JP3871480B2 - 1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は6員環カーボネート構造を有する(メタ)アクリレートである1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレート、および、その製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
環状カーボネート構造を有するモノマーは、塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、レジスト材料、電池用材料の原料として有用である。カーボネート構造を有するモノマーはいくつか知られているが、6員環カーボネート構造を有する(メタ)アクリレートである1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートは知られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本願発明者の検討によれば、6員環カーボネート構造を有するモノマーは、塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、レジスト、電池用材料などの構成成分モノマーとして有用で、そのモノマーを重合したポリマーはAl、Si、Fe、Cuなどの金属表面上で優れた塗膜性能、パターニング特性を示すことが予想された。このような背景から、6員環カーボネート構造を有する(メタ)アクリレートである1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートおよびその製造方法が望まれていた。
【0004】
したがって本発明の目的は、6員環カーボネート構造を有する(メタ)アクリレートである1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレート、および、その製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、式(1)で示される1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートである。
【0006】
【化2】
(式中、R1はメチル基または水素を表わす。)
【0007】
また本発明は、グリセロールの1位と3位の水酸基をベンジリデン基で保護し、2位を(メタ)アクリロイル基含有化合物でエステル化し、酸性イオン交換樹脂で1位と3位を脱保護し、その後カーボネート化することを特徴とする前記式(1)で示される1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートの製造方法である。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明は、式(1)で示される6員環カーボネート構造を有する(メタ)アクリレートである1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレート、すなわち1,3−ジオキサン−2−オン−5−イルアクリレートおよび1,3−ジオキサン−2−オン−5−イルメタクリレートである。
【0009】
この1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートを製造する方法は特に限定されないが、その製造方法の一例として本発明の1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートの製造方法を以下に説明する。
【0010】
まず、グリセロールの1位と3位の水酸基をベンジリデン基で保護し、1,3−ベンジリデングリセロールを合成する。このベンジリデン基の保護反応は、例えば、酸触媒の存在下、トルエン等の適当な溶媒中で加熱または室温で実施できる。具体的には、N.Baggett,et al.,Aspects of Stereochemistry.Part IV.,2574(1960)に記載の塩酸、p−トルエンスルホン酸等の酸触媒の存在下、グリセロールをベンズアルデヒドと反応させる方法が挙げられる。また酸触媒としては塩化亜鉛や硫酸等も使用できる。
【0011】
次に、得られた1,3−ベンジリデングリセロールの2位を(メタ)アクリロイル基含有化合物でエステル化して1,3−ベンジリデングリセロールの(メタ)アクリレートにする。用いる(メタ)アクリロイル基含有化合物としては、例えば、(メタ)アクリロイルクロリド、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。エステル化の反応形式は特に限定されず、このような(メタ)アクリロイル基含有化合物ならびに適宜触媒や溶媒等を用いて、直接エステル化反応、エステル交換反応等によりエステル化する。
【0012】
次に、得られた1,3−ベンジリデングリセロールの(メタ)アクリレートから保護基であるベンジリデン基を除去する。このベンジリデンの脱保護反応は、例えば、W.H.Hartung and R.Simonoff,Org.React.,7,263-326(1953)に記載の酢酸溶媒中でPd−C触媒を用いた水素による接触還元法、R.M.Hann,et al.,J.Am.Chem.Soc.,72,561(1950). M.Smith,et al.,J.Am.Chem.Soc.,84,430(1962)に記載の希硫酸等の酸触媒を用いる脱保護反応等により実施できる。
【0013】
しかし、上記の方法で脱保護すると、生成した2−(メタ)アクリロイルグリセロールの(メタ)アクリロイル基が一部転位して、1−(メタ)アクリロイルグリセロールが生成する。
【0014】
本願発明者は、このような転位反応を抑制する方法について検討した結果、酸性触媒として酸性イオン交換樹脂を用いる方法を見いだした。酸性イオン交換樹脂としては、例えば、スチレン系の強酸性イオン交換樹脂等が挙げられる。酸性イオン交換樹脂触媒の使用量は、原料である1,3−ベンジリデングリセロールの(メタ)アクリレートの0.1〜50wt%が好ましく、副反応である転移反応をより少なくするためには1〜30wt%が特に好ましい。
【0015】
この際に用いる溶媒は、原料である1,3−ベンジリデングリセロールの(メタ)アクリレートと生成物である2−(メタ)アクリロイルグリセロールが溶解するものであれば特に限定されず、例えば、水、メタノール、エタノール等のプロトン性溶媒が挙げられる。溶媒の重量は原料である1,3−ベンジリデングリセロールの(メタ)アクリレートの0.5〜50倍量、溶解性と経済性から1〜20倍量が好ましい。また、この際の反応温度は0℃〜100℃が好ましく、転移反応をより少なくするためには10℃〜30℃が特に好ましい。
【0016】
