JPH07509524A - ブロック液晶コポリマーの合成法 - Google Patents

ブロック液晶コポリマーの合成法

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JPH07509524A
JPH07509524A JP6505355A JP50535594A JPH07509524A JP H07509524 A JPH07509524 A JP H07509524A JP 6505355 A JP6505355 A JP 6505355A JP 50535594 A JP50535594 A JP 50535594A JP H07509524 A JPH07509524 A JP H07509524A
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phenylene
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JP6505355A
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English (en)
Inventor
キム、キ‐スー
ダシェフスキー、ソフィア
リュー、ジャン‐リン
パルマカ、スタンレィ、ダブリュ.
Original Assignee
アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G63/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G63/02Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds
    • C08G63/60Polyesters derived from hydroxycarboxylic acids or from polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds derived from the reaction of a mixture of hydroxy carboxylic acids, polycarboxylic acids and polyhydroxy compounds

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ブロック液晶コポリマーの合成法 発明の背景 C,0berらは、Polymer Journal、第14巻、第1号、第9 〜17頁、(1982年)において、可撓性アルキレン(又は“ポリメチレン″ )スペーサーを含む芳香族エステルメソゲン単位を含む液晶ポリマーを開示して いる。例えば、一つのタイプは、3つの線状に配列された芳香族環を有する芳香 族エステルトリアド、ビス(p−カルボキシフェニル)テレフタレート部分及び 2〜10のCH2基を含みうるポリメチレン可撓性スペーサーを含む。
極最近、国際公開W093101227号公報において、メソゲン性及び可撓性 のコイルポリマーブロックを含むサーモトロピック液晶セグメント化ブロックコ ポリマーが開示されており、そこでは、ロッドブロックは、例えば、ポリエステ ルである可撓性コイル部分を有する、0berらの文献に記載された液晶ポリマ ー部分のタイプであり得る。ブロックコポリマーの作製のための合成方法は、好 ましい実施態様においては、2段階反応であった。第一の工程において、−の反 応槽中で、ヒドロキシル末端化芳香族メソゲン性オリゴマーが、テレフタロイル クロリド及び所望の1゜4−ビス(p−ヒドロキシベンゾイルオキシ)アルカン から合成され、そして他の反応槽中で酸クロリド末端化ポリエステルオリゴマー がテレフタロイルクロリド及びビス(4〜ヒドロキシアルキル)テレフタレート から合成された。第二の工程において、二つの官能化されたオリゴマーが結合さ れ、所望のブロックコポリマーを形成した。この方法は、重合を完了するために 、1又は2つのオリゴマーの移動を要求するので、望まれるよりも複雑である。
米国特許第5194569号明細書において、その主鎖中に、可撓性ポリメチレ ンスペーサーを含む芳香族エステルメソゲン単位及びポリエステル可撓性コイル 単位を含むブロックコポリマーの形成のための単一の反応槽法が提案されており 、それは、 (a)α、ω−ビス(ヒドロキシベンゾイルオキシ)アルカンモノマーを、−の 反応槽中で芳香族酸クロリドと反応させて、このようなメソゲン単位を含む官能 化された液晶オリゴマーを形成する、そして (b)その後、同じ反応槽中で、(a)からのオリゴマーを、引き続き添加され る、(i)ポリエステルオリゴマー又は(i i)ポリエステルオリゴマー(i )を合成するための試薬類のいずれかと反応させる、 ことを含む。この方法は、ブロックコポリマーを作製するためのそれより前に公 知であったタイプの方法の改善をその本質とした。
発明の詳細な説明 本発明は、α、ω−ビス(ヒドロキシベンゾイルオキシ)アルカンモノマー、芳 香族酸クロリド及びビス(4−ヒドロキシアルキルテレフタレート)オリゴマー の単一反応器反応であって、該反応を酸クロリド末端化ビス(4−ヒドロキシア ルキルテレフタレート)オリゴマーの形成を最初に有利に起こすために十分低い 温度で行い、そして所望のブロックコポリマーを生じさせるためにより高い温度 例えば約り20℃〜約230℃の範囲の温度へと温度を上昇すること、を含む。
オリゴマー反応体を形成するために従来芳香族酸クロリドと反応され、かつ本発 明においてそれ自体反応体として機能するところのα、ω−ビス(ヒドロキシベ ンゾイルオキシ)アルカンモノマーは、式: %式% (ここで、Arはフェニル環であり、nは2〜10、好ましくは2〜6であり、 そしてフェニル環への全ての結合はオリゴマーを形成するために用いられ、かつ また単独の反応体でもある芳香族酸クロリドは、好ましくはテレフタロイルクロ リドである。
オリゴマー反応体の形成において、酸クロリドに対するヒドロキシベンゾイルオ キシアルカンモノマーのモル比は、ヒドロキシル末端化オリゴマー又はクロリド 末端化オリゴマーのいずれが望まれるかに依存して、そのいずれかが僅かに過剰 で用いられるように選択される。もし、クロリド末端化メソゲンオリゴマーが望 まれるのなら、僅かに過剰の酸クロリド(例えば、6モル=5モル)が用いられ る。
もしヒドロキシ末端化が要求されるのなら、僅かに過剰のヒドロキシベンゾイル オキシアルカン含有モノマーが用いられる(例えば、5モル:4モル)。
もしヒドロキシ末端化種が望まれるのなら、上記工程により、以下の構造のオリ ゴマーが生産される。
HOA r C(0) 0 (CH2) nO(0) CA r [OC(0)  A r C(0) OA r C(0) O(CH2) nOC(0)Ar1  OH このオリゴマーは、上記反応体と反応して、所望のブロックコポリマーを形成す る。前者の場合は、式:%式%(2) もし工程(1)からの物質が、ヒドロキシ末端化されたものである場合は、僅か に過剰の酸クロリドが、第二段階において反応体として添加される。第一段階オ リゴマー中のクロリド末端の存在は、工程(2)において僅かに過剰のヒドロキ シ反応体を要求する。
本発明を更に以下の実施例により説明する。
実施例1 ブチレンスペーサーを含むトリアドメソゲンブロック単位及びポリブチレンテレ フタレートブロックを含むブロックコポリマーを、−の反応槽中にて、ビス(4 −ヒドロキシブチルテレフタレート)オリゴマー(6の重合度を有するBHBT オリゴマー)、1.4−ビス(p−ヒドロキシベンゾイルオキシ)ブタン(“T R−4”モノマー)及びテレフタロイルクロリドの混合物から、まずこれらの反 応体を150℃〜160℃にて、4〜5時間加熱し、次いで220℃〜230℃ にて60〜70時間加熱することにより合成した。低い温度範囲においてはオリ ゴマー反応体のヒドロキシル基がより高い反応性であるので、低い温度範囲にお いては、酸クロリド末端化BHBTオリゴマーの形成が有利に起こった。高い温 度範囲においては、メソゲン含有ブロックが形成され、そして所望のブロックコ ポリマーが形成された。
例えば、TR−4モノマー(39,6g、0.12モル)、テレフタロイルクロ リド(29,2g、0.144モル)、BHBTオリゴマー(33,6g、0. 024モル)及び750m1の1−クロロナフタレンを、撹拌子を備えた101 00Oのフラスコ中に仕込み、そして窒素下で、150℃〜160℃にて、4時 間加熱した。次いで、温度を225℃まで上げて、67時間維持した。冷却後、 メタノール(500ml)を加え、そして生成物を濾過により回収した。ポリマ ーをアセトンで洗浄して、110℃にて真空乾燥した。収率は、重量で約95% であった。ポリマーは、25℃にてp−クロロフェノール/テトラクロロエタン (6重量/4重量)中で0.51dl/gの固有粘度、示差走査熱量分析(D  S C)により191℃の融点、及び340℃より高い透明点(偏光光学顕微鏡 による)を有していた。
TR−4モノマー(3,8g、1.15X10’モル)、テレフタロイルクロリ ド(2,8g、1.38X10’モル)、ビス(4−ヒドロキシエチルテレフタ レート)オリゴマー(3,1g、2.3X10−3モル)及び40m1の1−ク ロロナフタレン溶媒を、撹拌子を備えた100m1のフラスコ中に仕込み、そし て窒素下で、150℃にて、5時間加熱した。次いで、反応温度を220℃〜2 30℃まで上げて、更に70時間維持した。冷却後、メタノール(10m l) を反応フラスコに加えた。ポリマーを濾過により回収して、200m1の温アセ トンで2回洗浄した。
次いで、ポリマーを、110℃にて、24時間真空乾燥した。収率は、95%で あった。生成物は、25℃にてp−クロロフェノール/TCE (6重量/4重 量)中で0.244dl/gの固有粘度、DSCにより220℃の融点、及び3 40℃より高い透明点(偏光光学顕微鏡による)を有していた。
上記は、単にそれにより実施態様を説明するためのものであるから、発明の観念 を限定すると解釈されるべきではない。意図される保護の範囲は、以下に記すク レームに示されている。
フロントページの続き (72)発明者 リュー、ジャン−リンアメリカ合衆国、ニューヨーク州 10 598、ヨークタウン ハイツ、エバーグリーンストリート2765 (72)発明者 パルマカ、スタンレイ、ダブリュ。
アメリカ合衆国、ニューヨーク州 10701、ヨンカース、マルベリー スト リート 6

