JPH0354204A

JPH0354204A - 放射線重合可能な液晶性モノマー及びそのポリマー

Info

Publication number: JPH0354204A
Application number: JP1189223A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Uryu; 瓜生　敏之; Tadafumi Shindo; 忠文進藤
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1989-07-21
Filing date: 1989-07-21
Publication date: 1991-03-08
Anticipated expiration: 2013-10-30
Also published as: JP2819157B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は液晶性モノマー及びそのポリマーに関し、特に
放射線重合可能なアクリロイル基と、液晶形或能を有す
るフエニルベンゾエート基と、不斉炭素に結合したエポ
キシ基とを有する液晶性モノマー、及びそれを放射線照
射により重合してなる液晶性ポリマーに関する。

〔従来の技術〕

従来、アクリレートモノマーはコーティング材料等に用
いる場合、反応稀釈剤、架橋剤等の目的で加える。コー
ティング材料の反応性を上昇させるためには、電子線や
紫外線のエネルギーをあげる必要があるが、そうすると
反応時にコーティング表面に熱が加わるばかりか、電子
線、紫外線のエネルギーをあげることによるコーティン
グスピードの低下が起きるという問題がある。

ところで、重合性を有するアクリレート基を有する液晶
性モノマーから、側鎖にメソゲン基を有する液晶性ポリ
マーを得ることができることも知られている。例えば、
特開昭６３−７２７８４号及び同６３−１６１００５号
は、（式中Ｒ１は水素原子又はメチル基、ｎは１〜ｌＯの整
数である。）により表される繰り返し単位を有する液晶性ポリマーを
開示している。このポリマーは光学活性炭素を含み、デ
ィスプレイ材料などに用いられる強誘電性液晶ポリマー
である。

〔発明が解決しようとする課題］上記液晶性モノマーを重合させる場合、特に固相重合の
場合であっても、分子が液晶性を有するので、アクリレ
ート基の会合する確率が高く、従って重合反応性が高い
と予想される。

しかしながら、上記液晶ポリマーは、光学活性炭素を１
つしか有さず、液晶性も十分でない。

従って、本発明の目的は、アクリロイル基が十分な反応
性を有する構造を有する放射線重合可能な液晶性モノマ
ーを提供することである。

本発明のもう１つの目的は、かかる液晶性モノマーから
なる液晶性ポリマーを提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、メソゲン
基としてフエニルベンゾエート基を有スるとともに、末
端のアルキル基にエポキシ基が結合した構造の液晶性モ
ノマーは液晶性を示し、そのアクリロイル基の反応性が
著しく高いことを発見し、本発明に想到した。

すなわち、本発明の液晶性モノマーは、下記一般式：（ただし、Ｒは炭素数ｍのアルキル基にエポキシ基が結
合したもので、ｍは３〜６の整数であり、ｎは４〜１ｌ
の整数である。）により表されることを特徴とする。

また、本発明の液晶性ポリマーは、（ただし、Ｒは炭素数ｍのアルキル基にエポキシ基が結
合したもので、ｍは３〜６の整数であり、ｎは２〜ｌ１
の整数である。〉により表される繰り返し単位を有することを特徴とする
。

本発明を以下詳細に説明する。

本発明の液晶性モノマーは下記一般式を有する。

上記一般式において、７エニルベンゾエート基とアクリ
ロイル基とはアルキレンスベーサを介して結合しており
、またフエニルベンゾエート基の末端には、エポキシ基
が結合したアルキル基が結合している。このうち、特に
好ましい液晶性七ノマーの一般式は、０である。

アルキル基中におけるエポキシ基の結合位置は０１こ限
定されずよいが、液晶性モノマーの生或しやすさの観点
からは、フエニルベンゾエート基から２＃目と３番目の
炭素に結合しているのが好ましい。

なお、上記各式において、ｎ＝４〜１１の場合、良好な
液晶性を示す。

エポキシ基がＳ体又はＲ体、特にＳ体のみの場合、この
液晶性ポリマー及びモノマーは光学活性を有する。光学
活性を有する液晶モノマーの一般式を以下に示す。

ｎ次に、本発明の液晶性モノマーの製造方法を、具体例で
説明する。

まず、４−ヒドロキシ安息番酸（Ｉ）とハロゲン化アル
キルアルコール（ｎ）をアルカリ水溶液中で加熱攪拌し
、４−ヒドＯキシアルキロキシ安息香酸（ＩＩＩ）を得
る。

（Ｉ）　　　　　　（Ｉ［）　　　　　　　　　（ＩＩ
Ｉ），得られた４−ヒドロキシアルキロキシ安，敷香酸
（ＩＩ［）をアクリル酸又はメタクリル酸とヱステル化
反応させて、４−アクリ口イルアルキルオキシ安息香酸
（ＩＶ）を得る。