最後に、2−(メタ)アクリロイルグリセロールをカーボネート化して目的物である1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートを得る。カーボネート化する方法としては、例えば、塩基性触媒の存在下、1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートを冷却しつつトリクロロメチルクロロフォーメート、ホスゲン、炭酸ジメチル、クロロギ酸メチル等を投入して反応させる方法が挙げられる。
【0017】
このようにして得られた1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートは、例えば、シリカゲルのカラムクロマトグラフィー等によりさらに精製してもよい。
【0018】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって詳しく説明するが、これらに限定されるものではない。実施例における分析はガスクロマトグラフィー(以下GCという)および、NMRにより行った。
【0019】
純度はGCのピーク面積から次式により算出した。
純度(%)=(A/B)×100
ここで、Aは目的生成物のピーク面積、Bは全ピーク面積の合計を表す。
【0020】
また、実得収率は次式により算出した。
実得収率(%)=(C/D)×100
ここで、Cは目的生成物のモル数(不純物を含む目的生成物の重量に純度を乗じ、目的生成物の分子量で除して算出)、Dは基準となる原料のモル数を表す。
【0021】
[実施例1]1,3−ジオキサン−2−オン−5−イルメタクリレートの合成
(1)1,3−ベンジリデングリセロールの合成
温度計、20段オールダーショー、冷却管を備えた3Lフラスコに、グリセリン645g(7mol)、ベンズアルデヒド743g(7mol)、トルエン700g、パラトルエンスルホン酸4g(0.021mol)を仕込み、加熱還流した。内温約135℃で6時間加熱し、トルエンと共沸して留出させ、デカンターに貯まった水の量から脱水率約100%になったのを確認してから放冷した。放冷後の反応液に1%NaOH水溶液500g、トルエン600gを添加し抽出、有機層を水500gで洗浄し、有機層を濃縮したところ、粗1,3−ベンジリデングリセロール(1,2−ベンジリデングリセロールとの混合物)1158gが得られた。この粗1,3−ベンジリデングリセロールに、ヘキサン2Lを添加し、攪拌、冷却した。約5℃で4日間放置後、析出した結晶を濾別した。濾別された結晶は1130gであった。これに再度トルエン2Lを添加し、攪拌、冷却し、約5℃で1日間静置して再結晶し、1,3−ベンジリデングリセロール283gを得た。
【0022】
(2)1,3−ベンジリデングリセリルメタクリレートの合成
滴下ロート2つ、温度計、冷却管を備えた200mlの4つ口フラスコに、1,3−ベンジリデングリセロール18g(0.1mol)、乾燥塩化メチレン100mlを仕込み、滴下ロートにメタクリロイルクロリド12.5g(0.12mol)、もう一方の滴下ロートにトリエチルアミン13.2g(0.13mol)を仕込んだ。フラスコを氷冷しながら、メタクリロイルクロリドとトリエチルアミンを、トリエチルアミンが先行するように調整しつつ滴下した。反応液は発熱し5℃から12℃に温度が上昇した。3時間攪拌した後、反応液を水100mlで1回、飽和NaHCO3水溶液100mlで1回、飽和NaCl水溶液100mlで1回洗浄し、無水硫酸マグネシウム10gで乾燥し、濾過後、濃縮して、純度97%の粗1,3−ベンジリデングリセリルメタクリレート19.5gを収率77%(1,3−ベンジリデングリセロール基準)で得た。
【0023】
(3)2−メタクリロイルグリセロールの合成
2Lフラスコ中、上記の方法を繰り返して得た1,3−ベンジリデングリセリルメタクリレート35.3g(0.14mol)に強酸性イオン交換樹脂であるアンバーリスト15wet(オルガノ社製)3.5g、メタノール700mlを添加し、26℃で7時間攪拌した。反応液を濾過し、n−ヘキサン500mlで3回洗浄し、メタノール層を濃縮して、粗2−メタクリロイルグリセロール(1−メタクリロイルグリセロール:2−メタクリロイルグリセロール=1:4)13gを収率46%(1,3−ベンジリデングリセリルメタクリレート基準)で得た。
【0024】
(4)1,3−ジオキサン−2−オン−5−イルメタクリレートの合成
冷却管、滴下ロート、温度計を備えた100mlの4つ口フラスコに上記の方法で得た粗2−メタクリロイルグリセロール13g、乾燥ピリジン27mlを仕込み氷冷した。滴下ロートにトリクロロメチルクロロフォーメート5.2g(0.0267mol)を仕込み、系内の温度を約10℃に保ちつつゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温にして3時間攪拌した。反応液に水100mlを加え、酢酸エチル100mlで2回抽出し、有機層を0.1N塩酸100ml、飽和NaCl水溶液100mlで洗浄、無水硫酸マグネシウム3gを添加して乾燥し、濾過後、濃縮して、粗1,3−ジオキサン−2−オン−5−イルメタクリレート13gを得た。
【0025】
このようにして得られた粗1,3−ジオキサン−2−オン−5−イルメタクリレートをシリカゲルのカラムクロマトグラフィーにより精製し、1,3−ジオキサン−2−オン−5−イルメタクリレート1gを得た。GCによる純度は85%であり、収率は7%(2−メタクリロイルグリセロール基準)であった。得られた1,3−ジオキサン−2−オン−5−イルメタクリレートの1H−NMRスペクトルは以下の通りであった。
【0026】
1H−NMR(CDCl3) 2.0(3H,s),4.6(4H,dd,J=12.5Hz,32.7Hz),5.3(1H,br),4.3(1H,s),5.7(1H,s),6.2(1H,s)
【0027】
[実施例2]2−メタクリロイルグリセロールの合成
実施例1の(2)の方法で得られた1,3−ベンジリデングリセリルメタクリレート35g(0.14mol)に、メタノール350mlを添加し、0.01Nの希硫酸を350ml添加し、室温で2時間攪拌した。反応液からメタノールを濃縮し、酢酸エチルを500mlを添加し抽出、有機層を飽和NaHCO3水溶液300mlで1回、飽和NaCl水溶液300mlで1回洗浄し、濃縮して、粗2−メタクリロイルグリセロール11g(1−メタクリロイルグリセロール:2−メタクリロイルグリセロール=1:1)を得た。
【0028】
【発明の効果】
本発明によれば、塗料、接着剤、粘着剤、インキ用レジン、レジスト材料、電池用材料などの構成成分モノマーとして有用で、そのモノマーを重合したポリマーはAl、Si、Fe、Cuなどの金属表面上で優れた塗膜性能、パターニング特性を示すことが予想される、1,3−ジオキサン−2−オン−5−イル(メタ)アクリレートを製造することができる。
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