JPH05150438A

JPH05150438A - 感光材料乾燥装置

Info

Publication number: JPH05150438A
Application number: JP31808391A
Authority: JP
Inventors: Eiichi Isozaki; 栄一磯崎
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1991-12-02
Filing date: 1991-12-02
Publication date: 1993-06-18

Abstract

(57)【要約】【目的】搬送不良が発生することなく感光材料を均一
に乾燥させることができる感光材料乾燥装置を得る。【構成】乾燥装置７８内に送り込まれたフィルム２０
を、赤外線ヒータ９２によって加熱された第１のヒート
ローラ８４の外周面に乳剤層が形成された面が接触する
ように巻掛けると共に、第１のヒートローラ８４の外周
に配置したスプレーパイプ１０４からの乾燥風を供給し
て乾燥させる。次に前記フィルム２０を、赤外線ヒータ
９４によって加熱された第２のヒートローラ８６の外周
面に乳剤層が形成された面と反対の面が接触するように
巻掛けて乾燥させる。またフィルム２０の処理量等の処
理情報に応じてパラメータを切換えるＰＩＤ制御を適用
し、第１のヒートローラ８４の温度が第２のヒートロー
ラ８６の温度よりも低くなり、かつ各々のローラの温度
の変動幅が所定値以内となるように赤外線ヒータ９２、
９４を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は少なくとも一方の面に乳
剤層が形成された感光材料を乾燥させる感光材料乾燥装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
ヒータによって加熱されたヒートローラに感光材料を巻
き掛け、前記感光材料を加熱して乾燥させる乾燥装置が
提案されている。このヒートローラの温度調節は、ヒー
トローラの表面温度を検出し設定温度に対する高低でヒ
ータをオンオフしてヒートローラの表面温度が所定温度
となるように制御する所謂オンオフ制御によって行って
いた。しかしながら、この方法では感光材料との接触で
熱が奪われてヒートローラ表面の温度が低下したり、温
度が低下した後に過度に温度が上昇したりすることによ
り、ヒートローラの表面温度が大きく変動し、目標温度
に対する偏差が大となり複数枚の感光材料に亘って安定
した乾燥ができないことがあるという欠点があった。

【０００３】また、従来のオンオフ制御では感光材料の
処理条件、例えば複数枚の感光材料を処理する場合の感
光材料の挿入タイミング等によって乾燥後の感光材料の
仕上がりが変動することがあった。すなわち、複数枚の
感光材料が連続して間隔を開けずに挿入された場合と、
任意の時間間隔を開けて挿入された場合と、では表面温
度の変動の度合いが異なり、目標温度に対する偏差が異
なるので乾燥後の仕上がりが一定しない。さらに、種類
の異なる複数枚の感光材料、例えば乾燥性の異なる複数
種類の感光材料が混じって挿入された場合にも、感光材
料の種類に応じて乾燥後の仕上がりが異なることがある
という問題があった。

【０００４】さらに、エレクトロニクス分野の進歩に伴
い、ハロゲン化銀写真分野においても処理の迅速性が要
求されるようになっている。特にグラフィックアーツ感
材、スキャナー用感材、Ｘ−レイ用感材のような感光材
料に対する迅速処理の要求は益々高くなってきている。
ここで言う迅速処理とは、例えば感光材料の先端が自動
現像機等の感光材料処理装置に挿入されてから現像槽、
定着槽、水洗槽等からなる処理部と乾燥部とを通過し
て、感光材料の先端が乾燥部から排出されるまでの時間
が２０秒〜６０秒であるような処理を言う。処理部及び
乾燥部の処理時間を短縮するために単に感光材料の搬送
速度を速くしただけでは、定着不良、乾燥不良等種々の
問題が生じる。

【０００５】定着不良に関しては、定着速度を速めるた
めに定着液中のチオ硫酸塩の濃度を増加させることは公
知である。また、感光材料の膜面を硬膜化させ乾燥性を
良くするために、定着液中に水溶性アルミニウム塩等の
硬膜剤を含有させることも公知であり広く用いられてい
る。しかし水溶性アルミニウム塩等の硬膜剤を含む定着
液で感光材料を処理すると、硬膜作用のため定着速度を
遅らせてしまうので、定着速度を速めるために定着液中
に実質的に硬膜剤を含まないようにすると、感光材料に
塗布されている乳剤の膨潤率が大となり乾燥性が悪くな
るという問題があった。このように、定着液中の硬膜剤
である水溶性アルミニウム塩を減らすことにより定着速
度は向上するが、迅速処理において重要な乾燥時間の短
縮に関しては不利に作用するため、従来、実質的に硬膜
剤を含まない定着液を用いて感光材料を処理する試みは
殆ど行われなかった。

【０００６】ここで、迅速処理を実現するためには、実
質的に硬膜剤を含まない定着剤により処理した感光材料
をヒートローラを用いて乾燥を行うと効果的であるが、
ヒートローラの温度調節を、ヒートローラの表面温度を
検出し設定温度に対する高低でヒータをオンオフしてヒ
ートローラの表面温度が設定温度となるように制御する
所謂オンオフ制御によって行おうとすると、前述と同様
の欠点が生ずる。

【０００７】本発明は上記事実を考慮して成されたもの
で、感光材料を安定して乾燥させることができる感光材
料乾燥装置を得ることが目的である。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１記載の発明は、処理液によって処理した感光
材料を搬送しながら乾燥する感光材料乾燥装置であっ
て、前記感光材料の搬送路に設けられ前記感光材料を搬
送するローラと、前記ローラを加熱する加熱手段と、前
記ローラの表面温度を検出する温度検出手段と、前記温
度検出手段によって検出された表面温度の時間的変化に
基づいて前記ローラの表面温度の変動幅が所定値以内と
なるように前記加熱手段を制御する制御手段と、を有し
ている。

【０００９】請求項２記載の発明は、処理液によって処
理した感光材料を搬送しながら乾燥する感光材料乾燥装
置であって、前記感光材料の搬送路に設けられ前記感光
材料を搬送するローラと、前記ローラを加熱する加熱手
段と、前記ローラの表面温度を検出する温度検出手段
と、前記温度検出手段によって検出された表面温度の時
間的変化及び前記感光材料の処理情報に基づいて前記ロ
ーラの表面温度の変動幅が所定値以内となるように前記
加熱手段を制御する制御手段と、を有している。