（ＴＶ）一方、ペンジル才キシフエノーノレとエポキシアルキル
アルコールから合戊した　４′一ヘンシノレオキシフェ
ニル−４−エポキシアノレキノレエーテノレヲ脱保護し
、エポキシアルキノレオキシフエノーノレを得る。これ
を４−アクリロイノレアノレキ】レオキシ安，敷香酸（
ＩＶ）と分子間脱水反応させ、目的の液晶性モノ７−を
（Ｖ）を得る。

（Ｖ）（ただし、ＲはＨ又は−Ｃ｝Ｉｓ、ｎｌ！２〜１１の整
数、Ｘはハロゲン原子である。）上記化合物（ｎ）のノ＼ロゲン化アノレキノレアノレコ
ールはクロル化合物、ブロム化合物のどちらでもヨく、
例エハ２−プロモエタノーノレ（エチレンブロ七ヒドリ
ン）、４−プロモブタノーノレ、６−クロロヘキサノー
ル、１１−プロモウンデカノール等が挙げられる。アル
キル鎖は直鎮状のノルマルアルコールが望ましい。

また前記の４−ヒドロキシアルキルオキシ安息香酸（Ｉ
ＩＩ）とアクリル酸、メタクリル酸との反応は、適当な
溶媒、例えばベンゼンなどの溶媒中において、エステル
化触媒、例エハＰ一トルエンスルポン酸などの存在下で
、行うことができる。また他の方法として、アクリル酸
クロライド又はメタクリル酸クロライドとトリエチルア
ミンとからなる触媒等の存在下で、エステル化をおこな
うこともできる。

また前記の４−アクリロイルアルキルオヰシ安息香酸と
エポキシ基を含むフェノールは、分子間脱水反応により
得ることができ、例えば、ジシクロへキシル力ルポジイ
ミドとジメチルアミノビリジンとを触媒として、反応さ
せることにより得られる。また、トリフエニルホスフィ
ンとＴゾジヵルボン酸ジェチルを触媒として、反応させ
ることもできる。

このようにして得られた液晶性モノマーは、電子線又は
紫外線等の放射線により重合することができる。この液
晶性モノマーは反応性が高いので、例えば電子線照射に
より厚さ１０μｍ程度のフィルムを作る場合、２〜３０
Ｍｒａｄ程度の照射で十分である。

またアクリロイル基のみをアゾビスイソブチルニトリル
（ＡＩＢＮ）などの開始剤を含む溶液中でラジカル重合
し、高分子としたのち、紫外線を用いてエポキシ基を反
応させ、架橋させる方法などもある。

重合形態としては、ポリエステルフィルムなどのプラス
チックフィルム上、又はガラス基板上に流延するか、又
はバーコーダ等によりキャストする等の方法が挙げられ
る。

得られる液晶ポリマーは下記一般式により表される繰り
返し単位を有する。

汽ＣＨ。−Ｃｌｌ？（ただし、Ｒは炭素数ｍのアルキル基にエポキシ基が結
合したもので、ｍは３〜６の整数であり、ｎは２〜１１
の整数である。）ここで、ｎ＝２〜１１の範囲で良好な液晶性を示し、液
晶性を示すｎの範囲がモノマーの場合（ｎ＝４〜１１）
より広い。

