JP2001323266A

JP2001323266A - コレステリック性液晶組成物、配向フィルムおよび多色反射板

Info

Publication number: JP2001323266A
Application number: JP2000147227A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Yoshioka; 昌宏吉岡; Shusaku Nakano; 秀作中野; Sadahiro Nakanishi; 貞裕中西; Shu Mochizuki; 周望月
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2000-05-19
Filing date: 2000-05-19
Publication date: 2001-11-22

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】耐熱性に優れ、しかも多色反射板等に利用で
きるモノドメイン配向フィルムを形成しうるコレステリ
ック性液晶組成物の提供。【解決手段】一般式ａ１、ａ２及びａ３の繰り返し単位
を有する架橋性コレステリック性液晶ポリマー及び一般
式ｂのコレステリック性を付与するモノマーを含有して
なるコレステリック性液晶組成物。（Ｒ^１は水素またはメチル基を、ＡとＤは独立して環状
系官能基を、Ｘは独立して−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基
または−Ｏ−基を、ＬとＪは活性光源により変性ないし
失活しない光学活性基を、Ｅはシアノ基、アルキル基、
アルコキシ基、ヒドロキシ基、塩素またはフッ素を、ｒ
は２〜６の整数を、ｗは２〜６の整数を示す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、コレステリック性
液晶組成物、配向フィルムおよび多色反射板に関する。
本発明のコレステリック性液晶組成物は、配向架橋処理
されてモノドメイン配向フィルムとなり各種光学フィル
ム等に用いうる。特に、配向フィルムの調製にあたっ
て、光学活性基の含有量を制御したモノドメイン配向フ
ィルムは、多色反射板として有用である。

【０００２】

【従来の技術】反射型液晶表示装置は、透過型液晶表示
装置と比較するとバックライトが不要であるという大き
な特徴を有するため、当該表示装置を薄く、軽くするこ
とが可能であり、しかもバックライトに必要な消費電力
を削減することができる。かかる特徴は、液晶表示装置
を備え、電源の容量が限られた携帯用の機器類、とりわ
け携帯用のノートパソコンの表示装置としての利用価値
が大きい。

【０００３】この反射型表示装置においては、透過型液
晶表示装置に準じてカラー表示化を達成することが要求
されている。これまでは反射型表示装置においても透過
型液晶表示装置で使用されているカラーフィルターを用
いたカラー化技術が採用されていた。しかし、かかるカ
ラー化技術を用いた反射型液晶表示装置は表示が暗く、
視認性に乏しいものであることから、別個のカラー化技
術が求められている。

【０００４】このような反射型液晶表示装置における新
たなカラー化技術としては、液晶の複屈折による着色変
化（ＥＣＢモード）を利用したものが提案されている。
しかしながら、このカラー化技術は、表示色やその色数
が限定されていて、多色カラー性に乏しく、また色純度
にも劣って鮮明性に乏しい難点があった。

【０００５】一方、低分子量の液状コレステリック性液
晶による選択反射性を利用したカラー化技術も提案され
ている（Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｄ：Ａｐｐl ．Ｐｈｙｓ．，ｖ
ｏｌ．８，１４４１；１９７５）。しかしながら、この
カラー化技術では、液状の液晶を用いるため、液晶表示
装置が、液晶をガラス基板間等に挟持した構造となって
重くて厚いものとなり、反射型の液晶表示装置には不向
きであると共に、液晶の流動性が色区画の固定性を低下
させ、また熱により色特性が変化しやすいという問題が
あった。

【０００６】他方、リオトロピック型の液晶ポリマーを
モノマーに溶解させて、それを温度制御下に活性光線を
使用して重合固定化したフィルムも提案されている（特
開昭５９−８３１１３号公報）。しかしながら、この技
術では、色制御を温度によって行う必要があること、ま
た液晶ポリマーがリオトロピック性のためにフィルム形
成時に基板挟持構造とすることが必要であること等のた
め、赤色領域、緑色領域、青色領域等の色区画を微細化
することが困難であると共に大面積化や量産化も困難で
あった。

【０００７】上記の問題を解消すべく、特開平１０−５
４９０５号公報には、シッフ塩基を有するコレステリッ
ク性液晶ポリマーに光酸発生剤を添加し、紫外線等の活
性光線の照射にて発生した酸により、シッフ塩基を切断
等してコレステリック性液晶ポリマーの面内でのコレス
テリックピッチを制御した多色反射板、並びにその製造
方法が提案されている。この技術は、表示色や色数の制
御が容易で色純度に優れ、反射型液晶表示装置における
鮮明で豊富な多色カラーによる良視認性の表示が達成で
き、しかも軽くて薄く、色区画の固定性に優れ、色特性
が実用温度で変化しにくい光学素子を製造することがで
きる。

【０００８】しかしながら、上記多色化処理工程によ
り、光学活性基の含有量を調整してコレステリック性液
晶ポリマーの面内でのコレステリックピッチを制御し
て、十分な選択反射色を達成するためには、コレステリ
ック性液晶ポリマーがシッフ塩基などの結合基を有する
ことが不可欠ではあるものの、シッフ塩基などの結合基
を有するコレステリック性液晶ポリマーは、加熱配向時
における熱的安定性等の性質が十分でないため、多色反
射板における一定の品質を保持することが難しい。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は、耐
熱性に優れ、しかも多色反射板等に利用できるモノドメ
イン配向フィルムを形成しうるコレステリック性液晶組
成物を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく、鋭意研究した結果、以下に示すコレステ
リック性液晶組成物により、前記目的を達成できること
を見出し、本発明を完成するに至った。

【００１１】すなわち、本発明は、一般式（ａ１）：

【化９】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−
基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｅはシアノ基、ア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、塩素原子また
はフッ素原子を、ｇは２〜６の整数を示す。）で表され
る繰り返し単位、一般式（ａ２）：

【化１０】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘはそれぞれ独立
して−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｇ
は架橋基を、ｈは２〜６の整数を、ｋは０〜６の整数を
示す。）で表される繰り返し単位、および、一般式（ａ
３）：

【化１１】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、それぞれ独立して
Ｘは−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｌ
は活性光線により変性ないし失活しない光学活性基を、
ｒは２〜６の整数を示す。）で表される繰り返し単位を
有する架橋型コレステリック性液晶ポリマー（ａ）、な
らびに、一般式（ｂ）：

【化１２】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−
基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｊは活性光線によ
り変性ないし失活する光学活性基を、ｗはそれぞれ独立
して２〜６の整数を示す。）で表されるコレステリック
性を付与するモノマー（ｂ）を含有してなるコレステリ
ック性液晶組成物、に関する。

