JPH0514277B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、静電潜像を書込むための光導電性膜
と、書込まれた静電潜像を消去するための光源を
有する装置とを備えた電子複写装置に関する。

〔従来の技術〕

静電潜像がヒ素−セレン（As₂Se₃）のような
光導電性材料より成る膜内に作られる電子複写装
置は公知である。このような複写装置においては
光導電性材料より成る膜の荷電はコロナ放電によ
つて行なわれる。書込まれた静電潜像の消去は普
通行われるように光導電性材料よりなる膜に最大
の光導電度を発生するスペクトル範囲の光によつ
て行われる。このスペクトル範囲は上に例として
あげられたAs₂Se₃に対しては約500nmの緑光の
範囲にある。静電潜像の書込みは一般に同じスペ
クトル範囲の光によつて行われる。しかしながら
本出願人により、例えば昭和53年特許出願公開第
44033号公報及びドイツ連邦共和国特許出願公開
第2639414号明細書に示すように、赤いスペクト
ル範囲の光線によつて書込みを行うという提案も
なされている。この提案によつて静電潜像の書込
みをすることができるが、この潜像は通常のコロ
ナ荷電によつて除去されず、再生される。このよ
うにして書込まれた静電潜像の消去は一般に行わ
れるように上記のような緑光によつて行なわれ
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の様式の電子複写装置においては、上記膜
に対して使用されるような少なくともある数の光
導電性材料において疲労効果が現れることが明ら
かとなつた。この疲労効果は特に電界強度に関係
する易動性分布を有する光電導体において現れ、
これには上記のAs₂Se₃が属している。このよう
な疲労効果は例えばドイツ連邦共和国特許出願公
開第2037456号明細書に述べられている。

上記公開明細書に述べられた疲労効果を除去す
るため、当明細書には光導電性膜の照射を変化さ
せるべきことが述べられており、その変化は光電
導体の実際に存在する表面電位に関係して行われ
る。

疲労現象は、コロナ放電により光導電性膜が繰
り返し連続して周期的に荷電される際、実際に得
られる表面電位が連続的に現象することによつて
認められる。この結果、複写装置を引続いて使用
する際、コピーにコントラスト変化が生ずる。

上記の公開明細書に述べられた装置では、荷電
電位、従つて書込み光線用コントラスト電位をコ
ピー毎にほぼ一定に保持するようにすることは少
なくとも困難である。本発明の目的は、書込み光
線用コントラスト電位をほぼ一定に保持し得る電
子複写装置を得ることにある。

〔課題を解決するための手段〕

上述の目的を達成するため、本発明によれば、
静電潜像を書込むための光導電性膜と、書込まれ
た静電潜像を消去するための光源を有する装置と
を備えた電子複写装置において、前記光源は、光
導電性膜に最大光導電度を生じる波長を含む第１
のスペクトル範囲と、光導電性膜に生じる光導電
度と滲透深度との積が最大となる波長を含む第２
のスペクトル範囲とを含み、第１のスペクトル範
囲の光線エネルギーは第２のスペクトル範囲の光
線エネルギーの３〜10倍のスペクトル分布を有
し、両スペクトル範囲の各幅はそれぞれの最大値
の波長の約±10％に定められ、かつ残りのスペク
トルの全光線エネルギーは第１のスペクトル範囲
の光線エネルギーの５〜10％を越えないようにす
る。

ここに滲透深度とは、光波が一つの物質中に浸
入したとき、その物質の表面において光波が有し
ていた強さが物質中を通ることにより減衰して表
面における強さの１／ｅに低下した深さをいう。

〔実施例〕

次に本発明を図面によつて詳細に説明する。

主として赤成分またはフイルタをかけることに
よつて消去のためのただ１つのスペクトル範囲に
より形成された成分を持つている白熱電球の光を
使用することは、本発明者の確認するところによ
れば、コピー毎に表面電位が減少するという上記
の不利な効果を生じた。消去のために備えられた
光の種々のスペクトル範囲のエネルギー成分を特
殊な大きさにする本発明による処置によつて、こ
の効果を完全に除去することが可能になる。第１
図は本発明によつて達成される効果を説明するた
めの線図を示し、縦軸は光導電性膜の帯電状態を
表し、クーロン又はボルトで測定された効果を示
し、横軸はサイクルの数を表す。したがつて第１
図は、光導電性膜を表面に有するドラムを帯電状
態にし、光を照射することにより荷電を消去する
というサイクルを繰り返す操作を行つたとき得ら
れるドラム表面の帯電状態を表す。×印で示す列
２は、従来装置によつて白熱電球の光からフイル
ムを通して形成した光により荷電消去を９回のサ
イクルで行つて得られた帯電電位を示し、第１回
の帯電から第３回の帯電サイクルまでは、ドラム
の表面帯電電位は上昇し、第４回から第９回の帯
電サイクルでは電位は連続的に下降し、均一な電
位とはならない。なおこの結果は記録露光を行う
ことなくドラムを回転させて得られたものであ
る。