特に光学活性を有する液晶性ポリマーの一般式は以下の
通りである。

ｎ〔実施例〕本発明を以下の実施例によりする。

実施例ｌさらに詳細に説明トランス−２−ヘキセノールから、−２０℃の塩化メチ
レン中で、Ｓｈａｒｐｌｅｓｓらの方法（Ｊ．八ｍ，　
Ｃｈｅｍ．　Ｓｏｃ，　１０９　．５７６５（１９８７
）など）により、（Ｓ，　Ｓ）　−２．．　：’ｌ−エ
ポキシヘキサノールを合或した。塩化メチレンの溶液２
４０　ｍｎに、−７０℃で、モレキュラーシーブス４Ａ
のパウダー６．０ｇと、オルトチタン酸イソブロビル２
、８４．ｇ（１０ｍｍｏｌ）と、Ｌ−（＋）一酒石酸ジ
エチル２．　４８ｇ（１２ｍｍｏｆ）とを加えた。その
後第３級ブチルハイドロバーオキサイドの３Ｍ溶液を１
３４一加え、トランス−２一一・キセノール２０．　４
ｇ　（２００ｍｍｏ　Ｉ）を滴下した。−２０℃〜−２
５℃で２時間攪拌した後、硫酸第一鉄水溶液及び酒石酸
水溶液で処理し、次いで蒸密により精製した。

収ＩＩ　　：　　３．６ｇ（３１＋ｎｔｎｏｌ）収率　
：１５％施光度：　　［α］　＝−４４．０’　（Ｃ＝’ｌ，０
、ＣＨＣｉ３中）ロベンジル才キシフェノール６，　Ｏｇ（３０ｍｍｏｌ）
と上で得た（Ｓ，　Ｓ）　−２．　３４ボキシヘキサノ
ーＪｌ／　３．　６ｇ　（３　１ｍｍｏＩ）とを、テト
ラヒドロフラン中で、トリフェニルホスフィン８．　１
ｇ（３１ｍｍｏｌ）及びアゾジカルボン酸ジエチル５．
　４ｇ（３Ｌｍｍｏｌ）を触媒として、一晩室温で攪拌
することにより反応させた。

反応溶液を除去後、ジエチルエーテルを加えると、白色
の沈澱が生或した。白色沈澱物を濾過し、、シリカゲル
力ラムで酢酸エザルーヘキサン（１：９）の展開溶媒で
分離精製し、得られた粗結晶を酢酸エチル／ヘキサン系
から再結晶させた。

収量＋　４．２ｇ（１４ｍｍｏ！＞収率：４７％［［＋　、　ｐ，　二　６８〜６９℃ ４−　（　（Ｓ，　Ｓ）　−２．　３−エポキシヘキシ
ルオキシ｝フ、ノールの合或上で得た化合物４，　Ｏｇ（１３＋＋＋ｎ＋ｏｌ）を、
酢酸エチル中において、パラジウムーカーボンを触媒と
し、水素の存在下で、２４時間室温で反応させた。ヘキ
ザンー酢酸エチルを展開溶媒としてシリカゲルカラムで
分離′精製し、次いで酢酸エチル／ヘキサン系より再結
晶させた。

収量：　２．　６ｇ（１２．　５＋ｎｍｏｌ）収率；９
３％４　’　−　（（Ｓ．Ｓ）−２．３−エポキシヘキシル
オキシ）フ塩化メチレン中室温で、４−　｛　（Ｓ，　
Ｓ）　−２．　３−エポキシへキシルオキシ｝フェノー
ルＬ　Ｏｇ　（４．　８＋ｍｍｏｌ）と、実施例ｌで得
た４−（６−アクリロイルへキシルオキシ〉安息香酸］
．．　８ｇ　（６．　２ｍｍｏｌ）とを、ジシクロカル
ボジイミド１　２ｇ　（５．　８ｍｍｏ　Ｉ）と４−ジ
メチルアミノビリジン０．３ｇを触媒として、ｌ晩反応
させた。

白色の沈澱を濾過後、ヘキサンー酢酸エチル（８：２＞
を展開溶媒として用い、シリカゲルカラムで分離精製し
た。クロロホルムーヘキサンで再結晶し、目的の４′〜
（　（Ｓ，　Ｓ）　−２．　３−エポキシヘキシルオキ
シ｝フェニルー４−（アク゛リロイルへキシルオキシ）
ペンゾエートを得た。

収量：　１，Ｏｇ　（２．０ｍｍｏｌ）収率：３７％化合物の相転移温度（１＞ｋ　１９　ＳｍＡ　５６　ｃｈ　７１ｉｆＫ：　　結晶
相ＳｍＡ　：スメクチックＡ相ｃｈ：　コレステリック相：アイソトロピックメルト相。

実施例２光学活性な液晶性モノマー（■′）の合戊実施例３で得
た４−　（　（Ｓ，　Ｓ）　−２．　３−エポキシヘキ
シルオキシ）フェノール１．　０ｇ　（４．　８ｍｍｏ
ｌ）と、実施例２で得た４−（アクリロイルウンデカノ
キシ）安息香酸２．　Ｉｇ（５．　８ｍｍｏｌ）とを、
実施例３と同様に、ジシクロへキシルカルボジイミド１
．　２ｇ　（５．　８ｍｍｏｌ）と４−ジメチルアミノ
ビリジン０．３ｇを触媒として、ｌ晩室温で攪拌するこ
とにより反応させた。

白色沈澱を濾過後、ヘキサンー酢酸エチル（８：２）を
展開溶媒として、分ｉ精製後、再結晶し、４’　−　｛
（Ｓ，Ｓ）−２．３−エポキシヘキンルオキシ｝フエニ
ルー４−（アクリロイルウンデカノキシ）ペンゾエート
を得た。

収量　＋　　１．３ｇ（２．４ｍｍｏｌ）収率　：５０
％化合物の相転移温度（１）ｋ５５ＳｍＡ７ｌｃｈ７７ｉ実施例３４−ヒドロキシ安息香酸２０，　Ｏｇ　（１５０＋ｎｍ
ｏ　ｌ）をエタノール６０−に入れ、水酸化ナ｝　ＩＪ
ウム１２．　５ｇを水５５一に溶かした水溶液を加え、
加熱攪拌をした。その後、６−クロロヘキサノール１５
．　４ｇ（１１０ｍｍｏｌ）を滴下し、２０時間加熱攪
拌を続けた。

反応終了後、室温まで冷却し、溶液のｐＨがＩＪ　｝マ
ス紙で５〜６程度になるまで塩酸を加えた。得られた白
色の粗品を水で洗浄後、エタノールから再結晶した。

収量＋　　１８．８ｇ（８０ｍｍｏｌ）収率：７３％ｍ，　ｐ，　：　　１３１〜１３６℃ ４−（６−　７クリロイルへキシルオキシ）安息香酸の
合戊４−ヒドロキシヘキシル才キシ安息香酸１６，　Ｏｇ　
（７０ｍｍｏｌ）をベンゼン２１０　ｍ！！に加えた後
、ハイドロキノン２．４ｇ，　ｐ４ルエンスルホン酸８
．　０ｇ，及びアクリル酸１５。Ｏｇ（２１０ｍｍｏｌ
）を加え、加熱攪拌を行って、脱水反応をさせ、エステ
ルを合或した。反応時間は１２時間で、反応溶液を冷却
後、エーテルを加え、温水さらには水で水溶性化合物を
取りのぞき、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。３
週間後溶媒を除去し、次いでクロロホルムーヘキサン系
で再結晶した。

収量：　　ｌＯ．ｏｇ（３４ｍｍｏｌ＞収率：５１％ｍ，ｐ、＝８１〜８３℃ ベンジルオキシフェノール１０．　０ｇ　（５０ｍｍｏ
　１）をテトラヒドロフラン１５０−に溶かした後、２
−ヘキセノール５．０ｇ（５０ｍｍｏｌ），　　トリフ
エニルホスフィン１３、１．８（５０ｍｍｏｌ）を加え
、室温で攪拌した。ジェチルアゾジ力ルポキシレー｝　
８．　７ｇ（５０＋ｙ＋ｍｏｌ）を滴下し、２４時間攪
拌を続け、シリカゲルカラムで分離精製し、酢酸エチル
ーヘキサン系で再結晶した。

収量：　　８．８ｇ（３１．１ｍｍｏｌ）収率：６２％ｍ．ｐ．：　　７２．０〜７４．０℃ ４−・ペンジルオキシ−４’−（２−ヘキシルオキシ）
フェニルエーテル４．　７ｇ　（１６．　６ｍｍｏｌ）
をベンゼン８０−に溶かし，、ｐ−クロロハイドロバー
オキシ安息香酸２．４ｇ　（１９＋ｎｍｏ！）を加え、
攪拌した。室温で６時間攪拌後、１２時間冷蔵庫に保存
した。沈殿物質を濾過後、１０％Ｎａ２Ｓ２０ｓ水溶液
、５％Ｎａ２ＣＤ．水溶液、及び水でそれぞれ洗浄し、
有機層を再結晶した。

