JP2514455B2 - 分子内に二重結合と三重結合を含有するカ―ボネ―ト化合物 - Google Patents
分子内に二重結合と三重結合を含有するカ―ボネ―ト化合物Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/96—Esters of carbonic or haloformic acids
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明の分野 本発明は、特異的な電気的、物理的性質を有する樹脂
原料である分子内に二重結合と三重結合を含有するカー
ボネート化合物に関する。
原料である分子内に二重結合と三重結合を含有するカー
ボネート化合物に関する。
本発明の背景 分子内にエチレン性不飽和結合とアセチレン結合とを
有する化合物は、導電性材料、非線形光学材料、サーモ
クロミズム材料として注目されているポリジアセチレン
の原料として有用である。これまでこのようなエチレン
性二重結合とアセチレン結合とを同一分子内に有する化
合物およびその重合体としては、加藤ら、高分子論文集
46,No.5,313（1989）に報告されているプロパルギルア
クリレートおよびプロパルギルメタクリレートが知られ
ている。これらはカルボキシル基を有するエチレン性不
飽和モノマーをエステル結合によってプロパルギルアル
コールと結合したものであるが、本発明は水酸基を有す
るエチレン性不飽和モノマーをカーボネート結合によっ
てプロパルギルアルコールのようなアセチレンアルコー
ルと結合し、一層熱安定性にすぐれた重合体原料として
有用な化合物を提供することを目的とする。
有する化合物は、導電性材料、非線形光学材料、サーモ
クロミズム材料として注目されているポリジアセチレン
の原料として有用である。これまでこのようなエチレン
性二重結合とアセチレン結合とを同一分子内に有する化
合物およびその重合体としては、加藤ら、高分子論文集
46,No.5,313（1989）に報告されているプロパルギルア
クリレートおよびプロパルギルメタクリレートが知られ
ている。これらはカルボキシル基を有するエチレン性不
飽和モノマーをエステル結合によってプロパルギルアル
コールと結合したものであるが、本発明は水酸基を有す
るエチレン性不飽和モノマーをカーボネート結合によっ
てプロパルギルアルコールのようなアセチレンアルコー
ルと結合し、一層熱安定性にすぐれた重合体原料として
有用な化合物を提供することを目的とする。
本発明の概要 本発明は、一般式（Ｉ） のカーボネート化合物を提供する。ここでＡは下記
（ａ）ないし（ｊ）からなる群から選ばれた水酸基を有
するエチレン性不飽和モノマーから該水酸基を除去した
残基を意味し、R1,R2は独立に水素またはC1〜C20アルキ
ルを意味する。
（ａ）ないし（ｊ）からなる群から選ばれた水酸基を有
するエチレン性不飽和モノマーから該水酸基を除去した
残基を意味し、R1,R2は独立に水素またはC1〜C20アルキ
ルを意味する。
（ａ）アルキレン鎖上にアルコキシ、アルケニルオキ
シ、フェニル、フェノキシ、ベンゾイル、スルホまたは
３級アミノ置換分を有してもよいヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレート， （ｂ）ヒドロキシシクロアルキル（メタ）アクリレー
ト， （ｃ）ヒドロキシアルコキシアルキル（メタ）アクリレ
ート， （ｄ）ポリエーテルグリコールモノ（メタ）アクリレー
ト， （ｅ）ポリエステルグリコールモノ（メタ）アクリレー
ト， （ｆ）アルキレン鎖がクロルで置換されていてもよりＮ
−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミド， （ｇ）Ｎ−アルキル−Ｎ−ヒドロキシアルキル（メタ）
アクリルアミド， （ｈ）ビニルフェノール， （ｉ）ビニルサリチル酸アルキルエステル， （ｊ）ベンゼン環上にビニル基、水酸基およびアルコキ
シ基を有するベンゾフェノン。
シ、フェニル、フェノキシ、ベンゾイル、スルホまたは
３級アミノ置換分を有してもよいヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレート， （ｂ）ヒドロキシシクロアルキル（メタ）アクリレー
ト， （ｃ）ヒドロキシアルコキシアルキル（メタ）アクリレ
ート， （ｄ）ポリエーテルグリコールモノ（メタ）アクリレー
ト， （ｅ）ポリエステルグリコールモノ（メタ）アクリレー
ト， （ｆ）アルキレン鎖がクロルで置換されていてもよりＮ
−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミド， （ｇ）Ｎ−アルキル−Ｎ−ヒドロキシアルキル（メタ）
アクリルアミド， （ｈ）ビニルフェノール， （ｉ）ビニルサリチル酸アルキルエステル， （ｊ）ベンゼン環上にビニル基、水酸基およびアルコキ
シ基を有するベンゾフェノン。
一般式（Ｉ）の化合物は、酸結合剤の存在下、 （１） 一般式Ａ−OHで表わさる水酸基含有エチレン性
不飽和モノマーを一般式（II） （式中R1,R2は独立に水素またはC1〜C20アルキルを意味
する。）のクロロホルメートとを反応させるか、または （２） 一般式 で表わされる該モノマーのクロロホルメートを一般式