【００１０】また、制御手段は、ローラの表面温度の変
動幅が所定値以内となるようにＰＩＤ制御によって加熱
手段を制御することが好ましい。

【００１１】

【作用】本発明では、感光材料を搬送するローラを加熱
手段によって加熱し、温度検出手段によってこのローラ
の表面温度を検出し、検出された表面温度の時間的変化
に基づいて制御手段によって加熱手段を制御し、ローラ
の表面温度の変動幅が所定値以内となるようにしてい
る。この表面温度の変動幅を所定値以内とするために
は、例えばＰＩＤ制御を適用して加熱手段を制御手段に
よって制御する。また、ローラの表面温度の変動幅を所
定値以内とすることにより、感光材料が常に略一定の温
度で加熱されるので、感光材料を安定して乾燥させるこ
とができる。

【００１２】また、ヒートローラの表面温度の変動幅が
所定値以内となるように、温度検出手段によって検出さ
れたヒートローラの表面温度の時間的変化と感光材料の
処理情報とに基づいて、ヒートローラを加熱する加熱手
段を制御手段によって制御することもできる。

【００１３】なお、前記感光材料の処理情報としては、
感光材料の挿入タイミング、挿入される感光材料の種類
を表す情報等を用いることができる。このような処理情
報を用いることによって、例えば挿入タイミングに基づ
いてローラの表面温度の変動幅が所定値以内になるよう
に温度を制御する。また、感光材料の種類に拘わらず一
定の仕上がりが得られるように、挿入される感光材料の
種類に応じて制御を切換えることができる。このよう
に、感光材料の処理情報に基づいてローラの表面温度を
制御することにより、複数枚の感光材料を乾燥させる場
合であっても各感光材料を安定して乾燥することができ
る。

【００１４】また前述のように本発明では、乳剤層の膜
面が硬膜化していない感光材料であっても、短時間で乾
燥させることができる。すなわち、実質的に硬膜剤を含
有しない定着液を用いて処理した感光材料を迅速に乾燥
できる。もちろん硬膜剤を含む定着液によって処理した
感光材料を乾燥することもできる。

【００１５】次に、本発明の乾燥装置を備えた感光材料
処理装置で使用し得る定着剤及び硬膜剤について説明す
る。

【００１６】例えば、本発明に使用される定着剤として
は、チオ硫酸塩、チオシアン酸塩のほか、定着剤として
の効果が知られている有機硫黄化合物を用いることがで
きる。

【００１７】また、定着液中の硬膜剤として水溶性アル
ミニウム塩をあげることができるが、水溶性アルミニウ
ム塩としては硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウムアン
モニウム、硫酸アルミニウムカリウム、塩化アルミニウ
ムなどがる。

【００１８】ここで、前述した実質的に硬膜剤を含有し
ない定着液による処理とは、定着液に浸漬された感光材
料の乳剤層の硬膜が実質的に生じないようにすることを
意味し、より具体的には、定着液に添加される水溶性ア
ルミニウム塩の量を好ましくは０〜０．０１モル／リッ
トルでさらに好ましくは０〜０．００５モル／リットル
にすることを意味する。これにより、定着処理の処理時
間を短縮することができ、水洗の効率があがるので処理
後の感光材料の残色を少なくすることができる。定着液
のｐＨとしては、５．３以上が好ましく、さらに５．５
〜７．０がより好ましい。

【００１９】また、定着液中の亜硫酸塩の量としては好
ましくは０．０５〜１．０モル／リットル、より好まし
くは０．０７〜０．８モル／リットルである。

【００２０】本発明に使用できる定着液の定着剤には前
記化合物の他、種々の酸、塩、キレート剤、界面活性
剤、湿潤剤、定着促進剤等の添加物を含有させることが
できる。

【００２１】酸としては、例えば硫酸、塩酸、硝酸、ホ
ウ酸の如き無機酸類、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、
フタル酸等の有機酸類が挙げられる。

【００２２】塩としては、例えばこれらの酸のリチウ
ム、カリウム、ナトリウム、アンモニウム等の塩が挙げ
られる。

【００２３】キレート剤としては、例えば硫酸化物、ス
ルフォン化合物などのアニオン界面活性剤、ポリエチレ
ングリコール系、エステル系などのノニオン界面活性
剤、特開昭５７−６８４０号公報（発明の名称、写真用
定着液）記載の両性界面活性剤が挙げられる。

【００２４】湿潤剤としては、例えばアルカノールアミ
ン、アルキレングリコール等が挙げられる。

【００２５】定着促進剤としては、例えば特公昭４５−
３５７５４号、特開昭５８−１２２５３５号、同５８−
１２２５３６号の各号公報に記載のチオ尿素誘導体、分
子内に三重結合を有したアルコール、米国特許４，１２
６，４５９号明細書に記載のチオエーテル等が挙げられ
る。

【００２６】前記添加剤の中で、ホウ酸、アミノポリカ
ルボン酸類などの酸及び塩は本発明の目的を助長する効
果があるため好ましい。さらに好ましくはホウ酸（塩）
を含有する定着剤である。ホウ酸（塩）の好ましい添加
量は０．５〜２０ｇ／リットルである。さらに好ましく
は４〜５ｇ／リットルとなるに足りる量である。

【００２７】本発明は印刷用、Ｘ−レイ用等各種の感光
材料に適用することができる。

【００２８】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図１には本発明に係る感光材料乾燥装置を
備えた感光材料処理装置１０の概略側面図が示されてい
る。

【００２９】感光材料処理装置１０の筐体１８の上部に
は、外部からの光を遮光する開閉可能な本体カバーの一
部である蓋体１２、１４、１６が設けられている。筐体
１８の一端側には感光材料であるフィルム２０を挿入す
るための挿入台２２が取付けられており、他端側には処
理済みフィルムを貯めておくフィルムストッカ２４が取
付けられている。また、筐体１８の挿入台２２の近傍に
はフィルム２０が挿入される挿入口２６が形成されてお
り、この挿入口２６の近傍には挿入されたフィルム２０
を検出する検出器２８が取付けられている。