収量：　　３．Ｏｇ（１０．０ｍｍｏｌ＞収率：６０％ｍ．ｐ．：　　７２．０〜７４．０℃ ルの合成４−ペンジルオキシ−４’　−　｛（２．３−エポキシ
）へキシルオキシ｝フエニルエーテル３．　０ｇ　（１
０．　０ｍｍｏ　１）を、パラジウム／カーボンを触媒
とし、酢酸エチル溶液中において水素の存在下で還元し
た。

得られた生或物をシリカゲルカラムで分離精製後、再結
晶した。

収１　：　１．　６ｇ（７．　７ｍｍｏｌ）収率：７７
％ｍ，　ｐ，　：　５６．　０〜５７．５℃トの合或アクリロイルへキシルオキシ安息香酸２．　３ｇ　（７
．　８ｍｍｏｌ）と、上で得た４−｛（２．３−エポキ
シ）へキシシルオキシ｝フェノール１．　６ｇ　（７．
　７ｍｍｏｌ）とを、塩化メチレン中、ジシクロへキシ
ル力ルポジイミドと４−ジメチルアミノビリジンを触媒
として、脱水反応を行い、目的とする４’　−　（Ｃ２
．３−エポキシ）へヰシルオキシ｝フエニルー４−（ア
クリロイルヘキシルオキシ）ペンゾエートを生成し、シ
リカゲルカラムで分離精製し、クロロホルムーヘキサン
系テ再結晶した。

収ｉｔ　：　０．　８ｇ（１．　７ｍｍｏｌ）収率：２
２％化合物の相転移温度（℃）Ｋ　２３　ＳｍＡ　６０　Ｎ　７６ｉ実施例４４−ヒドロキシ安息香酸２１．　３ｇ（１６０ｍｍｏｌ
）をエタノール６０ｒｎｌに溶かし、ＮａＯＨ　１３．
１ｇを水６０−に溶かした水溶液に加え、加熱攪拌した
。■−ブロモー１１−ウンデカノール３０．　０ｇ（１
２０ｍｍｏｌ）のエタノール溶液を加え、３０時間加熱
攪拌した。反応終了後、室温まで冷却し、反応溶液を塩
化水素水で酸性とし、濾過乾燥後、粗結晶をエタノール
から再結晶した。

収量：　２９．２ｇ（９５ｍｍｏｌ）収率二８０％ｍ．ｐ．　：　１００〜１０４℃ アクリロイルウンデカノキシ安息香酸の合戊上で得られ
た化合物１０．　０ｇとアクリル酸を、ベンゼン中にお
いて、ｐ一トルエンスルホン酸を触媒とし７て、ｌ２時
間加熱攪拌して反応させ、温水及び水で洗浄後、硫酸マ
グネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾過により
取り除いた後、濾液をクロロホルム／ヘキサン系より再
結晶した。

収量＋２１．３ｇ収率：９０％ｍ．　ｐ．：　７ｇ．　５〜８０℃ の合成上で得たアクリロイルウンデヵノキシ安息香酸２．　８
ｇ　（７．７＋ｍｍｏｌ）と、実施例１と同様に合成し
た４′−｛（２．３−エポキシ）へキシルオキシ｝フェ
ノール１．　６ｇ　（７．　７ｍｍｏｌ＞とを、塩化メ
チレン中におイテ、ジシクロへキシル力ルポジイミド１
．　９ｇ　（９．　２ｍｍｏｌ）とジメチルアミノビリ
ジン０．３ｇを触媒として、１２時間反応させた。

肉色沈澱物を濾過後、酢酸エチルーヘ牛サンを展開溶媒
とし、シリカゲルカラムで分離精製した。

収量：　１．　３ｇ（２．　３ｍｍｏｌ）収率：３０％化合物の相転移温度（１）ｋ　５６　ＳｍＡ　７３　Ｎ　７７ｒＫ：　　結晶相実施例５液晶性ポリマーの製造実施例３で得た４　’　−　（（Ｓ，Ｓ）−２．３−エ
ポキシヘキシル才キシ）フエニルー４−（アクリロイル
へキシル才キシ）ペンゾエート１００．　７ｍｇを、脱
水精製したトルエン１．０社中で、アゾビスイソブチロ
ニトリル１．．Ｏｍｇを開始剤として用い、７０℃で４
０時間ラジカル重合した。得られた重合物をクロロホル
ムーメタノールから３回再沈揉作を行い、精製した。