【００１２】前記本発明の液晶組成物は、コレステリッ
ク性液晶ポリマー（ａ）が架橋型であり、配向後におけ
る後架橋によって、液晶性を維持した架橋形態の液晶ポ
リマーが得られることから、耐熱性が向上するため熱的
安定性がよい。

【００１３】また、前記架橋型コレステリック性液晶ポ
リマー（ａ）の光学活性基（Ｌ）は活性光線に対し安定
なものであり、一方、コレステリック性を付与するモノ
マー（ｂ）の光学活性基（Ｊ）は活性光線に対し活性で
不安定なものである。このように本発明の液晶組成物
は、活性光線に対する安定性の異なる光学活性基によっ
て、選択反射特性に関わる光学活性基の有効成分含有量
の制御が可能であり、多色反射板等に利用できるモノド
メイン配向フィルムを形成しうる。なお、前記一般式
（ａ）および一般式（ｂ）中の光学活性基に係わる変性
ないし失活とは、光学活性基の結合基の切断や構造変
化、異性化や転移などにより光学活性基がグランジャン
配向における螺旋ピッチの形成に有効に寄与しない状態
となることを意味する。

【００１４】かかる本発明のコレステリック性液晶組成
物は、たとえば、ガラス転移温度以上に加熱後冷却する
方式にて配向処理でき、常法により架橋処理することに
より液晶ポリマー化できる。したがって、従来のコレス
テリック性液晶組成物に準じ、低温での配向架橋処理に
より、耐熱性に優れる配向フィルムの大面積体も容易に
効率よく製造することができる。また、本発明の液晶組
成物、配向フィルムは、活性光線に対し活性で不安定な
光学活性基の割合が制御されているため、雰囲気中や溶
媒中の酸性不純物に対する安定性、溶液安定性にも優れ
る。

【００１５】前記一般式（ａ１）、一般式（ａ２）、一
般式（ａ３）、一般式（ｂ）においてＡおよびＤは環状
系官能基であれば特に制限されないが、コレステリック
性液晶組成物の配向性を考慮すると、環状系官能基とし
ては、下記一般式、

【化１３】で表される環状系官能基のいずれかであることが好まし
い。

【００１６】また、一般式（ａ２）においてＧは架橋基
であれば特に制限されないが、常態において比較的安定
性が高く、また従来の架橋処理で比較的容易に解裂し架
橋反応を起こしうるの点で、下記一般式、

【化１４】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を示す）で表さ
れる架橋基のいずれかであることが好ましい。これら架
橋基のなかでも、脂環系の架橋基が、ポリマーの重合時
に架橋するおそれがないため合成が容易な点で好まし
い。

【００１７】また、一般式（ａ３）におけるＬ（活性光
線により変性ないし失活しない光学活性基）は、一般
式、

【化１５】（各式中、ｔ，ｕは、０≦ｔ≦５、１≦ｕ≦６、かつｔ
＋１≦ｕを満足する整数を示す）で表される光学活性基
（ｌ）のいずれかであることが好ましい。このような光
学活性基（ｌ）は、活性光線に対して活性なシッフ塩基
等の連結基を含まず、溶液安定性や配向時の熱的安定性
に優れ、耐熱性が向上する。

【００１８】また、前記一般式（ｂ）において、Ｊ（活
性光線により変性ないし失活する光学活性基）は、一般
式、

【化１６】（各式中、Ｒ² はフェニル基、ビフェニル基、１−ナフ
チル基または２−ナフチル基を示し、Ｒ³ はメチル基、
フェニル基またはカルボキシメチル基を示し、Ｒ ⁴ はメ
チル基、ベンジル基またはｔ−ブチル基を示す。＊は不
斉炭素原子を示す。）で表される光学活性基（ｊ）のい
ずれかであることが好ましい。このような光学活性基
（ｊ）により、光学活性基の有効成分含有量を容易に制
御でき、選択反射特性を向上させうる。

【００１９】本発明の配向フィルムは、前記コレステリ
ック性液晶組成物に配向処理および架橋処理を施して得
られるものである。配向フィルムはモノドメイン配向を
有する。本発明の配向フィルムは、大面積のものを容易
に効率よく製造でき、しかも架橋されているため耐熱性
に優れている。

【００２０】また、前記配向フィルムを多色反射板に適
用するには、前記コレステリック性液晶組成物に、複数
の領域ごとに制御された活性光線を順次又は同時に照射
して、当該コレステリック性液晶組成物中の光学活性基
の有効含有量が異なる複数の領域を形成し、その後又は
それと同時にコレステリック性液晶組成物を配向処理し
て前記領域ごとに反射波長の異なる反射領域を形成する
多色化処理工程を行った後、さらに架橋処理を施す。か
かる製造方法により、耐熱性に優れた多色反射板が得ら
れる。

【００２１】

【発明の実施の形態】前記架橋型コレステリック性液晶
ポリマー（ａ）、コレステリック性を付与するモノマー
（ｂ）は、任意の方法で合成できる。

【００２２】架橋型コレステリック性液晶ポリマー
（ａ）は、前記一般式（ａ１）、一般式（ａ２）および
一般式（ａ３）で表される繰り返し単位を有する共重合
体であり、たとえば、かかる繰り返し単位に対応するモ
ノマー、すなわち、ネマチック性液晶モノマー（ａ
１）、架橋型ネマチック性液晶モノマー（ａ２）とコレ
ステリック性を付与するモノマー（ａ３）を共重合する
ことにより合成できる。なお、一般式（ａ２）で表され
る繰り返し単位中の架橋基は、前記の通り、架橋型ネマ
チック性液晶モノマー（ａ２）を共重合する方法により
共重合体中に導入できる他、当該架橋基を導入しうるモ
ノマーを共重合した後に、当該架橋基を導入する方法に
より共重合体中に導入することもできる。

【００２３】共重合体の調製は、例えばラジカル重合方
式、カチオン重合方式、アニオン重合方式などの通例の
アクリル系モノマーの重合方式に準じて行うことができ
る。なお、ラジカル重合方式を適用する場合、各種の重
合開始剤を用いうるが、そのうちアゾビスイソブチロニ
トリルや過酸化ベンゾイルなどの分解温度が高くもな
く、かつ低くもない中間的温度で分解するものが好まし
く用いられる。

【００２４】また、共重合体中の架橋型ネマチック性液
晶モノマー（ａ２）の共重合割合は、共重合体を構成す
るモノマーの１〜３０モル％程度とするのが好ましい。
架橋型ネマチック性液晶モノマー（ａ２）の割合が少な
くなると高耐熱性を得るのに十分な架橋を起こすために
は、前記共重合割合は５モル％以上とするのがより好ま
しい。一方、架橋型ネマチック性液晶モノマー（ａ２）
の割合が多くなると液晶としての配向性に支障をきたす
おそれがあるため、前記共重合割合は１５モル％以下と
するのがより好ましい。