（III） のアルコールと反応させることによって製造することが
できる。
不飽和モノマーを一般式（II） （式中R1,R2は独立に水素またはC1〜C20アルキルを意味
する。）のクロロホルメートとを反応させるか、または （２） 一般式 で表わされる該モノマーのクロロホルメートを一般式
（III） のアルコールと反応させることによって製造することが
できる。
詳細な説明 水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーは親水性高
分子化合物の原料としてこの分野では良く知られてい
る。それらの典型例を以下に示す。
分子化合物の原料としてこの分野では良く知られてい
る。それらの典型例を以下に示す。
水酸基を含有する（メタ）アクリル酸エステル類 ２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート ２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート ３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート ２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート ４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート ２−ヒドロキシシクロヘキシル（メタクリレート） ２−（２−ヒドロキシエトキシ）エチル（メタ）アクリ
レート ２−（２−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエトキシ）−1,1
−ジメチルエチル（メタ）アクリレート ２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル（メタ）アクリレ
ート ２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アク
リレート ２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロピ
ル（メタ）アクリレート ２−ヒドロキシ−３−プロポキシプロピル（メタ）アク
リレート ２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル（メタ）アクリ
レート ４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェニル（メタ）アク
リレート ２−ヒドロキシ−３−スルホプロピル（メタ）アクリレ
ート ２−ヒドロキシ−３−ピペリジノプロピル（メタ）アク
リレート ２−ヒドロキシ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−２−ヒドロキ
シエチルアミノ）プロピル（メタ）アクリレート ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテル
グリコールのモノ（メタ）アクリレート、ポリ−ε−カ
プロラクトンなどのポリエステルグリコールのモノ（メ
タ）アクリレートなども用いることができる。
レート ２−（２−ヒドロキシ−1,1−ジメチルエトキシ）−1,1
−ジメチルエチル（メタ）アクリレート ２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル（メタ）アクリレ
ート ２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アク
リレート ２−ヒドロキシ−３−（２−プロペニルオキシ）プロピ
ル（メタ）アクリレート ２−ヒドロキシ−３−プロポキシプロピル（メタ）アク
リレート ２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル（メタ）アクリ
レート ４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェニル（メタ）アク
リレート ２−ヒドロキシ−３−スルホプロピル（メタ）アクリレ
ート ２−ヒドロキシ−３−ピペリジノプロピル（メタ）アク
リレート ２−ヒドロキシ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−２−ヒドロキ
シエチルアミノ）プロピル（メタ）アクリレート ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテル
グリコールのモノ（メタ）アクリレート、ポリ−ε−カ
プロラクトンなどのポリエステルグリコールのモノ（メ
タ）アクリレートなども用いることができる。
水酸基を有する（メタ）アクリルアミド誘導体 Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）アクリルアミド Ｎ−（1,1−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）アクリ
ルアミド Ｎ−（１−エチル−２−ヒドロキシエチル）アクリルア
ミド Ｎ−（1,1−ジメチル−３−ヒドロキシブチル）アクリ
ルアミド Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアクリルア
ミド Ｎ−（2,2,2−トリクロロ−１−ヒドロキシエチル）ア
クリルアミド Ｎ−（2,2,2−トリクロロ−１−ヒドロキシプロピル）
アクリルアミド および対応するメタクリルアミド誘導体 水酸基を有するスチレン誘導体 ４−ビニルフェノール ４−ビニルサリチル酸メチル ３−ビニルサリチル酸メチル ５−ビニルサリチル酸メチル ４−メトキシ−２−ヒドロキシ−４′−ビニルベンゾフ
ェノン ４−エトキシ−２−ヒドロキシ−４′−ビニルベンゾフ
ェノン ４−ｎ−ブトキシ−２−ヒドロキシ−４′−ビニルベン
ゾフェノン 前記モノマーは水酸基を有するエチレン性不飽和モノ
マーの典型例であり、本発明はこれらに限定されない。
ルアミド Ｎ−（１−エチル−２−ヒドロキシエチル）アクリルア
ミド Ｎ−（1,1−ジメチル−３−ヒドロキシブチル）アクリ
ルアミド Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルアクリルア
ミド Ｎ−（2,2,2−トリクロロ−１−ヒドロキシエチル）ア
クリルアミド Ｎ−（2,2,2−トリクロロ−１−ヒドロキシプロピル）
アクリルアミド および対応するメタクリルアミド誘導体 水酸基を有するスチレン誘導体 ４−ビニルフェノール ４−ビニルサリチル酸メチル ３−ビニルサリチル酸メチル ５−ビニルサリチル酸メチル ４−メトキシ−２−ヒドロキシ−４′−ビニルベンゾフ
ェノン ４−エトキシ−２−ヒドロキシ−４′−ビニルベンゾフ
ェノン ４−ｎ−ブトキシ−２−ヒドロキシ−４′−ビニルベン
ゾフェノン 前記モノマーは水酸基を有するエチレン性不飽和モノ
マーの典型例であり、本発明はこれらに限定されない。
本発明の一般式（Ｉ）のカーボネート化合物は、前記
ヒドロキシ基含有モノマー１モルに対し、少なくとも１
モルの一般式（II）のクロロホルメートを適当な溶媒中
酸結合剤の存在下で反応させることによって製造するこ
とができる。
ヒドロキシ基含有モノマー１モルに対し、少なくとも１
モルの一般式（II）のクロロホルメートを適当な溶媒中
酸結合剤の存在下で反応させることによって製造するこ
とができる。
溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、塩化メチレン、ジクロロエタンなどを
使用することができる。反応系の粘度が低い場合は無溶
媒で反応させることも可能である。
ムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、塩化メチレン、ジクロロエタンなどを
使用することができる。反応系の粘度が低い場合は無溶
媒で反応させることも可能である。
酸結合剤としては、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン、ピリジン等の３級アミンや、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウ
ム等の水酸化物、ケイ酸ナトリウム、アルミン酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の他の無機塩
基、さらにアルカリ金属アルコラートを使用できる。３
級アミンを使用するのが好ましい。
ミン、ピリジン等の３級アミンや、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウ
ム等の水酸化物、ケイ酸ナトリウム、アルミン酸ナトリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の他の無機塩
基、さらにアルカリ金属アルコラートを使用できる。３
級アミンを使用するのが好ましい。
反応を窒素等の不活性ガス雰囲気中で実施すると着色
の少ない目的物が得られるので好ましい。温度は室温な
いし溶媒の沸点までの温度が採用し得る。
の少ない目的物が得られるので好ましい。温度は室温な
いし溶媒の沸点までの温度が採用し得る。
前記反応とは反対に、前記ヒドロキシ基含有モノマー
にホスゲンを反応させて得られるクロロホルメート化合
物１モルに対し、少なくとも１モルの一般式（III）の
アルコールを酸結合剤の存在下で反応させることもでき
る。
にホスゲンを反応させて得られるクロロホルメート化合
物１モルに対し、少なくとも１モルの一般式（III）の
アルコールを酸結合剤の存在下で反応させることもでき
る。
使用し得る溶媒、酸結合剤の種類、および反応条件は
水酸基含有モノマーに一般式（II）のクロロホルメート
を反応させる場合と同じでよい。
水酸基含有モノマーに一般式（II）のクロロホルメート
を反応させる場合と同じでよい。
反応中および後処理段階で重合が起こり、目的物が得
られ難い場合は、2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェノール、メチルハイドロキノン、ｐ−ｔ−ブチルカテ
コール、フェノチアジン、ベンゾフェノチアジン、アセ
トアミドフェノチアジン、ｐ−ベンゾキノン、ナフトキ
ノン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソジ
メチルアミン等の重合禁止剤を混合物へ添加するとよ
い。
られ難い場合は、2,6−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフ
ェノール、メチルハイドロキノン、ｐ−ｔ−ブチルカテ
コール、フェノチアジン、ベンゾフェノチアジン、アセ
トアミドフェノチアジン、ｐ−ベンゾキノン、ナフトキ
ノン、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、Ｎ−ニトロソジ
メチルアミン等の重合禁止剤を混合物へ添加するとよ
い。
本発明のカーボネート化合物は各種金属触媒、開始剤
または光、γ線、電子線照射などによって重合硬化す
る。そのため非揮散型硬化および耐久、耐熱性が要求さ
れる塗料用、電気電子材料用、構造材用、非線形光学材
料用などの樹脂原料として有用である。
または光、γ線、電子線照射などによって重合硬化す
る。そのため非揮散型硬化および耐久、耐熱性が要求さ
れる塗料用、電気電子材料用、構造材用、非線形光学材
料用などの樹脂原料として有用である。
以下に本発明の実施例のいくつかを示す。
実施例１ 撹拌機、温度計、窒素導入管および還流冷却管を取り
付けたフラスコに、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト13.0gと、塩化メチレン50.0gと、トリエチルアミン1
1.5gを加え溶解した。これにプロパルギルクロロホルメ
ート13.0gを１時間かけて滴下し、30℃で６時間反応さ
せた。反応終了後内容物を塩化メチレン／脱イオン水混
液で処理し、有機相を分離し、硫酸マグネシウムを加え
て一夜放置し脱水した。硫酸マグネシウムをロ別し、ロ
液からロータリーエバポレータにより塩化メチレンを留
去し、濃縮物を酢酸エチル／ヘキサンを展開溶媒として
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル200メッシュ）
により単離精製し、無色透明な液体として２−プロパル
ギルオキシカルボニルオキシエチルメタクリレートを得
た。収率73.6％ 構造確認はIR,1H−NMRによって行った。
付けたフラスコに、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト13.0gと、塩化メチレン50.0gと、トリエチルアミン1
1.5gを加え溶解した。これにプロパルギルクロロホルメ
ート13.0gを１時間かけて滴下し、30℃で６時間反応さ
せた。反応終了後内容物を塩化メチレン／脱イオン水混
液で処理し、有機相を分離し、硫酸マグネシウムを加え
て一夜放置し脱水した。硫酸マグネシウムをロ別し、ロ
液からロータリーエバポレータにより塩化メチレンを留
去し、濃縮物を酢酸エチル／ヘキサンを展開溶媒として
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル200メッシュ）
により単離精製し、無色透明な液体として２−プロパル
ギルオキシカルボニルオキシエチルメタクリレートを得
た。収率73.6％ 構造確認はIR,1H−NMRによって行った。
IR（cm-1）3300,2110,2950,1750,1720,16301 H−NMR（δ,CDCl3）1.95（−CH3）,2.53（CH≡Ｃ−）,
4.39（−CH2−）,4.78（≡Ｃ−CH2−）,5.58−6.14（CH
2＝Ｃ−） 実施例２ 実施例１と同様にして、２−ヒドロキシエチルアクリ
レートとプロパルギルクロロホルメートとを反応させて
２−プロパルギルオキシカルボニルオキシエチルアクリ
レートを合成した。収率78.5％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,16301 H−NMR（δ,CDCl3）2.55（CH≡Ｃ−）,4.40（−CH
2−）,4.78（≡Ｃ−CH2−）,5.80−6.40（＝CH−） 実施例１と同様な反応装置および反応条件により、以
下の化合物を製造した。
4.39（−CH2−）,4.78（≡Ｃ−CH2−）,5.58−6.14（CH
2＝Ｃ−） 実施例２ 実施例１と同様にして、２−ヒドロキシエチルアクリ
レートとプロパルギルクロロホルメートとを反応させて
２−プロパルギルオキシカルボニルオキシエチルアクリ
レートを合成した。収率78.5％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,16301 H−NMR（δ,CDCl3）2.55（CH≡Ｃ−）,4.40（−CH
2−）,4.78（≡Ｃ−CH2−）,5.80−6.40（＝CH−） 実施例１と同様な反応装置および反応条件により、以
下の化合物を製造した。
実施例３ Ｎ−（２−プロパルギルオキシカルボニルオキシエチ
ル）アクリルアミド，収率88.2％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,1670,16251 H−NMR（δ,ppm）2.50（CH≡Ｃ−）,4.1−4.50（−CH2
−）,5.80−6.40（CH2＝CH−） 実施例４ Ｎ−（２−プロパルギルオキシカルボニルオキシエチ
ル）メタクリルアミド，収率77.6％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,1680,16201 H−NMR（δ,ppm）1.91（−CH3）,2.48（CH≡Ｃ−）,4.