収量　：　　７７．６ｍｇ収率　：７７％ポリマーの数平均分子量　：　　８６００ポリマーの重
量平均分子量：　　１２８００（ボリスチレン換算）ポリマーの相転移温度（１＞ｋ　５１　Ｓ　１０９　ｃｈ　１２６ｉ実施例６液晶性ポリマーの製造実施例３で得た化合物（液晶性モノマーＩ’）クロロホ
ルムに溶解し、ポリエチレンテレフタレートフィルム上
に流延し、乾燥後１００℃で加熱し、溶融した。

その後、室温まで徐冷し、目的とするキャストフィルム
を得た。

日新ハタボルテージ■製リニアフィラメント型電子線照
射装置を用い、窒素雰囲気下室温で、加速電圧１７５ｋ
Ｖ　、掃引速度１０ｍ／ｍｉｎ　，照射線量１０Ｍｒａ
ｄの条件で、重合した。

得られたポリマーをＴＨＦで抽出し、未反応のモノマー
を除去し、精製した。

得られたポリマーは不溶性のゲルであった。

収量　：　　２８．１ｍｇ収率　：９０％ポリマーの相転移温度　　（１）ｋ　５８　Ｓ　１１４　ｎ　１３２ｉ実施例７液晶性ポリマーの製造実施例４で得た４　’　−　（　（Ｓ，　Ｓ）−２．　
３−エポキシヘキシル才キシ｝フェニルー４−（アクリ
ロイルウンデカノキシ）ペンゾエート４０２．　１ｍｇ
を、トルエン４．０一中で、アゾビスイソブチロニ｝　
ＩＪル４．　５ｍｇを開始剤として、７０℃で２４時間
重合した。得られたポリマーをクロロホルムーメタノー
ルから再沈操作を３回行い、精製した。

収量　＋　　２０２．５ｍｇ収率　：５０％ｋ　８８　ｎ　１３０ｉ〔発明の効果〕以上詳述した通り、本発明の液晶性七ノマーは、液晶温
度範囲において良好な液晶性を示す。従って、この温度
範囲に設定すると、分子は配向し、固体状態でも著しく
高い重合反応性を示す。従って、放射線のエネルギーが
低くてもコーティング等の加工のスピードアップが計ら
れる。また放射線照射によりエポキシ基の架橋反応も同
時に起こるので、熱安定性が向上する。

本発明の液晶性モノマーを重合することにより得られる
液晶性ポリマーは、側鎖にメソゲン基を有するので、良
好な液晶性を示す。またエポキシポリマーとしての性質
も有する液晶性ポリマーとすることもできる。

このような本発明の液晶性ポリマーは、その液晶性を利
用して、書き込み可能な記録材料（レーザーにより分子
の配合をこわし、それを検出する）　Ｄ体とＬ体の分離
膜｛光学活性を利用｝サーモクロミック材料等に使用す
ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、Ｒは炭素数ｍのアルキル基にエポキシ基が結
合したもので、ｍは３〜６の整数であり、ｎは４〜１１
の整数である。）により表される放射線重合可能な液晶性モノマー。
（２）請求項１に記載の放射線重合可能な液晶性モノマ
ーにおいて、下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、ｎは４〜１１の整数である。）を有することを特徴とする液晶性モノマー。
（３）請求項２に記載の液晶性モノマーにおいて、前記
一般式が下記の通りであり、エポキシ基が光学活性を示
すことを特徴とする液晶性モノマー。 ▲数式、化学式、表等があります▼
（４）下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、Ｒは炭素数ｍのアルキル基にエポキシ基が結
合したもので、ｍは３〜６の整数であり、ｎは２〜１１
の整数である。）により表される繰り返し単位を有することを特徴とする
液晶性ポリマー。
（５）請求項４に記載の液晶性ポリマーにおいて、前記
繰り返し単位が下記一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （ただし、ｎは２〜１１の整数である。）を有することを特徴とする液晶性ポリマー。
（６）請求項５に記載の液晶性ポリマーにおいて、前記
一般式が下記の通りであり、エポキシ基が光学活性を示
すことを特徴とする液晶性ポリマー。 ▲数式、化学式、表等があります▼