【００２５】また、共重合体を構成するモノマーの架橋
型ネマチック性液晶モノマー（ａ２）以外が、ネマチッ
ク性液晶モノマー（ａ１）とコレステリック性を付与す
るモノマー（ａ３）になるが、ネマチック性液晶モノマ
ー（ａ１）とコレステリック性を付与するモノマー（ａ
３）の使用割合は、モル比で、（ａ１）：（ａ３）＝９
７：３〜５０：５０が好ましく、９５：５〜６５：３５
がより好ましい。コレステリック性を付与するモノマー
（ａ３）の使用割合が過少であれば、液晶相のコレステ
リック性に乏しくなるおそれがあり、また過多であれば
液晶混合物の液晶性に乏しくなるおそれがある。

【００２６】架橋型コレステリック性液晶ポリマー
（ａ）の分子量は、重量平均分子量に基づき２千〜１０
万程度とするのが好ましい。分子量が小さくなると、非
流動層としての成膜性に乏しくなるため２．５千以上と
するのがより好ましい。また、分子量が大きくなると、
液晶としての配向性、特にラビング配向膜等を介したモ
ノドメイン化に乏しくなって均一な配向状態を形成しに
くくなることより、５万以下とするがより好ましい。

【００２７】以下に、下記式（α）で表わされる架橋型
コレステリック性液晶ポリマー（ａ）の合成例の一例を
下記化１７、化１８に示す。

【００２８】

【化１７】

【化１８】すなわち、ネマチック性液晶モノマー（ａ１）は、たと
えば、４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安息香
酸と４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニルを、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（式中、ＤＣＣ）とジメチ
ルアミノピリジン（式中、ＤＭＡＰ）の存在下にエステ
ル化することによりを得ることができる。

【００２９】また、架橋型ネマチック性液晶モノマー
（ａ２）は、たとえば、４−（４’−ヒドロキシフェニ
ル）安息香酸を水酸化ナトリウム水溶液中、クロロ炭酸
メチルを加え室温で撹拌して水酸基を保護した後、１，
２，５，６−テトラヒドロベンジルアルコールを反応さ
せてテトラヒドロベンジル基を導入し、その後２５％ア
ンモニア水／テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）＝１／１０
の（重量比）混合液中で加熱還流し保護基を切断し、さ
らに４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安息香酸
を加え、ＤＣＣとＤＭＡＰの存在下にエステル化するに
より得ることができる。

【００３０】また、コレステリック性を付与するモノマ
ー（ａ３）は、たとえば、イソソルビドをＴＨＦ中、ｐ
−トルエンスルホン酸とジヒドロピラン（ＤＨＰ）を加
え温室で撹拌して片側の水酸基のみを保護した後、これ
をｐ−シアノ安息香酸とＤＣＣおよびＤＭＡＰ存在下に
エステル化反応させ、次いで塩酸／ＴＨＦ溶液中で撹拌
して保護基を切断した後、４− (２−プロペノイルオキ
シエトキシ）安息香酸とＤＣＣおよびＤＭＡＰ存在下に
エステル反応することにより得ることができる。

【００３１】そして、これらのモノマーをアゾビスイソ
ブチロニトリル（式中、ＡＩＢＮ）触媒下で共重合する
ことによって、化学式（α）で表わされる架橋型コレス
テリック性液晶ポリマー（ａ）を得ることができる。な
お、化１８中のｌ、ｍ、ｎはポリマー中の各繰り返し単
位の割合を示し、｛ｍ／（ｌ＋ｍ＋ｎ）｝＝０．０１〜
０．３を、ｌ：ｎ＝９７：３〜５０：５０を満足するも
のであり、便宜的にブロック共重合体で表したが、前記
一般式（ａ１）、一般式（ａ２）および一般式（ａ３）
で表される繰り返し単位はブロック型、ランダム型のい
ずれでもよい。

【００３２】かかる前記式（α）の構造は本発明におけ
る架橋型コレステリック性液晶ポリマー（ａ）の一例で
あり、本発明における架橋型コレステリック性液晶ポリ
マー（ａ）が前記式（α）に限定されるものではない。

【００３３】なお、ネマチック性液晶モノマー（ａ
１）、架橋型ネマチック性液晶モノマー（ａ２）および
コレステリック性を付与するモノマー（ａ３）の合成に
用いた、４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安息
香酸の合成は、下記化１９に示す通りエチレンクロロヒ
ドリンと４−ヒドロキシ安息香酸をヨウ化カリウムを触
媒としてアルカリ水溶液中で加熱還流させて、ヒドロキ
シカルボン酸を得た後、それをアクリル酸と脱水反応さ
せて得ることができる。

【００３４】

【化１９】また、下記式（β）で表わされるコレステリック性を付
与するモノマー（ｂ）の合成例の一例を下記化２０に示
す。

【００３５】

【化２０】すなわち、４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安
息香酸と４位にシッフ塩基を介して光学活性基を有する
フェノールを、ＤＣＣおよびＤＭＡＰ触媒存在下でエス
テル化することによりコレステリック性を付与するモノ
マー（β）を合成できる。

【００３６】前記コレステリック性を付与するモノマー
（ｂ）の合成に用いた、４位にシッフ塩基を介して光学
活性基を有するフェノールは、例えば下記化２１のよう
に、４−ヒドロキシベンズアルデヒドと（Ｓ）−（−）
−１−フェニルエチルアミンをトルエン中で共沸脱水す
ることにより得ることができる。

【００３７】

【化２１】かかる前記式（β）の構造は本発明におけるコレステリ
ック性を付与するモノマー（ｂ）の一例であり、本発明
におけるコレステリック性を付与するモノマー（ｂ）が
前記式（β）に限定されるものではない。

【００３８】液晶組成物中、架橋型コレステリック性液
晶ポリマー（ａ）の組成割合は、過少だと液晶性に乏し
くなり、配向できないおそれがあるため、５０〜９５重
量％程度とするのが好ましい。さらには、架橋型コレス
テリック性液晶ポリマー（ａ）の含有量は、６５〜９０
重量％とするのがより好ましい。

【００３９】また、液晶組成物中、コレステリック性を
付与するモノマー（ｂ）の割合は、架橋型コレステリッ
ク性液晶ポリマー（ａ）の残部となるが、コレステリッ
ク性を付与するモノマー（ｂ）の割合は、架橋型コレス
テリック性液晶ポリマー（ａ）を構成するコレステリッ
ク性を付与するモノマー（ａ３）に対し、通常、１０〜
１０００モル％程度、さらには３０〜３００モル％にな
るように調製するのが好ましい。コレステリック性を付
与するモノマー（ｂ）が過多の場合、溶液安定性や熱的
安定性に劣る光学活性基が選択反射波長制御後にも残存
することとなり、好ましくない。一方、過少になると、
単色用に用いる場合には特に問題はないが、選択反射光
を多色化して用いる場合には選択反射波長を制御できる
範囲が極端に小さくなり、多色反射板の作製上好ましく
ない。

【００４０】なお、本発明のコレステリック性液晶組成
物は、前記液晶ポリマー（ａ）、液晶モノマー（ｂ）を
各種用途に応じて適宜に選択し、上記方法に準じて合成
したものから調製するが、本発明の目的を損なわない範
囲で、前記液晶モノマー以外の液晶モノマーや、液晶ポ
リマーを含有することができる。

【００４１】本発明のコレステリック性液晶組成物は、
配向処理および架橋処理が施されてモノドメイン配向を
有する配向フィルムとなる。

【００４２】配向処理は、従来の光学素子の形成に準じ
たは配向処理方法で行いうる。たとえば、コレステリッ
ク性液晶組成物の溶液を配向処理面上に展開して乾燥
後、加熱処理して配向層を形成する。

【００４３】前記の液晶組成物溶液の調製に際して用い
る溶媒としては、前記液晶ポリマー（ａ）、モノマー
（ｂ）を溶解しうるものであれば特に限定はなく、この
ようなものを適宜に選択して用いることができる。たと
えば、１，１，２，２−テトラクロロエタン、シクロヘ
キサノン、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロ
フラン等があげられる。これらの溶媒は単独溶媒や混合
溶媒として用いられる。

【００４４】配向処理面としては、例えば低分子液晶化
合物の配向処理に使用されている公知のものを用いるこ
とかできる。たとえば、基材上にボリイミドやポリビニ
ルアルコール等からなる薄膜を形成して、それをレーヨ
ン布等でラビング処理したものや、酸化珪素等を斜方蒸
着したもの、あるいは延伸フィルムなどがあげられる。
基材等としては、液晶組成物を配向させるための加熱処
理に耐えるものであれば特に制限されず、例えばガラス
板やポリマーシート、位相差板や偏光板等を適宜に選択
して用いうる。

【００４５】液晶組成物溶液の展開は、たとえば、その
溶液を、スピンコート法やロールコート法、フローコー
ト法やプリント法、デイップコート法や流延製膜法等の
方法で薄層展開し、それを乾燥処理して溶媒を除去する
方法などにより行うことができる。

【００４６】液晶組成物の展開層を配向させるための加
熱処理は、液晶組成物のガラス転移点から等方相を呈す
る溶融状態までの温度範囲に加熱することにより行うこ
とができる。なお、配向状態を固定化するための冷却条
件については特に限定はなく、通例前記の加熱処理を３
００℃以下で行いうることから、自然冷却方式が一般に
用いられる。

【００４７】配向処理を終えた展開層は、それを架橋処
理することにより配向架橋物とされるが、その架橋処理
は電磁波照射および加熱の一方、または両方により行う
ことができる。電磁波は、紫外線や電子線等の適宜なも
のを用いうるが、中でも開始剤を添加する必要が無く初
期配向性に影響の少ない電子線を好ましく用いうる。電
磁波の波長、照射量は適宜決めることができるが、紫外
線を用いる場合は液晶組成物の吸収のない３００ｎｍよ
り長波長の紫外線が好ましく、電子線を用いる場合は、
照射量が多すぎると液晶ポリマーが崩壊するので、系に
よるがおおむね１〜２００Ｍｒａｄ／ｃｍ² が好まし
い。

【００４８】配向後の架橋を引き起こすために用いうる
開始剤は架橋形態によって異なるが、いずれの場合も開
始剤の添加による配向処理物の着色が実用上問題のない
程度であることが望ましい。まず加熱のみによって架橋
を行う場合は、配向処理時に架橋が起らないよう、分解
温度の高い開始剤を用いる必要がある。次に電磁波架橋
のうち開始剤が必要な紫外線について言及すると、紫外
線照射のみ、もしくは加熱しながら紫外線照射によって
架橋を行ういずれの場合も、配向温度および架橋時の加
熱温度で分解するものは好ましくなく、液晶組成物の吸
収がある３００ｎｍより長波長の紫外線で分解する開始
剤であれば使用できる。例えば、２‐ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブ
タノン−１や、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノ
ン］などが好ましく用いられる。また添加する開始剤量
も適宜決めることができる。

【００４９】電磁波照射に際しては、酸素阻害による影
響を回避するため減圧下や無酸素下等で行うことが好ま
しい。なお加熱処理の場合、液晶組成物のガラス転移温
度より高く、等方相転移温度より低い温度範囲の中の適
宜な温度で加熱してよい。

【００５０】本発明の配向フィルムは、適宜な基材上に
配向処理した液晶層を有する形態や、配向処理した液晶
層の単独層からなるフィルム形態などの適宜な形態を有
するものであってよい。液晶単独層からなるフィルムは
配向処理面よりの剥離物として得ることができるが、そ
の剥離回収には、長鎖アルキル基等からなる剥離性側鎖
を有するラビング膜形成剤を用いる方式や、炭素数８〜
１８のアルキル鎖を有するシラン化合物を表面に結合修
飾させたガラス板に配向処理面を形成する方式などの適
宜な方式を必要に応じて適用することができる。

【００５１】一方、基材との重畳物からなる配向フィル
ムとする場合、その基材としては、プラスチックフィル
ムやガラス板、あるいはポリマーシート、位相差板等の
延伸フィルムや偏光板の如き光学フィルムなど適宜のも
のを用いうる。前記のプラスチックフィルムとしては、
例えばポリメチルメタクリレートやポリカーボネート、
ポリビニルアルコールやポリアクリレート、ポリプロピ
レンやその他のポリオレフィン、ポリスチレンなどの、
延伸フィルムを形成しうる光学的に透明なプラスチック
を適宜に選択して用いうる。なお、基材としては、ガラ
ス板やトリアセチルセルロースフィルムの如く複屈折に
よる位相差が可及的に小さいものが特に望ましい。

【００５２】なお、配向架橋処理した液晶層の厚さは、
使用目的に応じた光学特性などにより適宜に決定しうる
が、一般には柔軟性等の点より１００μｍ以下、就中５
０μｍ、特に１〜３０μｍとされる。

【００５３】このようにして得られた本発明の配向フィ
ルムは、円偏光二色性を示す光学フィルムとして、液晶
表示素子等の色補償板、光学位相板、コレステリックフ
ィルム、ノッチフィルター等の種々の光学フィルム用途
に有用なものである。

【００５４】また、本発明のコレステリック性液晶組成
物は、基材層に展開した液晶相に対し、複数の領域ごと
に制御された活性光線を順次又は同時に照射して、当該
コレステリック性液晶組成物中の光学活性基の有効含有
量が異なる複数の領域を形成し、その後又はそれと同時
にコレステリック性液晶組成物を配向処理して前記領域
ごとに反射波長の異なる反射領域を形成する多色化処理
工程を行った後、さらに架橋処理を施すことにより、コ
レステリック性液晶の選択反射特性を任意に設定した、
耐熱性に優れる多色反射板を製造できる。

【００５５】活性光線としては、光学活性基を変性ない
し失活させうる、例えば可視光線や紫外線、電子線やガ
ンマ線などの適宜な放射線を用いることが出来る。その
中でも、照射エネルギー等の点より水銀灯やエキシマレ
ーザー等を介した紫外線が好ましい。

【００５６】活性光線の照射により、コレステリック性
を付与するモノマー（ｂ）中の光学活性基（Ｊ）に係わ
るシッフ塩基等の結合基が切断され、光学活性基の有効
含有量が異なる複数の領域が形成され、コレステリック
性液晶の選択反射特性を任意に設定可能である。

【００５７】多色反射板の製造における配向処理、架橋
処理は、前記と同様の処理法を採用でき、配向処理は活
性光線の照射と同時に行うこともできる。なお、活性光
線の照射にあたっては、基材層に展開した液晶相を予め
配向処理しておくことにより、活性光線の照射後または
同時における配向処理を良好に行いうる。

【００５８】また、前記液晶組成物に光酸発生剤を配合
して非流動層とすることにより、結合基の切断に必要な
活性光線の照射量を減量できるが、かかる光酸発生剤を
添加した場合には、光学活性基に係わるウレタン結合や
−ＯＣＯＯ−結合においても切断が可能となる。その配
合量は、液晶組成物１００重量部に対し２５重量部以
下、就中０．１〜２０重量部、特に０．５〜１０重量部
が一般的であるが、これに限定されない。

【００５９】光酸発生剤としては、例えばトリアジン
類、芳香族スルホニウム塩類、芳香族ジアゾニウム塩
類、シアン酸エステル類、芳香族スルホン酸エステル
類、ニトロベンジルエステル類、芳香族スルファミド類
などの適宜なものを用いうる。就中、配合効果や液晶配
向への無影響性などの点より、トリアジン類や芳香族ス
ルホニウム塩類が好ましく用いうる。

【００６０】前記したトリアジン類の具体例としては、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（３’，４’
−ジメトキシフェニル）トリアジン、２，４−ビス（ト
リクロロメチル）−６−（４’−メトキシナフチル）ト
リアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ビ
ペロニルトリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチ
ル）−６−（４’−メトキシ−β−スチリル）トリアジ
ン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（３’−
クロロ−４’−メトキシ−β−スチリル）トリアジンな
どが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【００６１】また、芳香族スルホニウム塩類の具体例と
しては、下記の化学式で表されるものなどが挙げられ
る。

【００６２】

【化２２】

【実施例】以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実
施例等について説明する。

【００６３】製造例１（ネマチック性液晶モノマー（ａ
１）の合成）

【化２３】水酸化カリウム３００ｇをエタノール７００ｍｌと水３
００ｍｌの混合液に溶解し、その溶液に４−ヒドロキシ
安息香酸２７６ｇと触媒量のヨウ化カリウムを溶解させ
た後、加温状態でエチレンクロロヒドリン１７７ｇを徐
々に添加して約１５時間還流させた。得られた反応液よ
りエタノールを留去し、次いで水２Ｌ中に入れ、この水
溶液をジエチルエーテルで２回洗浄後、塩酸を添加して
酸性液とした。さらに沈殿物を濾別乾燥した後、エタノ
ールで再結晶し、４−（２−ヒドロキシエトキシ）安息
香酸２９８ｇを得た。

【００６４】次に、前記の４−（２−ヒドロキシエトキ
シ）安息香酸１８．２ｇをテトラヒドロフラン３００ｍ
ｌに溶解させた後、それにアクリル酸ビニル１９．５ｇ
とリパーゼＰＳ（天野製薬（株）製）１８．０ｇと少量
のｐ−メトキシフェノールを添加して４０℃で３時間撹
拌した。得られた反応液よりリパーゼＰＳを濾別後、そ
の濾液を減圧留去した。生成の固体を２−ブタノン／ヘ
キサン＝２／１（重量比）の混合溶媒で再結晶させて４
−（２−プロベノイルオキシエトキシ）安息香酸１７．
５ｇを得た。

【００６５】次に、４−（２−プロペノイルオキシエト
キシ）安息香酸９．４４ｇ、トリフルオロ酢酸無水物
８．３２ｍｌを塩化メチレン１００ｍｌ中にいれ、撹拌
しながら４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニル７．
８ｇを加え、室温で６時間反応させた。反応液に塩化メ
チレン３００ｍｌを加え、水、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した。濾過、濃縮後、アセトニトリル１５０ｍｌより
再結晶を行い、ネマチック性液晶モノマー１１．７ｇ
（化学純度＞９８％）を得た。

【００６６】製造例２（架橋型ネマチック性液晶モノマ
ー（ａ２）の合成）

【化２４】水２０００ｍｌに、水酸化ナトリウム８３．８６ｇおよ
び４−ヒドロキシ安息香酸１００ｇを溶解した溶液を氷
冷しておき、その中にクロロぎ酸メチル９１．１ｍｌを
撹拌しながら滴下した後、室温に戻しながら４時間撹拌
した。この溶液を水浴上で冷却しながら、この溶液に濃
塩酸約７０ｍｌを加えてｐＨ２〜３に調整し、析出した
結晶を濾過、水洗いして乾燥させた。さらに、イソプロ
パノール１０００ｍｌから再結晶し、４−メトキシカル
ボニルオキシ安息香酸９４．０ｇ（収率６６，２％、化
学純度＞９９％）を得た。

