 2014-04-22 | 2020-08-04 | Ariste Medical, Llc | Methods and processes for application of drug delivery polymeric coatings |
| CN106661152A (zh) * | 2014-08-26 | 2017-05-10 | 德山齿科株式会社 | 聚合性单体、固化性组合物以及树脂部件 |
| EP3187515A4 (en) * | 2014-08-26 | 2018-05-30 | Tokuyama Dental Corporation | Polymerizable monomer, curable composition and resin member |
| JP2017110162A (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 株式会社トクヤマデンタル | ポリアリールエーテルケトン樹脂材料用接着性組成物 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3021152B2 (ja) | 2000-03-15 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |