JP4399885B2 - 4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体の製造法 - Google Patents

4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体の製造法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体の製造法に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
従来、4−メチルテトラフルオロベンジルアルコールをそのアルコール部位として有する、ある種のエステル化合物が優れた殺虫活性を有することがしられており(特開昭56−97251号公報)、4−メチルテトラフルオロベンジルアルコールの効率的な製造方法の確立が切望されている。
【0003】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、このような状況下で鋭意検討した結果、下記一般式 化3で示されるペンタフルオロベンジルアルコール誘導体とメチルリチウムとを有機溶媒中で反応させることにより、高収率で下記一般式 化4で示される4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体が得られることを見出し、本発明に至った。
一般式 化4で示される4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体は、脱保護することにより、4−メチルテトラフルオロベンジルアルコールを簡便に収率良く製造し得る。
即ち、本発明は、一般式 化3
【化3】
Figure 0004399885
[式中、Rはメチルリチウムに対して不活性な保護基を表わす。]
で示されるペンタフルオロベンジルアルコール誘導体とメチルリチウムとを有機溶媒中で反応させることを特徴とする一般式 化4
【化4】
Figure 0004399885
[式中、Rは前記と同じ意味を表わす。]
で示される4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体の製造法を提供する。
【0004】
【発明の実施の形態】
以下、本発明につき詳細に説明する。
一般式 化3で示されるペンタフルオロベンジルアルコール誘導体とメチルリチウムとの使用割合は、任意の割合を取り得るが、一般式 化3で示されるペンタフルオロベンジルアルコール誘導体1モルに対してメチルリチウムを1〜3モルの割合で使用することが好ましい。
該反応は有機溶媒中で行われ、かかる溶媒としてはジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒、n−ヘプタン、n−ヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン等の芳香族炭化水素系溶媒およびそれらの混合物があげられる。
該反応の反応温度としては、特に限定されないが、0℃から反応に使用する溶媒の沸点の範囲が好ましい。
反応終了後の反応液は、反応液を氷水に注加し、有機溶媒抽出、濃縮等の通常に行われる後処理操作を行うことにより目的とする一般式 化4で示される4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体を得ることができる。また、目的化合物はクロマトグラフィー、蒸留、再結晶等の通常に行われる精製操作により精製することも可能である。
【0005】
尚、本発明において、Rで示されるメチルリチウムに対して不活性な保護基としては、例えば、メチル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、t−ブトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、t−ブチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等があげられる。脱保護の際の簡便性から、Rとしては一般式R1CH2−O−R2CH−で示される基または一般式R3Si(R4)2−で示される基{ここで、R1およびR2は同一または相異なり、水素原子またはC1−C5アルキル基を表すか、R1とR2が末端で結合して、エチレン基、トリメチレン基またはテトラメチレン基を表してもよい。R3およびR4は同一または相異なり、C1−C5アルキル基またはフェニル基を表す。}が好ましい。
【0006】
一般式 化3で示されるペンタフルオロベンジルアルコール誘導体は、ペンタフルオロベンジルアルコールから、例えば、Protective Groups in Organic Chemistry (John Wiley & Sons, Inc.)に記載の方法により製造することができる。尚、一般式 化3で示されるペンタフルオロベンジルアルコール誘導体の一部の化合物については、具体的には以下に示す方法(式 化5、式 化6または式 化7)に準じて、簡便に収率良く製造することができる
【化5】
Figure 0004399885
【化6】
Figure 0004399885
【化7】
Figure 0004399885
【0007】
また、本発明の方法により得られた一般式 化4で示される4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体は、例えば、Protective Groups in Organic Chemistry (John Wiley & Sons, Inc.)に記載の方法により、目的とする4−メチルテトラフルオロベンジルアルコールを製造することができる。
【0008】
【実施例】
以下、製造例をあげて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。
製造例
窒素雰囲気下、ペンタフルオロベンジル=テトラヒドロピラン−2−イル=エーテル14.2gの乾燥ジエチルエーテル150ml溶液に、攪拌しながら、室温にてメチルリチウムのジエチルエーテル溶液(1.14M)66mlを少しずつ滴下した(滴下中、発熱により温度が上昇し還流し始める)。その後、還流温度で1時間攪拌を行った。室温まで冷却後、反応液を砕いた氷を入れた容器に注加した。これにジエチルエーテル200mlを加え、氷が融解した後、分液した。ジエチルエーテル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:10)に付し、4−メチルテトラフルオロベンジル=テトラヒドロピラン−2−イル=エーテル13.3g(収率90%)を得た。
1H−NMR(CDCl3、TMS内部標準)δ値
1.40〜1.90(m、6H)、2.30(s、3H)、3.55(m、1H)、3.90(m、1H)、4.60(dd、1H)、4.80(dd、2H)
【0009】
次に、ペンタフルオロベンジルアルコールから一般式 化4で示されるペンタフルオロベンジルアルコール誘導体を製造する方法および一般式 化5で示される4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体から4−メチルテトラフルオロベンジルアルコールを製造する方法を、参考例にて説明する。
参考例1.
窒素雰囲気下、ペンタフルオロベンジルアルコール20.0g、2,3−ジヒドロ−4H−ピラン9.3g及び乾燥ジエチルエーテル200mlの混合液に、0〜5℃で、濃塩酸1mlを加えた後、さらに室温で5時間攪拌を行った。反応液を氷水に注加し、分液した。更に、該水層にジエチルエーテル200mlを加え、抽出した。ジエチルエーテル層を併せ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:10)に付し、ペンタフルオロベンジル=テトラヒドロピラン−2−イル=エーテル26.5g(収率92%)を得た。
1H−NMR(CDCl3、TMS内部標準)δ値
40〜1.90(m、6H)、3.55(m、1H)、3.90(m、1H)、4.60(dd、1H)、4.80(dd、2H)
参考例2.
4−メチルテトラフルオロベンジル=テトラヒドロピラン−2−イル=エーテル11.0g及びメタノール100mlの混合液に、0〜5℃で、p−トルエンスルホン酸一水和物1gを加えた後、室温で5時間攪拌を行った。反応液を氷氷に注加し、分液した。該水層に酢酸エチル500mlを加え、抽出した。酢酸エチル層を併せ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:n−ヘキサン=1:5)に付し、4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール6.2g(収率87%)を得た。
1H−NMR(CDCl3、TMS内部標準)δ値
2.30(s、3H)、2.40(brs、1H)、4.80(s、2H)
【発明の効果】
本発明の方法によれば、4−メチルテトラフルオロベンジルアルコールを効率的に製造することができる。