1−4.50（−CH2−）,4.76（≡Ｃ−CH2−）,5.80−6.40
（CH2＝Ｃ） 実施例５ ３−（1,1−ジメチル−２−プロピニル）オキシカルボ
ニルオキシプロピルメタクリレート，収率82.5％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,16301 H−NMR（δ,ppm）1.95（−CH3）,2.53（CH≡Ｃ−）,4.
39（−CH2−）,4.78（≡Ｃ−CH2−）5.58−6.14（CH2＝
Ｃ） 実施例６ ４−プロパルギルオキシカルボニルオキシスチレン、収
率77.2％ IR（cm-1）3300,2100,1750,1630,1600,15001 H−NMR（δ,ppm）2.53（CH≡Ｃ−）,4.39（−CH2−）,
4.78（≡Ｃ−CH2−）,5.58−6.14（CH2−Ｃ−） 実施例７ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリカプロラ
クトン付加物とプロパルギルアルコールとのカーボネー
ト式： 収率66.3％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,16301 H−NMR（δ,ppm）1.95（−CH3）,2.53（CH≡Ｃ−）,4.
39（−CH2−）,4.78（≡Ｃ−CH2−）,5.58−6.14（CH2
＝Ｃ−） 実施例８ ペンタ（テトラメチレングリコール）モノメタクリレー
トとプロパルギルアルコールのカーボネート式： 収率67.8％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,1630,11001 H−NMR（δ,ppm）2.53（CH≡Ｃ−）,4.78（≡Ｃ−CH2
−）,5.58−6.14（CH2＝Ｃ−） 実施例９ Ｎ−（３−メタクロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル）−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−プロパルギルオキシカル
ボニルオキシエチル）アミン，収率73.6％ IR（cm-1）3400,3300,2110,1760,1740,16301 H−NMR（δ,ppm）2.53（CH≡Ｃ−）,4.78（≡Ｃ−CH2
−）,5.58−6.14（CH2＝Ｃ−） 実施例10 ２−プロパルジルオキシカルボニルオキシエチルメタク
リレート，収率77.2％ IR（cm-1）3300,2100,2950,1750,1720,16301 H−NMR（δ,ppm）1.95（−CH3）,2.53（CH≡Ｃ−）,4.
39（−CH2−）,5.58−6.14（CH2＝Ｃ−） 実施例11 実施例１と同様の装置に、２−メタクリロイルオキシ
エチルクロロホルメート19.3g,塩化メチレン50.0g,トリ
エチルアミン11.5gを加え溶解した。これにプロパルギ
ルアルコール7.0gを滴下し、30℃で６時間反応させた。
以後実施例１と同様に処理して無色透明な液体として２
−プロパルギルオキシカルボニルオキシエチルメタクリ
レートを得た。収率53.6％IRおよび1H−NMRにより実施
例１の生成物と同じ化合物であることを確認した。
ル）アクリルアミド，収率88.2％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,1670,16251 H−NMR（δ,ppm）2.50（CH≡Ｃ−）,4.1−4.50（−CH2
−）,5.80−6.40（CH2＝CH−） 実施例４ Ｎ−（２−プロパルギルオキシカルボニルオキシエチ
ル）メタクリルアミド，収率77.6％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,1680,16201 H−NMR（δ,ppm）1.91（−CH3）,2.48（CH≡Ｃ−）,4.
1−4.50（−CH2−）,4.76（≡Ｃ−CH2−）,5.80−6.40
（CH2＝Ｃ） 実施例５ ３−（1,1−ジメチル−２−プロピニル）オキシカルボ
ニルオキシプロピルメタクリレート，収率82.5％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,16301 H−NMR（δ,ppm）1.95（−CH3）,2.53（CH≡Ｃ−）,4.
39（−CH2−）,4.78（≡Ｃ−CH2−）5.58−6.14（CH2＝
Ｃ） 実施例６ ４−プロパルギルオキシカルボニルオキシスチレン、収
率77.2％ IR（cm-1）3300,2100,1750,1630,1600,15001 H−NMR（δ,ppm）2.53（CH≡Ｃ−）,4.39（−CH2−）,
4.78（≡Ｃ−CH2−）,5.58−6.14（CH2−Ｃ−） 実施例７ ２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリカプロラ
クトン付加物とプロパルギルアルコールとのカーボネー
ト式： 収率66.3％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,16301 H−NMR（δ,ppm）1.95（−CH3）,2.53（CH≡Ｃ−）,4.