【００６７】４−メトキシカルボニルオキシ安息香酸４
０．０ｇおよびジメチルホルムアミド１．５０ｍｌを脱
水クロロホルム４００ｍｌ中に入れ、系を窒素置換して
おき、４０℃で撹拌しながら塩化チオニル１９．３４ｍ
ｌを滴下した。そのまま２時間撹拌した後、溶媒と過剰
の塩化チオニルをトラップを用いて留去し、さらに脱水
テトラヒドロフラン２０．０ｍｌを加えて結晶を溶解さ
せてから留去する洗浄操作を２回繰り返した。これに脱
水テトラヒドロフラン１００ｍｌを加え、さらに氷浴上
で１，２，５，６−テトラヒドロベンジルアルコール２
５．２ｇ、トリエチルアミン２２．７ｇおよびジメチル
アミノピリジン触媒量を脱水テトラヒドロフラン１００
ｍｌに溶解した溶液を滴下し、室温で一晩撹拌した。ト
リエチルアミン塩酸塩を濾別し、テトラヒドロフランを
２／３程度留去した後、塩化メチレン５００ｍｌで希釈
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、２モル／ｌ塩酸、
飽和食塩水で有機相を洗い、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を留去した。クロロホルムを溶媒としたシリ
カゲルカラムにより精製し、４−メトキシカルボニルオ
キシ安息香酸テトラヒドロベンジルエステル５８．８ｇ
（収率９９．３％、化学純度＞９７％）を得た。

【００６８】４−メトキシカルボニルオキシ安息香酸テ
トラヒドロベンジルエステル５８．８ｇ、テトラヒドロ
フラン７００ｍｌ、２５％アンモニア水７０ｍｌをフラ
スコに仕込み、室温で１時間撹拌した。反応液を濃塩酸
で中和し、濾過した後、溶媒を留去した。塩化メチレン
２０００ｍｌを加え、有機相を水１０００ｍｌで２回洗
った後、溶媒を留去して４−ヒドロキシ安息香酸テトラ
ヒドロベンジルエステル３７．８ｇ（収率８０．４％、
化学純度＞９５％）を得た。

【００６９】４−メトキシカルボニルオキシ安息香酸１
４．８ｇ、４−ヒドロキシ安息香酸テトラヒドロベンジ
ルエステル１８．４ｇ、ジメチルアミノピリジン触媒量
および塩化メチレン３３０ｍｌをフラスコに仕込み、撹
拌しながら、これにジシクロヘキシルカルボジイミド１
７．１ｇを塩化メチレン３０ｍｌに溶解した溶液を３０
分かけて滴下した。そのまま室温で２０分撹拌し、反応
液を濾過した後、有機相を０．５モル／ｌ塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去して、４−メトキ
シカルボニルオキシ安息香酸−ｐ−テトラヒドロベンゾ
キシカルボニルフェニルエステル３４．１ｇ（収率＞９
９％、化学純度８８％）を得た。

【００７０】４−メトキシガルボニルオキシ安息香酸−
ｐ−テトラヒドロベンゾキシカルボニルフェニルエステ
ル３４．１ｇ、テトラヒドロフラン５００ｍｌおよび２
５％アンモニア水５０ｍｌをフラスコに仕込み、室温で
１時間撹拌した。反応液を濾過し、溶媒を留去した後、
塩化メチレン５００ｍｌを加え、有機相を水５００ｍｌ
で２回洗った後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去して４−ヒドロキシ安息香酸−ｐ−テトラヒドロ
ベンゾキシカルボニルフェニルエステル２７．７ｇ（取
率９７．１％、化学純度９３％）を得た。

【００７１】４−ヒドロキシ安息香酸−ｐ−テトラヒド
ロベンゾキシカルボニルフェニルエステル２７．３ｇ、
４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）安息香酸１
９．２ｇ、ジメチルアミノピリジン触媒量、ブチルヒド
ロキシトルエン（重合禁止剤）少量および塩化メチレン
５００ｍｌをフラスコに仕込み、撹拌しながら、これに
ジシクロヘキシルカルボジイミド１７．６ｇを塩化メチ
レン３０ｍｌに溶解した溶液を３０分かけて滴下した。
室温で一晩撹拌し、反応液を濾過して塩化メチレン５０
０ｍｌを加えて希釈した後、有機相を０．５モル／ｌ塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を留去し
た。イソプロパノール７００ｍｌから再結晶し、架橋型
ネマチック性液晶モノマー２４．６ｇ（収率５６％、化
学純度９９％）を得た。

【００７２】製造例３（コレステリック性を付与するモ
ノマー（ａ３）の合成）

【化２５】イソソルビド１０．０ｇおよびｐ−トルエンスルホン酸
をテトラヒドロフラン１００ｍｌ中に入れ、室温で撹拌
しなからジビドロピラン５．７６ｇをテトラヒドロフラ
ン５０ｍｌに溶解させた溶液を１．５時問かけて滴下し
た。そのまま室温で１．５時間撹拌した後、溶媒を留去
し、塩化メチレン２５０ｍｌに溶解させて、１モル／ｌ
塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗
浄し、有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒
を留去し、塩化メチレン／ジエチルエーテル＝１／１
（重量比）を展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマト
により精製して、ジヒドロピランの水酸基の片側を保護
した化合物４．７９ｇ（収率３０％）を得た。

【００７３】次に、水酸基を片側保護したイソソルビド
４. ２１ｇ、ｐ−シアノ安息香酸２. ９６ｇ、ジメチル
アミノピリジン触媒量および酢酸エチル１１０ｍｌをフ
ラスコに仕込み、これに、撹拌しなからジシクロヘキシ
ルカルボジイミド４．５２ｇを酢酸エチル５ｍｌに溶解
させた溶液を滴下した。室温で２時間撹拌し、濾過、酢
酸エチル５０ｍｌで希釈した後、１モル／ｌ塩酸、飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、有機
相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し
て、片側水酸基保護イソソルビドのシアノフェニルエス
テル（化学純度８３％）を得た。

【００７４】片側水酸基保護イソソルビドのシアノフェ
ニルエステル７．４４ｇをテトラヒドロフラン７５ｍｌ
に溶解させて還流し、濃塩酸３ｍｌを滴下してさらに１
５分還流した。テトラヒドロフランを留去し、塩化メチ
レン２００ｍｌに溶解させて、有機相を飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。展開溶媒とし
て塩化メチレン／ジエチルエーテル＝６／１〜０／１
（重量比）と変化させなからシリカゲルカラムクロマト
により精製し、水酸基の保護基を外したイソソルビドの
シアノフェニルエステル４．６３ｇ（収率９１％、化学
純度９７％）を得た。

【００７５】４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）
安息香酸２．５５ｇ、イソソルビドのシアノフェニルエ
ステル２．８３ｇ、ジメチルアミノピリジン触媒量およ
び塩化メチレン７０ｍｌをフラスコに仕込み、室温で撹
絆しながらジシクロヘキシルカルボジイミド２．３３ｇ
を塩化メチレン５ｍｌに溶解させた溶液を滴下した。そ
のまま４. ５時間撹拌し、濾過、塩化メチレン１３０ｍ
ｌで希釈した後、１モル／ｌ塩酸、飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、飽和食塩水で有機相を洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、塩化メチレン／
ジエチルエーテル＝６／１（重量比）を展開溶媒とした
シリカゲルカラムクロマトにより精製し、目的のコレス
テリック性を付与するモノマー１．３９ｇ（収率２３
％、化学純度９０％）を得た。

【００７６】製造例４（架橋型コレステリック性液晶ポ
リマー（ａ）の合成）

【化２６】製造例１で得たネマチック性液晶モノマー５．００ｇ、
製造例２で得た架橋型ネマチック性液晶モノマー０．３
９２ｇ、製造例３で得たコレステリック性を付与するモ
ノマー０．４６１ｇおよびジメチルアセトアミド／テト
ラヒドロフラン＝４／１（重量比）の混合溶媒５０ｍｌ
をフラスコに仕込み、系内を窒素置換した。水浴上で、
溶液を温度５７℃に加温して前記液晶モノマーを溶解さ
せた後、アゾビスイソブチロニトリル０．１４２ｇをジ
メチルアセトアミド／テトラヒドロフラン＝４／１（重
量比）の混合溶媒２ｍｌに溶解した溶液を滴下した。溶
液温度５７℃に加温したまま、窒素置換しなから６時間
撹拌し、室温まで放冷した後、反応液を濾過し、メタノ
ール１０００ｍｌに投入してポリマーを析出させた。ポ
リマーを濾取し、メタノール／テトラヒドロフラン＝3
／２（重量比）の混合溶媒で洗浄し、減圧乾燥して目的
の架橋型コレステリック性液晶ポリマー５．０９ｇ（収
率８７％、重量平均分子量１００００）を得た。なお、
化２６中の液晶ポリマーは便宜的にブロック共重合体で
表し、繰り返し単位の下にそれぞれの共重合割合 (モル
％）を示した。

【００７７】製造例５（コレステリック性を付与するモ
ノマー（ｂ）の合成）

【化２７】ｐ−ヒドロキシベンズアルデビド１２２ｇをトルエン１
２００ｍｌに加温して溶解した後、（−）−１−フェニ
ルエチルアミン１２１ｇを３０分かけて加え、Ｄｅａｎ
−Ｓｔａｒｋ器を用いて理論量の水を確認するまで約３
〜４時間還流した。次に反応液を放冷し、析出した結晶
を濾過し、エタノール１５００ｍｌで再結晶して自色の
針状結晶（キラルフェノール化合物）１６６ｇが得られ
た。

【００７８】４−（２−プロペノイルオキシエトキシ）
安息香酸１１８ｇ、キラルフェノール化合物１１３ｇ、
ジメチルアミノピリジン触媒量およびブチルヒドロキシ
トルエン少量を酢酸エチル２５００ｍｌに溶解し、室温
撹拌を行い、そこへ酢酸エチル２００ｍｌに溶解したジ
シクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）１２４ｇを徐
々に添加した。室温で５時問撹拌した後、析出したＤＣ
Ｃウレアを濾別した。濾液を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液、飽和食塩水（２回）（各１００ｍｌ）で洗浄し、
さらに硫酸マグネシウムで乾燥、濾別、溶媒を留去した
後、エタノール１８００ｍｌで再結晶を行い、目的のコ
レステリック性を付与するモノマー１３０ｇ（化学純度
＞９０％）を得た。

【００７９】比較製造例１製造例４において、製造例２で得た架橋型ネマチック性
液晶モノマーを用いなかったこと以外は、製造例４と同
様の重合を行い、コレステリック性液晶ポリマー（重量
平均分子量１００００）を得た。

【００８０】実施例１製造例４で得られた架橋型コレステリック性液晶ポリマ
ー１００重量部および製造例５で得られたコレステリッ
ク性を付与するモノマー１６重量部をシクロヘキサノン
に溶解させて３０重量％の液晶組成物の溶液を調製し
た。

【００８１】次に、ガラス板上にポリビニルアルコール
水溶液をスピンコートにより塗布し、１７０℃で１時間
乾燥させて厚み０．１μｍの薄膜を形成し、これをレー
ヨン布で一定方向に擦ってラビング処理した配向板を用
意した。

【００８２】この配向板上に、前記液晶組成物の溶液
を、スピンコーターにて塗布して乾燥させ、１６０℃で
５分間加熱して配向処理後に、室温にて放冷した後、電
子線を４０Ｍｒａｄ／ｃｍ² で照射して架橋し、配向架
橋処理された配向フィルムを得た。

【００８３】実施例２実施例１で調製した液晶組成物１００重量部を含む溶液
に、光酸発生剤５重量部を添加した液晶組成物の溶液を
調製し、さらに当該溶液に実施例１と同様の配向処理を
行った後、透過率が１００％、５０％、０％の３領域を
１００μｍピッチで有するフォトマスクを介してＤｅｅ
ｐ紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ² 照射し、さらに前記同様
の配向処理条件で再配向して多色反射処理を行った後、
電子線を４０Ｍｒａｄ／ｃｍ² で照射して架橋処理し
て、配向架橋処理された配向フィルム（多色反射板）を
得た。得られた多色反射板は、中心波長について、反射
光の中心が４５０ｎｍ、５４０ｎｍ、６２０ｎｍの３領
域を有していた。

【００８４】比較例ｌ実施例１において、製造例４で得られた架橋型コレステ
リック性液晶ポリマーの代わりに比較製造例１で得られ
たコレステリック性液晶ポリマーを用いた以外は実施例
１と同様の操作を行い配向フィルムを得た。

【００８５】比較例２実施例１において、製造例５で得られたコレステリック
性を付与するモノマーを用いることなく液晶組成物を調
製した以外は、実施例１と同様の操作を行い配向フィル
ムを得た。

【００８６】比較例３実施例２において、製造例４で得られた架橋型コレステ
リック性液晶ポリマーの代わりに比較製造例１で得られ
たコレステリック性液晶ポリマーを用いた以外は実施例
２と同様の操作を行い配向フィルムを得た。

【００８７】比較例４実施例２において、製造例５で得られたコレステリック
性を付与するモノマーを用いることなく液晶組成物を調
製した以外は、実施例２と同様の操作を行い配向フィル
ムを得た。