Claims (4)

  1. 一般式 化1
    Figure 0004399885
    [式中、Rはメチル基、ベンジル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、t−ブトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、t−ブチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、一般式R 1 CH 2 −O−R 2 CH−で示される基または一般式R 3 Si(R 4 ) 2 −で示される基{ここで、R 1 およびR 2 は同一または相異なり、水素原子またはC1−C5アルキル基を表し、R 3 およびR 4 は同一または相異なり、C1−C5アルキル基またはフェニル基を表す。}を表わす。]
    で示されるペンタフルオロベンジルアルコール誘導体とメチルリチウムとを、
    エーテル、脂肪族炭化水素及び芳香族炭化水素からなる群より選ばれる一種以上の有機溶媒中で反応させることを特徴とする一般式 化2
    Figure 0004399885
    [式中、Rは前記と同じ意味を表わす。]
    で示される4−メチルテトラフルオロベンジルアルコール誘導体の製造法。
  2. 有機溶媒が、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはそれらの混合物である請求項1記載の製造法。
  3. 一般式 化1において、Rが一般式R1CH2−O−R2CH−で示される基または一般式R3Si(R4)2−で示される基{ここで、R1およびR2は同一もしくは相異なり、水素原子またはC1−C5アルキル基を表し、3およびR4は各々独立して、C1−C5アルキル基またはフェニル基を表す。}である請求項1または2に記載の製造法。
  4. 一般式 化1において、Rがテトラヒドロピラン−2−イル基である請求項1または2に記載の製造法。
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