【００３０】検出器２８は、フィルム搬送路を挟んで対
向配置された発光素子と受光素子との対がフィルム挿入
口２６近傍にフィルム幅方向に沿って複数配列されて構
成されており、発光素子から照射された光線がフィルム
２０によって遮光されることより各受光素子は挿入され
たフィルムの幅及び長さに応じてオン、オフする。検出
器２８は制御回路１２２の入出力ポート１３０に接続さ
れている（図３参照）。なお、検出器２８はフィルムに
よって反射した発光素子の光を受光素子が受光すること
によりオン、オフする種類の検出器でも良い。

【００３１】筐体１８の内部には、上方が開口された箱
体形状の処理槽本体３０が配置されている。この処理槽
本体３０内は隔壁３２によって仕切られており、現像槽
３４、定着槽３６、水洗槽３８が順に形成されている。
現像槽３４の深さは定着槽３６及び水洗槽３８の深さよ
り深くされている。また定着槽３６の深さは水洗槽３８
の深さと同じ深さとされている。現像槽３４内には搬送
ラック４０が挿入配置され、定着槽３６、水洗槽３８内
には搬送ラック４２が配置されている。

【００３２】図１に示されるように、搬送ラック４０は
一対の側板（但し、図１では一方の側板のみ図示）４４
を備え、側板４４間には回転可能に支持された複数の搬
送ローラ４６が配設されている。搬送ローラ４６は、図
示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転しフィルム
２０を搬送する。また側板４４の下方にはフィルム２０
の搬送方向を反転させるガイド４８が配置されている。
搬送ラック４０は、現像槽３４内へ挿入されたフィルム
２０を底部へ下降搬送した後に反転させ、現像槽３４の
上部へ向けて上昇搬送して、現像槽３４内から送り出
す。これにより、フィルム２０は現像槽３４内に貯留さ
れた現像液によって現像処理される。

【００３３】搬送ラック４２は一対の側板（但し、図１
では一方の側板のみ図示）５０を備え、側板５０間には
上下に配置された２つのローラ５２と、ローラ５２の下
部に配置された大径のローラ５４と、ローラ５２、５４
に当接するように配置された小径のローラ５６と、が回
転可能に支持されている。また側板５０の下部にはフィ
ルム２０を反転させるガイド５８が配置されている。ロ
ーラ５２、５４、５６は図示しない駆動手段の駆動力が
伝達されてフィルム２０を挟持搬送する。この搬送ラッ
ク４２は定着槽３６又は水洗槽３８内へ送り込まれたフ
ィルム２０を底部へ向けて下降搬送した後に反転させて
上昇搬送し、定着槽３６または水洗槽３８内から送り出
す。これにより定着槽３４内を搬送されたフィルム２０
は定着槽３６内に貯留された定着液で定着される。また
水洗槽３６内を搬送されたフィルム２０は水洗槽３８内
に貯留された水洗水で水洗される。

【００３４】また現像槽３６内には挿入口２６側に搬送
ローラ対６０が配置されている。挿入口２６を介して筐
体１８内部に挿入されたフィルム２０は、この搬送ロー
ラ対６０に挟持されて現像槽３４内へ向けて送り込まれ
る。さらに現像槽３４と定着槽３６との間には現像槽３
４内から送り出されたフィルム２０を下方へ向けて反転
させ、定着槽３６へ向けて案内するための上部反転ガイ
ド６２が配置されている。また定着槽３６と水洗槽３
８の間には定着槽３６内から送り出されたフィルム２０
を水洗槽３８内へ向けて反転させると共に水洗処理する
フィルムが挿入されるクロスオーバーラック６８が配置
されている。

【００３５】図１に示されるように、水洗槽３８のフィ
ルム２０の搬送方向下流側にはスクイズ部６６が設けら
れており、スクイズ部６６の下流側には本発明に係る乾
燥装置７８が配置されている。スクイズ部６６にはスク
イズラック７０が配置されている。このスクイズラック
７０には一対の側板７２（但し、図１では一方の側板の
み図示）と、これらの側板７２間に配置されて回転可能
に支持された搬送ローラ対７４、７６が配設されてい
る。これらの搬送ローラ対７４、７６は図示しない駆動
手段の駆動力が伝達されて回転し、水洗槽３８内から送
り出されたフィルム２０を乾燥装置７８へ向けて挟持搬
送する。これによってフィルム２０に付着している水洗
水が絞り取られる。

【００３６】図１及び図２に示すように、乾燥装置７８
の乾燥室７８Ａ内には、挿入口８０を介してフィルム２
０が挿入される。乾燥室７８Ａ内には一対の側板９６
（図１及び図２には一方の側板のみ図示）が配置されて
おり、一対の側板９６の間には、フィルム２０の搬送路
に沿ってスクイズローラ８２、第１のヒートローラ８
４、第２のヒートローラ８６及び排出ローラ８８等が回
転可能に支持されている。スクイズローラ８２はフィル
ム２０を挟持搬送しながらフィルム２０に付着した水分
をスクイズし、さらに、これらのスクイズローラ８２の
下流側に設けられたガイド９０によってフィルム２０を
第１のヒートローラ８４外周周縁へ案内している。

【００３７】第１のヒートローラ８４及び第２のヒート
ローラ８６は乾燥室７８Ａ内に略上下に配置されてお
り、各々の外周面に沿って巻掛けられたフィルム２０を
搬送するフィルム搬送路が形成されている。第１のヒー
トローラ８４の軸心部には加熱手段としての棒状の赤外
線ヒータ９２が同軸的に配設されており、第２のヒート
ローラ８６の軸心部には加熱手段としての棒状の赤外線
ヒータ９４が同軸的に配設されている。赤外線ヒータ９
２、９４は各々ドライバ１３６、１３８（図３参照）に
接続されており、各ドライバから電力が供給されると作
動し、放射熱によって各ヒートローラのローラ本体９８
を加熱する。