【００８８】参考例１実施例１において、電子線照射を行わないこと以外は、
実施例１と同様の操作を行い配向フィルムを得た。

【００８９】参考例２実施例２において、電子線照射を行わないこと以外は、
実施例２と同様の操作を行い配向フィルムを得た。

【００９０】実施例、比較例で得た配向フィルムを種々
の温度で１時間加熱して外観の変化を目視観察し、変化
が認められない最高温度を耐熱温度として評価した。結
果を表１に示す。

【００９１】

【表１】表１より、架橋型コレステリック性液晶ポリマー（ａ）
およびコレステリック性を付与するモノマー（ｂ）を含
有する液晶組成物から調製された実施例の配向フィルム
は、これらの一方を含有していない液晶組成物から得ら
れた比較例の配向フィルムに比べて、耐熱温度が大幅に
向上していることが認められる。また、参考例から、配
向フィルムは、架橋処理を施すことにより、耐熱温度が
大幅に向上していることが認められる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｆ 220/30 Ｃ０８Ｆ 220/30 ４Ｊ００２ 220/36 220/36 ４Ｊ０１１ 279/00 279/00 ４Ｊ０２６ 290/08 290/08 ４Ｊ０２７Ｃ０８Ｊ 3/24 ＣＥＹＣ０８Ｊ 3/24 ＣＥＹ４Ｊ１００ 5/18 5/18 Ｃ０８Ｌ 33/14 Ｃ０８Ｌ 33/14 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２５Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２５ (72)発明者中西貞裕大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電工株式会社内 (72)発明者望月周大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号日東電工株式会社内Ｆターム(参考） 2H049 BA06 BA16 BA42 BC05 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA14Z FB02 GA01 JA01 LA16 MA10 4F070 AA32 AA72 AA73 AA74 AA75 AB09 AB15 AB17 GA04 GA06 GA08 GB09 GC02 4F071 AA33 AF35 AH19 BA02 BB02 BB12 BC01 BC02 4H027 BA02 BA13 BE06 4J002 BG07W BG08W EH076 ER006 ET006 EU026 GP00 HA05 4J011 AA05 AC04 BA04 PA69 PB30 PB40 PC02 PC08 QA03 QA33 QA38 QA39 QA48 QB02 QB03 SA78 SA87 UA01 UA03 VA01 WA10 4J026 AA47 AA48 AA59 AC19 AC22 AC25 AC26 AC29 BA29 BA30 BA39 BA40 BB01 DA02 DA12 DB05 DB06 DB09 DB36 FA05 FA08 FA09 GA01 GA02 GA06 GA08 4J027 AA02 AJ01 AJ02 BA07 CB10 CC05 CC06 CD00 CD08 4J100 AL08P AL08R AL66Q AR03Q AR04Q AR05Q BA02P BA02Q BA02R BA04P BA04R BA15H BA15P BA15Q BA15R BA22H BA28H BA38H BA40P BA40R BA46H BB01P BB01R BB07P BB07R BC04P BC04Q BC04R BC43P BC43Q BC43R BC44P BC44Q BC44R BC45P BC45Q BC45R BC53R BC65H CA05 CA27 CA31 DA01 DA66 HA53 HA61 HC29 HC59 JA39

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（ａ１）：【化１】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−
基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｅはシアノ基、ア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、塩素原子また
はフッ素原子を、ｇは２〜６の整数を示す。）で表され
る繰り返し単位、一般式（ａ２）：【化２】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘはそれぞれ独立
して−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｇ
は架橋基を、ｈは２〜６の整数を、ｋは０〜６の整数を
示す。）で表される繰り返し単位、および、一般式（ａ
３）：【化３】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘはそれぞれ独立
して−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｌ
は活性光線により変性ないし失活しない光学活性基を、
Ｅはシアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ
基、塩素原子またはフッ素原子を、ｒは２〜６の整数を
示す。）で表される繰り返し単位を有する架橋型コレス
テリック性液晶ポリマー（ａ）、ならびに、一般式
（ｂ）：【化４】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を、ＡおよびＤ
はそれぞれ独立して環状系官能基を、Ｘは−ＣＯＯ−
基、−ＯＣＯ−基または−Ｏ−基を、Ｊは活性光線によ
り変性ないし失活する光学活性基を、ｗは２〜６の整数
を示す。）で表されるコレステリック性を付与するモノ
マー（ｂ）を含有してなるコレステリック性液晶組成
物。
【請求項２】一般式（ａ１）、一般式（ａ２）、一般
式（ａ３）、一般式（ｂ）におけるＡおよびＤ（環状系
官能基）が、一般式：【化５】で表される環状系官能基のいずれかであることを特徴と
する請求項１に記載のコレステリック性液晶組成物。
【請求項３】一般式（ａ２）におけるＧ（架橋基）
が、一般式：【化６】（式中、Ｒ¹ は水素原子またはメチル基を示す）で表さ
れる架橋基のいずれかであることを特徴とする請求項１
または２記載のコレステリック性液晶組成物。
【請求項４】一般式（ａ３）におけるＬ（活性光線に
より変性ないし失活しない光学活性基）が、一般式：【化７】（各式中、ｔ，ｕは、０≦ｔ≦５、１≦ｕ≦６、かつｔ
＋１≦ｕを満足する整数を示す。）で表される光学活性
基（ｌ）のいずれかであることを特徴とする請求項１〜
３のいずれかに記載のコレステリック性液晶組成物。
【請求項５】一般式（ｂ）におけるＪ（活性光線によ
り変性ないし失活する光学活性基）が、一般式：【化８】（各式中、Ｒ² はフェニル基、ビフェニル基、１−ナフ
チル基または２−ナフチル基を示し、Ｒ³ はメチル基、
フェニル基またはカルボキシメチル基を示し、Ｒ ⁴ はメ
チル基、ベンジル基またはｔ−ブチル基を示す。＊は不
斉炭素原子を示す。）で表される光学活性基（ｊ）のい
ずれかであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
に記載のコレステリック性液晶組成物。
【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載のコレス
テリック性液晶組成物に配向処理および架橋処理を施し
て得られる配向フィルム。
【請求項７】請求項１〜５のいずれかに記載のコレス
テリック性液晶組成物に、複数の領域ごとに制御された
活性光線を順次又は同時に照射して、当該コレステリッ
ク性液晶組成物中の光学活性基の有効含有量が異なる複
数の領域を形成し、その後またはそれと同時にコレステ
リック性液晶組成物を配向処理して前記領域ごとに反射
波長の異なる反射領域を形成する多色化処理工程を行っ
た後、さらに架橋処理を施す多色反射板の製造方法。
【請求項８】請求項７に記載の製造方法で得られた多
色反射板。