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.その主鎖中に、可撓性アルカンスペーサーを含む芳香族エステルメソゲン単 位及びポリエステル可撓性コイル単位を含むブロックコポリマーを形成するため の単一槽反応方法であって、α,ω−ビス(ヒドロキシベンゾイルオキシ)アル カンモノマーを芳香族酸クロリドと、官能化可撓性コイルオリゴマーの存在下、 始めに、酸クロリド末端化ビス(ヒドロキシアルキルテレフタレート)オリゴマ ーの形成を有利にする比較的低い温度で反応させること、及び次いでメソゲン含 有ブロック及びブロックコポリマーを形成するより高い第二の温度で反応させる ことを含むところの方法。
  2. 2.芳香族エステルメシゲン単位が、式:−[OArC(O)O(CH2)nO (O)CArO(O)CArC(O)]− (ここで、Arはフェニレンであり、nは2〜10の整数である) である請求の範囲第1項記載の方法。
  3. 3.nが4である請求の範囲第2項記載の方法。
  4. 4.nが2である請求の範囲第2項記載の方法。
  5. 5.ポリエステル可撓性コイル単位が、式:−[O(CH2)mOC(O)Ar C(O)O(CH2)mOC(O)ArC(O)]− (ここで、Arはフェニレンであり、mは2〜6である)である請求の範囲第1 項記載の方法。
  6. 6.mが4である請求の範囲第5項記載の方法。
  7. 7.mが2である請求の範囲第5項記載の方法。
  8. 8.ポリエステル可撓性コイル単位が、式:−[−O(CH2)mOC(O)A rC(O)O(CH2)mOC(O)ArC(O)−]− (ここで、Arはフェニレンであり、mは2〜6である)である請求の範囲第2 項記載の方法。
  9. 9.mが4である請求の範囲第8項記載の方法。
  10. 10.mが2である請求の範囲第8項記載の方法。
JP6505355A 1992-07-31 1993-07-21 ブロック液晶コポリマーの合成法 Pending JPH07509524A (ja)

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