【００３８】また第１のヒートローラ８４及び第２のヒ
ートローラ８６の外周周縁には、複数のニップローラ１
００が配設されている。ニップローラ１００はヒートロ
ーラ８４、８６に巻掛けられたフィルム２０をヒートロ
ーラ８４、８６の外周面との間で挟持する。フィルム２
０は、赤外線ヒータ９２、９４に加熱されたヒートロー
ラ８４、８６の外周面と接触することによって、熱伝導
によって加熱されて乾燥される。

【００３９】ヒートローラ８４、８６のフィルム２０の
搬送方向の下流側には、一端が第１のヒートローラ８４
または第２のヒートローラ８６の外周面に当接し、他端
が側板６４に軸支された剥離ガイド１０２が配設されて
おり、ヒートローラ８４、８６に巻掛けられたフィルム
２０を所定の位置で、ヒートローラ８４、８６の外周面
から剥離するようになっている。また、剥離ガイド１０
２の中間部は、搬送路の下流側へ向けて突出され、ヒー
トローラ８４、８６の外周面から剥離されたフィルム２
０を搬送路に沿って下流側へ案内するようになってい
る。

【００４０】また、ニップローラ１００のヒートローラ
８４、８６と反対側には、内部が中空とされたスプレー
パイプ１０４が配設されている。図２に示すように、こ
れらのスプレーパイプ１０４には、フィルム２０の搬送
路へ向けて内部と連通するスリット１０７がフィルム２
０の幅方向に沿って形成されている。スプレーパイプ１
０４の内部に乾燥風が供給されることにより、この乾燥
風がフィルム２０へ向けてフィルム２０の幅方向に沿っ
て均一に吐出されるようになっている。

【００４１】図１及び図２に示すように、各々のヒート
ローラ８４、８６の下流側及び排出ローラ８８の間に
は、ガイド１０８が各々配置されている。このガイド１
０８は、ヒートローラ８４、８６あるいは排出ローラ８
８によって搬送されたフィルム２０を下流側のヒートロ
ーラ８６あるいは排出ローラ８８へと案内するようにな
っている。また、図２に示されるように、各々のガイド
１０８は、内部が中空とされていると共に、案内される
フィルム２０の幅方向に沿ってスリット１１０が形成さ
れている。ガイド１０８は内部に乾燥風が供給されるこ
とにより、この乾燥風がフィルム２０へ向けてフィルム
２０の幅方向に沿って均一に吐出されるようになってい
る。

【００４２】これらのスプレーパイプ１０４、ガイド１
０８の各々から吐出される乾燥風によってフィルム２０
の表面近傍に滞留した高湿度の空気が排除され、フィル
ム２０の乾燥が促進される。このフィルム２０の表面近
傍から排除された高湿度の空気はファン１１７によって
機外へ排出される。乾燥室７８Ａ内で乾燥処理されたフ
ィルム２０は、排出口１１２から感光材料処理装置１０
の筐体１８外へ排出される。

【００４３】乾燥室７８Ａの下方には、乾燥風を発生す
るファン１１４及びヒータ１１６が設けられ、乾燥風を
発生するようになっている。この乾燥風は図示しないダ
クトを介して、前記スプレーパイプ１０４及びガイド１
０８の内部へ供給されるようになっている。なお、ヒー
タ１１６を設けずに、ファン１１４によって感光材料処
理装置１０の機外の空気をスプレーパイプ１０４及びガ
イド１０８を介して乾燥室７８Ａ内へ供給するか、ファ
ン１１４によって大部分の乾燥室７８Ａ内の空気を循環
させ、機外の空気を一部取り入れてスプレーパイプ１０
４及びガイド１０８を介して乾燥室７８Ａ内に供給する
ようにしてもよい。また、この乾燥室７８Ａ内の第１の
ヒートローラ８４の外周周縁の近傍には温度センサ１１
８が配設されており、第２のヒートローラ８６の外周周
縁の近傍にも温度センサ１２０が配設されている。温度
センサ１１８により第１のヒートローラ８４の外周面の
表面温度θ_H1が検出され、温度センサ１２０により第２
のヒートローラ８６の外周面の表面温度θ_H2が検出され
る。

【００４４】赤外線ヒータ９２、９４は各々Ａ／Ｄ変換
器１３２、１３４を介して制御回路１２２の入出力ポー
ト１３０に接続されている。制御回路１２２は、ＣＰＵ
１２４、ＲＯＭ１２６、ＲＡＭ１２８、入出力ポート１
３０がバス等を介して互いに接続されて構成されてい
る。ＲＯＭ１２６には第１のヒートローラ８４の設定温
度θ₁及び第２のヒートローラ８６の設定温度θ₂が予
め記憶されている。また入出力ポート１３０にはドライ
バ１３６、１３８が接続されており、制御回路１２２
は、第１のヒートローラ８４の温度が設定温度θ₁とな
るようにドライバ１３６を介して赤外線ヒータ９２の作
動を制御すると共に、第２のヒートローラ８６の温度が
設定温度θ₂となるようにドライバ１３８を介して赤外
線ヒータ９４の作動を制御する。

【００４５】ここで、第１のヒートローラ８４の表面温
度の設定値θ₁は、フィルム２０を乳剤層が形成された
面を下にして挿入口２６から挿入したときに、フィルム
２０の乳剤層が形成された面が第１のローラに、また乳
剤層が形成された面と反対の面がニップローラ１００に
貼り付かない程度の温度（約７０℃）に設定される。フ
ィルム２０が第２のヒートローラ８６に巻き掛けられる
ときは、フィルム２０の乳剤層が形成された面及び反対
側の面がある程度乾燥されている。そこで第２のヒート
ローラ８６表面温度の設定値θ₂は第１のヒートローラ
８４の表面温度の設定値θ₁よりも高温に設定すること
ができ、本実施例では第２のヒートローラ８６の表面温
度θ₂は約８０℃に設定される。このように、第１のヒ
ートローラ８４及び第２のヒートローラ８６の表面温度
を設定することによって、フィルム２０が第１のヒート
ローラ８４、第２のヒートローラ８６に貼り付くことな
く、しかも迅速に乾燥することができる。