39（−CH2−）,4.78（≡Ｃ−CH2−）,5.58−6.14（CH2
＝Ｃ−） 実施例８ ペンタ（テトラメチレングリコール）モノメタクリレー
トとプロパルギルアルコールのカーボネート式： 収率67.8％ IR（cm-1）3300,2100,1760,1740,1630,11001 H−NMR（δ,ppm）2.53（CH≡Ｃ−）,4.78（≡Ｃ−CH2
−）,5.58−6.14（CH2＝Ｃ−） 実施例９ Ｎ−（３−メタクロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピ
ル）−Ｎ−メチル−Ｎ−（２−プロパルギルオキシカル
ボニルオキシエチル）アミン，収率73.6％ IR（cm-1）3400,3300,2110,1760,1740,16301 H−NMR（δ,ppm）2.53（CH≡Ｃ−）,4.78（≡Ｃ−CH2
−）,5.58−6.14（CH2＝Ｃ−） 実施例10 ２−プロパルジルオキシカルボニルオキシエチルメタク
リレート，収率77.2％ IR（cm-1）3300,2100,2950,1750,1720,16301 H−NMR（δ,ppm）1.95（−CH3）,2.53（CH≡Ｃ−）,4.
39（−CH2−）,5.58−6.14（CH2＝Ｃ−） 実施例11 実施例１と同様の装置に、２−メタクリロイルオキシ
エチルクロロホルメート19.3g,塩化メチレン50.0g,トリ
エチルアミン11.5gを加え溶解した。これにプロパルギ
ルアルコール7.0gを滴下し、30℃で６時間反応させた。
以後実施例１と同様に処理して無色透明な液体として２
−プロパルギルオキシカルボニルオキシエチルメタクリ
レートを得た。収率53.6％IRおよび1H−NMRにより実施
例１の生成物と同じ化合物であることを確認した。
Claims (3)
- 【請求項１】一般式 （式中、Ａは下記（ａ）ないし（ｊ）からなる群から選
ばれた水酸基を有するエチレン性不飽和モノマーから該
水酸基を除去した残基を意味し、R1,R2は独立に水素ま
たはC1〜C20アルキルを意味する。）のカーボネート化
合物： （ａ）アルキレン鎖上にアルコキシ、アルケニルオキ
シ、フェニル、フェノキシ、ベンゾイル、スルホまたは
３級アミノ置換分を有してもよいヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレート， （ｂ）ヒドロキシシクロアルキル（メタ）アクリレー
ト， （ｃ）ヒドロキシアルコキシアルキル（メタ）アクリレ
ート， （ｄ）ポリエーテルグリコールモノ（メタ）アクリレー
ト， （ｅ）ポリエステルグリコールモノ（メタ）アクリレー
ト， （ｆ）アルキレン鎖がクロルで置換されていてもよりＮ
−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミド， （ｇ）Ｎ−アルキル−Ｎ−ヒドロキシアルキル（メタ）
アクリルアミド， （ｈ）ビニルフェノール， （ｉ）ビニルサリチル酸アルキルエステル， （ｊ）ベンゼン環上にビニル基、水酸基およびアルコキ
シ基を有するベンゾフェノン。 - 【請求項２】酸結合剤の存在下、一般式 Ａ−OH（式中、Ａは前記に同じ。）の水酸基含有化合物
と、一般式 （式中、R1,R2は前記に同じ。）のクロロホルメートと
を反応させることを特徴とする第１項のカーボネート化
合物の製造法。 - 【請求項３】酸結合剤の存在下、一般式 （式中、Ａは前記に同じ。）のクロロホルメート化合物
と、 一般式 （式中、R1,R2は前記に同じ。）のアルコールとを反応
させることを特徴とする第１項のカーボネート化合物の
製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2127784A JP2514455B2 (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 分子内に二重結合と三重結合を含有するカ―ボネ―ト化合物 |
| US07/699,376 US5194655A (en) | 1990-05-17 | 1991-05-14 | Polymerizable carbonates having ethylenic and acetylenic functions |
| DE69104768T DE69104768T2 (de) | 1990-05-17 | 1991-05-16 | Ethylenische und acetylenische Gruppen enthaltende polymerisierbare Carbonate. |
| EP91107974A EP0457332B1 (en) | 1990-05-17 | 1991-05-16 | Polymerizable carbonates having ethylenic and acetylenic functions |
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| JP2127784A JP2514455B2 (ja) | 1990-05-17 | 1990-05-17 | 分子内に二重結合と三重結合を含有するカ―ボネ―ト化合物 |
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Citations (2)
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- 1991-05-16 DE DE69104768T patent/DE69104768T2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
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