【００４６】次に本実施例の作用を説明する。挿入口２
６を介して筐体１８内部にフィルム２０が挿入される
と、検出器２８によって挿入されたフィルム２０が検出
され、検出信号が制御回路１２２へ入力される。挿入さ
れたフィルム２０は搬送ローラ対６０に挟持されて現像
槽３４内へ搬送され、搬送ラック４０によって下降搬送
された後に上昇搬送されて現像槽３４から送り出され
る。これにより現像槽３４内の現像液に浸漬されて現像
処理される。現像槽３４内から送り出されたフィルム２
０は上部反転ガイド６２によって下方へ向けて反転され
て定着槽３６内へ送り込まれる。

【００４７】定着槽３６内へ送り込まれたフィルム２０
は搬送ラック４２によって下降搬送された後に上昇搬送
されて定着槽３６内から送り出される。これにより定着
槽３６内の定着液中へ浸漬されて定着処理される。定着
槽３６から送り出されたフィルム２０はクロスオーバー
ラック６８によって下方へ向けて反転されて水洗槽内４
６内へ送り込まれる。水洗槽３８内へ送り込まれたフィ
ルム２０は搬送ラック４２によって下降搬送された後に
反転されて上昇搬送されて水洗水によって水洗処理さ
れ、スクイズ部６６へ搬送される。

【００４８】スクイズ部６６へ搬送されたフィルム２０
は水洗槽３８で付着した水分が絞り取られて、乾燥装置
７８内へ搬入される。水洗槽３２で水洗処理が完了した
フィルム２０は、乾燥装置７８の乾燥室７８Ａ内へ挿入
され、乾燥室７８Ａ内を搬送されて乾燥処理される。

【００４９】すなわち、フィルム２０の乳剤層が形成さ
れた面を下にしてフィルム２０が挿入口２４から挿入さ
れたとき、乾燥室７８Ａ内に挿入されたフィルム２０
は、スクイズローラ８２によってスクイズされた後に乳
剤層が形成された面が第１のヒートローラ８４の外周面
に接触するように第１のヒートローラ８４に巻掛けられ
る。第１のヒートローラ８４は赤外線ヒータ９２によっ
て加熱され、第２のヒートローラ８６の温度よりも低
く、かつフィルム２０の乳剤層が形成された面及びその
反対の面が第１のヒートローラ８４及びニップローラ１
００に貼り付かない所定温度（例えば第１のヒートロー
ラ８４の表面温度が約７０℃）となるように制御されて
いる。このため、フィルム２０は乳剤層が形成された面
が第１のヒートローラ８４に貼り付くことなく加熱乾燥
される。フィルム２０が第１のヒートローラ８４に巻き
掛けられた状態で、乳剤層が形成された面と反対の面は
第１のヒートローラ８４から供給された熱が伝導されて
加熱され、また第１のヒートローラ８４の外周に配置さ
れたスプレーパイプ１０４から吐出される乾燥風が吹き
付けられて乾燥される。

【００５０】第１のヒートローラ８４を通過してある程
度乾燥されたフィルム２０は、乳剤層が形成された面と
反対の面が第２のヒートローラ８６の外周面と接触する
ように第２のヒートローラ８６に巻き掛けられる。第２
のヒートローラ８６は赤外線ヒータ９４によって加熱さ
れ、後述する温度制御によって第１のヒートローラ８４
の温度よりも高い所定温度（例えば第２のヒートローラ
８６の表面温度が８０℃）となるように制御されてい
る。前述のように乳剤層が形成された面と反対の面は第
１のヒートローラ８４を通過した時点である程度乾燥さ
れているので、第２のヒートローラ８６が第１のヒート
ローラ８４よりも高温とされていてもフィルム２０が第
２のヒートローラ８６に貼り付くことはない。フィルム
２０の乳剤層が形成された面は、第１のヒートローラ８
４によって予め加熱されており、第２のヒートローラ８
６から供給された熱が伝導されて加熱され、さらに第２
のヒートローラ８６の外周に配置されたスプレーパイプ
１０４から吐出される乾燥風が吹付けられることにより
乾燥される。

【００５１】ここで、第２のヒートローラ８６より第１
のヒートローラ８４の表面温度を低くするように加熱手
段を制御したが、これに代えて、フィルム２０の第１の
ヒートローラ８４への巻掛け量を第２のヒートローラ８
６への巻掛け量よりも少なくすることによってフィルム
２０が受ける熱量を調整するようにしてもよい。

【００５２】また、フィルム２０はヒートローラ８４、
８６から熱伝導により熱を受けて加熱されるため、フィ
ルム２０へ効率よく熱が伝わり、実質的に硬膜剤を含ま
ない定着液によって処理されたフィルムでも迅速な乾燥
処理ができる。さらに、第１のヒートローラ８４及び第
２のヒートローラ８６のローラ本体１０６はアルミニウ
ム製の円筒にテフロンコーティングしたもので製作さ
れ、厚さも略一定とされており、局部的に熱容量が大き
くなっているという欠陥もないので、後述する温度制御
によってローラ本体１０６の表面温度を容易に略一定と
することができる。従って、フィルム２０は、乾燥ムラ
が生じることなく均一に乾燥される。乾燥装置７８によ
って乾燥されたフィルム２０は、排出ローラ８８によっ
て挟持搬送されて排出口１１２を介して感光材料処理装
置１０の機外へ排出され、フィルムストッカ２４内に収
容される。

【００５３】次に、第１のヒートローラ８４及び第２の
ヒートローラ８６の温度制御を図４のフローチャートを
参照して説明する。なお、図４のフローチャートは一定
のサンプリング周期Ｔ_S（例えば500msec ）毎に実行さ
れる。

【００５４】ステップ２００では、温度センサ１１８に
よって検出される第１のヒートローラ８４の温度θ_H1を
表すデータをＡ／Ｄ変換器１３２を介して取り込む。ス
テップ２０４では、温度センサ１２０によって検出され
る第２のヒートローラ８６の温度θ_H2を表すデータをＡ
／Ｄ変換器１３４を介して取り込む。ステップ２０８で
はステップ２００及びステップ２０４で取り込んだデー
タをＲＡＭ１２８に記憶する。

【００５５】ステップ２１０では所定数のサンプリング
が終了したか否か判定する。ステップ２１０の判定が否
定された場合にはフローを終了してステップ２００へ戻
る。本実施例ではヒートローラの温度を４回取り込むと
ステップ２１０の判定が肯定され、ステップ２１２以降
で赤外線ヒータ９２、９４のオン時間の制御を行う。こ
こで、本実施例においては制御周期Ｔ_C＝４×Ｔ_Sであ
る。ステップ２１２では検出器２８からの検出信号に基
づいてフィルム２０の挿入タイミング等の処理情報の取
込みを行う。例として、図５（Ａ）に示すタイミングで
フィルム２０Ａ、フィルム２０Ｂ、フィルム２０Ｃが挿
入口２６を介して挿入された場合、検出器２８からは図
５（Ｂ）に示すような検出信号が出力される。フィルム
２０が検出器２８配設部位から乾燥装置７８の挿入口８
０に到達するまでの時間をｔ₀とすると、図５（Ｃ）に
示すタイミングでフィルム２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが挿
入口８０を通過することになる。

【００５６】図５（Ｃ）より明らかなように、フィルム
２０Ａの後端が挿入口８０を通過してから次のフィルム
２０Ｂの先端が挿入口８０に到達するまでの時間は短く
（ｔ _L：小）、フィルム２０Ｂの後端が挿入口を通過し
てから次のフィルム２０Ｃの先端が挿入口８０に到達す
るまでの時間は長い（ｔ_L：大）。本実施例の制御回路
１２２では、乾燥装置７８がフィルム２０の乾燥を行っ
ている場合には、第１のヒートローラ８４及び第２のヒ
ートローラ８６の温度が設定温度を維持するように図５
（Ｄ）の「処理モード」が選択されてＰＩＤ制御（後
述）を行う。また、フィルム２０の乾燥を行っていない
スタンバイ時には、第１のヒートローラ８４及び第２の
ヒートローラ８６の温度が設定温度よりも低い所定温度
θ_aとなるようにスタンバイモードが選択される。しか
しながら、前述のフィルム２０Ａとフィルム２０Ｂの処
理間隔のようにフィルムの間隔が短い場合（例えば３分
間以内）には、「処理モード」が選択されてＰＩＤ制御
による設定温度の維持を継続して行う。

【００５７】また、制御回路１２２はフィルム２０の先
端が乾燥装置７８に到達する所定時間前（図５（Ｄ）の
ｔ_B）から第１のヒートローラ８４及び第２のヒートロ
ーラ８６の温度が設定温度となるように「処理モード」
が選択されＰＩＤ制御を開始して予熱を行い、フィルム
２０の後端が挿入口８０を通過してからフィルム２０の
後端が乾燥装置８０の排出口１１２を通過する所定時間
（図５（Ｄ）のｔ_A）が経過するまで、前述の処理モー
ドのＰＩＤ制御を継続して行う。検出器２８からのフィ
ルム検出信号を処理情報として取込み、図５（Ｄ）に示
すように処理モードかスタンバイモードかの選択が行わ
れＰＩＤ制御とスタンバイ時の制御との切替えの時期を
設定する。

【００５８】また、本ステップでは処理情報として、図
示しないスイッチまたはキーボードを操作することによ
って乾燥処理を行うフィルム２０の種類（例えば速乾タ
イプ、標準タイプ等）を表す情報を入力して、ＲＡＭ１
２８に記憶させ、この情報を基にステップ２２４（後
述）のパラメータ変更を行うようにしてもよい。

【００５９】次のステップ２１４では、現在の制御とし
てスタンバイ時の制御が設定されているか否か判定す
る。ステップ２１４の判定が肯定された場合には、ステ
ップ２１６で赤外線ヒータ９２、９４のオン時間とし
て、予め定められているスタンバイ時のオン時間ｔ_Sを
設定する。ステップ２３０では設定したオン時間ｔ_Sを
ドライバ１３６、１３８へ出力する。これにより、赤外
線ヒータ９２、９４は制御周期Ｔ_C内でスタンバイ時の
オン時間ｔ_Sだけオンされ、ヒートローラ８４、８６の
表面温度が設定温度θ₁、θ₂よりも低い所定温度θ_a
に維持される。

【００６０】また、ステップ２１４の判定が否定された
場合には、ステップ２１８以降で処理モードのＰＩＤ制
御によるヒータオン時間の設定を行う。ステップ２１８
ではパラメータの変更が必要か否か判定する。このパラ
メータの意味とその変更については後述する。ステップ
２１８の判定が否定されるとステップ２２０へ移行し、
例としてヒートローラ表面温度への影響が少ない速乾タ
イプのフィルムをローラにより乾燥する場合、図６
（Ａ）に示すように、ヒートローラの表面温度を測定す
る温度センサによって測定される測定ノイズが次の制御
周期に影響を及ぼさないようにするために、ステップ２
０８で記憶したデータ（例えばサンプルＳ₁、…、
Ｓ₄）の平均値を演算し、この値を基にヒートローラ８
４、８６の表面の設定温度θ₁、θ₂との偏差Ｅ₁を各
ヒートローラ毎に演算する。次のステップ２２２では演
算した偏差Ｅ₁に基づいてヒートローラ毎に操作量Ｙ_n
を求める。操作量Ｙ_nは以下の（１）式によって求めら
れる。

【００６１】

【数１】

【００６２】であり、Ｅ_n：ｎ回目のサンプリングの際の偏差Ｐ_b：比例帯（％）Ｔ_i：積分時間（sec) Ｔ_d：微分時間（sec) Ｔ_C：制御周期（sec) Ｙ_S：偏差Ｅ＝０のときの操作量上記（１）式に各ヒートローラ毎のデータを代入するこ
とにより、赤外線ヒータ９２、９４の操作量Ｙ_nが算出
される。この操作量Ｙ_nをステップ２３０でドライバ１
３６、１３８へ制御周期当りのヒータオン時間ｔ_Pとし
て出力することにより、赤外線ヒータ９２が設定温度θ
₁となり、赤外線ヒータ９４が設定温度θ₂となるよう
に赤外線ヒータ９２、９４がオンされる。

【００６３】これにより、フィルム２０がヒートローラ
の表面に接触したときのヒートローラ表面温度θ_Hの変
動は、図７（Ａ）に示すように従来のオンオフ制御と比
較してハンチングが小さくなるように抑制される。例え
ば従来のオンオフ制御ではフィルム２０を処理する前に
おいては第１のヒートローラ８４及び第２のヒートロー
ラ８６の表面温度がそれぞれ７０℃、８０℃のとき偏差
がそれぞれ２℃であったものを、ＰＩＤ制御によって制
御することにより、それぞれの偏差を１℃以内とするこ
とができ、目標温度に対する偏差を半減させることがで
きる。

【００６４】フィルム２０を処理するとき、第１のヒー
トローラ８４と第２のヒートローラ８６は、従来のオン
オフ制御では７０℃、８０℃のとき偏差がそれぞれ４℃
であったものを、ＰＩＤ制御による制御によってそれぞ
れの偏差を２℃以内にすることができ、やはり偏差を半
減することができる。また、ヒートローラの表面温度を
スタンバイ時の温度θ_aから設定温度（θ₁または
θ₂）へ上昇させるときにも、ヒートローラ表面温度θ
_Hの変動を図７（Ｂ）に示すように短時間で設定温度に
収束させることができる。

【００６５】また、乾燥処理を行うフィルム２０が標準
的な乾燥速度で乾燥する標準タイプの場合には、短時間
で乾燥する速乾タイプのフィルム２０を乾燥させる場合
と比較して熱的負荷が大きいためヒートローラの表面温
度θ_Hの変化速度が速い。このため、標準タイプのフィ
ルム２０を乾燥させる場合にはヒートローラの表面温度
の変化に対する応答が速くなるように制御するが、速乾
タイプのフィルム２０を乾燥させる場合に同様の制御を
行うと表面温度の変化に対して操作量が過度に変化し、
ヒートローラの表面温度の変動が大きくなる。このた
め、本実施例ではステップ２１８でローラ表面温度θ_H
の時間当りの変動量Ｌを、例えば経過時間Ｔ（Ｔ₁、Ｔ
₂、Ｔ₃、Ｔ₄）におけるヒートローラ表面温度θ（θ
₁、θ₂、θ₃、θ₄）の各サンプルＳ₁、Ｓ₂、
Ｓ₃、Ｓ₄について下記（２）式によって算出し、

【００６６】

【数２】

【００６７】この変動量Ｌを基に速乾タイプのフィルム
２０か標準タイプのフィルム２０かを判定し、前記
（１）式のパラメータの値の変更が必要か否か判定して
いる。なお、本実施例ではパラメータの標準値として、
速乾タイプのフィルムの乾燥に適したパラメータが設定
されている。なお、上記パラメータは、比例帯（％）Ｐ
_b、積分時間(sec) Ｔ_i、微分時間(sec) Ｔ_dのことを
いう。

【００６８】ステップ２１８でパラメータの変更が必要
であると判断した場合にはステップ２２４で適切なパラ
メータを選択する。例えば、図５（Ａ）に示すように、
速乾タイプのフィルム２０Ａ、標準タイプのフィルム２
０Ｂ、速乾タイプのフィルム２０Ｃが順に挿入された場
合には、図５（Ｅ）に示すようにフィルム２０Ｂの乾燥
処理によるローラ表面温度θ_Hの時間当りの変動量によ
りステップ２１８の判定が肯定され、ステップ２２４で
応答性を重視した標準タイプのフィルムの乾燥に適した
パラメータが選択される。また、フィルム２０Ｃの乾燥
処理によるローラ表面温度θ_Hの時間当りの変動量によ
りステップ２１８の判定が否定され、パラメータの標準
値として速乾タイプのフィルムの乾燥に適したパラメー
タが選択されることになる。

【００６９】次のステップ２２６では、前述のステップ
２２０における平均値の演算に代えて応答性を重視して
各ヒートローラ毎に補正演算を行う。例としてヒートロ
ーラ表面温度への影響が大きい標準タイプのフィルムを
ヒートローラにより乾燥する場合、図６（Ｂ）に示すよ
うに、経過時間Ｔ（Ｔ₁、Ｔ₂、Ｔ₃、Ｔ₄）における
ヒートローラ表面温度θ（θ₁、θ₂、θ₃、θ₄）の
各サンプルＳ₁、Ｓ₂、Ｓ₃、Ｓ₄について、

【００７０】

【数３】

【００７１】（２）式から上記（３）式を導き、この上
記（３）式を基に制御時の経過時間Ｔ_Sにおけるヒート
ローラ表面温度θ₅を予想し、このθ₅から設定温度θ
₁、θ₂に対する偏差Ｅ₁を求める。このようにして、
上記（３）式を用いてヒートローラ表面温度θ₅を求め
ることによりヒートローラ表面温度の測定ノイズによる
次の制御周期への影響を小さくすることができる。

【００７２】次のステップ２２８では（３）式を使った
補正演算の結果Ｅ₁に基づいて、前記（１）式を用いて
各ヒートローラ毎の操作量の演算を行い、ステップ２３
０でこの操作量を制御周期当りのヒータオン時間に換算
し、ドライバ１３６、１３８へ出力する。このときの操
作量はパラメータの変更、補正演算等により、ヒートロ
ーラの表面温度の変動が小さくなるようにフィルム２０
の種類に応じた温度制御がされることになる。

【００７３】このように本実施例では、最初に赤外線ヒ
ータ９２によって加熱された第１のヒートローラ８４の
外周面に、乳剤層が形成された面が接触するようにフィ
ルム２０を巻掛けると共に、第１のヒートローラ８４の
外周に配置したスプレーパイプ１０４からの乾燥風を供
給して乾燥させ、次に赤外線ヒータ９４によって加熱さ
れた第２のヒートローラ８６の外周面に、乳剤層が形成
された面と反対の面が接触するようにフィルム２０を巻
掛けて乾燥させる。また第１のヒートローラ８４の表面
温度を、フィルム２０の乳剤層が形成された面及びその
反対の面が第１のヒートローラ８４及びニップローラ１
００に貼り付かない程度の約７０℃に設定し、第２のヒ
ートローラ８６の表面温度については、第１のヒートロ
ーラ８４と同程度の温度とした場合にフィルム２０が第
２のヒートローラ８６に貼り付かない程度にフィルム２
０の両面が乾燥されているので、第１のヒートローラ８
４の温度よりも高温で、フィルム２０に悪影響を及ぼさ
ない程度の約８０℃に設定している。これによってフィ
ルム２０はヒートローラ８４、８６及びニップローラ１
００に貼り付くことなく、しかも迅速に乾燥される。

【００７４】また、ヒートローラ８４、８６の表面温度
変動のオーバシュートをＰＩＤ制御によって微小に抑え
ることができるので、フィルム２０の乳剤層が、実質的
に硬膜が形成されていない乳剤層であっても損傷するこ
となく、しかも迅速な乾燥を複数の感光材料に亘って実
現することが可能である。

【００７５】なお、処理情報としては、検出器２８から
の検出信号に基づくフィルム２０の挿入タイミングの他
に、ステップ２１２においてスイッチまたはキーボード
が操作されることによって入力され、ＲＡＭ１２８に記
憶されるフィルム２０の種類（例えば速乾タイプ、標準
タイプ等）を表す情報でもよく、また、上記以外にもフ
ィルム２０を最適な状態で乾燥するのに必要な種々の情
報を処理情報として用いることができる。

【００７６】また、本実施例では感光材料としてフィル
ム２０について説明したが、これに限らず他の感光材料
でも良い。

【００７７】また、本実施例ではフィルムの乳剤層が形
成された面が下方を向くように感光材料処理装置１０の
挿入口２６から挿入するようにしたが、フィルム２０の
乳剤層が最初にヒートローラに接触し、その後乳剤層と
反対の面がヒートローラと接触するようにするならば、
フィルム２０の乳剤層が形成された面が上方を向くよう
に挿入口２６からフィルム２０を挿入してもよい。

【００７８】また、本実施例では第１のヒートローラ８
４と第２のヒートローラ８６とを同じ大きさ、すなわち
同じ半径としていたが、半径が異なっていてもよい。第
１のヒートローラ８４及び第２のヒートローラ８６は各
々独立して温度制御を行っているため、半径が異なるも
のであっても適用が可能である。さらに、本実施例で
は、第１のローラ及び第２のローラを、各々単一のヒー
トローラによって構成していたが、２本以上のヒートロ
ーラによって構成するようにしてもよい。

【００７９】また、本実施例ではＰＩＤ制御を用いてヒ
ートローラ８４、８６の温度を制御するようにしていた
が、メンバシップ関数を用いた制御によりメンバシップ
関数そのものを変化させてヒートローラ８４、８６の温
度を制御してもよい。

【００８０】また、温度のサンプリング周期を短くし
（例えば100msec以下）、サンプリング周期毎にオンオ
フの判断基準を変化させるオンオフ制御を行うようにし
てもよい。

【００８１】また、本実施例において感光材料処理装置
１０の排出口から排出された後のフィルム２０の含水量
がフィルム２０の露光時の含水量と略同一となるよう
に、第１のヒートローラ８４及び第２のヒートローラ８
６の温度を予め実験等によって求め、それに従って制御
することにより、露光時と乾燥処理後のフィルム２０の
寸法を略同一とすることもできる。

【００８２】

【発明の効果】以上説明したように本発明では、感光材
料を搬送するローラが加熱手段にとって加熱され温度検
出手段によって検出される表面温度の時間的変化または
感光材料の処理情報の少なくとも一方に基づいて制御手
段によって加熱手段を制御し、ローラの表面温度の変動
幅を所定値以内となるようにしたので、複数枚の感光材
料に亘って略均一に乾燥することができ、感光材料を安
定して乾燥させることができる、という優れた効果が得
られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例に係る感光材料処理装置を概略構成を
示す側面図である。

【図２】乾燥装置の概略構成を示す側面図である。

【図３】制御回路周辺の概略ブロック図である。

【図４】本実施例の作用を説明するフローチャートであ
る。

【図５】（Ａ）乃至（Ｅ）は、感光材料処理装置に挿入
されたフィルムと、挿入されたフィルムに対する処理を
説明するタイミングチャートである。

【図６】（Ａ）は平均値演算、（Ｂ）は補正演算を説明
する線図である。

【図７】本実施例と従来とのローラ表面温度の変動を比
較する線図である。

【符号の説明】

１０感光材料処理装置７８感光材料乾燥装置８４第１のヒートローラ８６第２のヒートローラ９２赤外線ヒータ９４赤外線ヒータ１０４スプレーパイプ１１８温度センサ１２０温度センサ１２２制御回路

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理液によって処理した感光材料を搬送
しながら乾燥する感光材料乾燥装置であって、前記感光
材料の搬送路に設けられ前記感光材料を搬送するローラ
と、前記ローラを加熱する加熱手段と、前記ローラの表
面温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段に
よって検出された表面温度の時間的変化に基づいて前記
ローラの表面温度の変動幅が所定値以内となるように前
記加熱手段を制御する制御手段と、を有する感光材料乾
燥装置。
【請求項２】処理液によって処理した感光材料を搬送
しながら乾燥する感光材料乾燥装置であって、前記感光
材料の搬送路に設けられ前記感光材料を搬送するローラ
と、前記ローラを加熱する加熱手段と、前記ローラの表
面温度を検出する温度検出手段と、前記温度検出手段に
よって検出された表面温度の時間的変化及び前記感光材
料の処理情報に基づいて前記ローラの表面温度の変動幅
が所定値以内となるように前記加熱手段を制御する制御
手段と、を有する感光材料乾燥装置。
【請求項３】前記制御手段は、前記ローラの表面温度
の変動幅が所定値以内となるようにＰＩＤ制御によって
前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項１また
は請求項２記載の感光材料乾燥装置。