●印で示す列１は、本発明による光源を用いた
結果を示し、９回のサイクルに亘つて同じ高さの
帯電電位が得られ、これによつて複写毎に一定の
基本黒化度が得られる。

○印で示す列３は、ドラム表面を均一な帯電状
態にした後、サイクル毎に一定の記録露光を行つ
た結果を示す。列３の電位値は、それぞれ行われ
た記録露光後に測定されたもので、列１に相応す
る帯電電位から出発して記録露光した後消去を行
つた結果生じた電位値である。列３から明らかな
ように、第10回より第13回のサイクルにおいて一
定の電位値が得られる。

●印で示す列４は、第14回より第18回のサイク
ルにおいて再び帯電と消去を行い、記録露光は行
われないときの電位値を示す。

△印で示す列５は、第14回から第18回のサイク
ル間において、本発明による消去露光ではなく従
来装置による消去露光を行つた結果を示す。列５
から分かるうに、列３による第10回より第13回の
記録露光を行つたサイクル後でも記録露光を行わ
ない場合、本発明による消去露光を行つた列４に
相応する高い電位値は得られない。換言すれば、
本発明によるものよりコントラストがずつと小さ
くなる。さらに列５から分かるように、第14回か
ら第18回のサイクルの電位値は互に著しく異なり
一定していない。

すなわち、本発明によれば、 (1) 記録露光しない場合（列１と列４）も、記録
露光する場合（列３）も、常に一定の帯電電位
を得ることができる。

(2) 高いコントラストを得ることができる（列
１、列４の電位値と列３の電位値との差が大き
い）。

(3) 記録露光を含むサイクル後、記録露光を再び
取除くと、直ちに再び対応する電位値が生じる
（列３の電位値から列４の電位値への跳躍）。

従つて簡単にまとめていえば、本発明では消去
に使用される光線を２つのスペクトル範囲から構
成するものである。第１のスペクトル範囲は、静
電潜像を書込むための光導電性膜に最大光導電度
を生じる光線波長の±10％の範囲にある。As₂
Se₂光導電性膜に対しては、この最大光導電度を
生じる波長は500nmである。±10％で示された幅
は、光がそれぞれの材料における光導電度発生に
関して等価であるスペクトル範囲を示す。この範
囲にわたる光線エネルギーの積分は光導電性材料
において光導電度発生のために有効である。同じ
ことは、光導電性膜に生じる光導電度と滲透深度
との積が最大となる波長を含む第２のスペクトル
範囲に対しても当てはまる。この第２のスペクト
ル範囲の作用は、物理的にはこのスペクトル範囲
の光より波長の短いすべての波長範囲の光に対し
て高い光導電度を発生する空間電荷状態の変化に
よる増幅効果に相応する。

この点において述べられるべきことは、この２
つの上記したスペクトル範囲の光の他に別の光
が、第１のスペクトル範囲の全光線エネルギーの
５ないし10％を越えない全エネルギーでのみ照射
されてもよいということである。したがつて本発
明による両スペクトル範囲の光は、例えば適当な
フイルタを備えた唯１つの光源の光であつてもよ
い。しかしながら本発明は２つの光源によつても
現実することができ、この際１つの光源は白光、
また他の光源は実際には最大光導電度発生の第１
のスペクトル範囲のみの光、As₂Se₃の場合には
緑光を供給する。従つてこの際第２のスペクトル
範囲の光はこの白光の成分であることができる。

第２図は本発明で用いられる光源の光の一例の
スペクトル範囲を示すものである。１１は最大光
導電度を発生する波長を含む第１のスペクトル範
囲を示し、その際１２は横軸上に記入された最大
値の波長を示す。スペクトル範囲１１はこの波長
１２を中心として前後±10％の範囲で限定されて
いる。ここに述べておくべきことは、±10％と記
載したが、これは本来それぞれの光導電性材料に
関係しかつ当業者に大体の指示を与える概略の値
であるということである。１３は光導電度と滲透
深度との積が最大となる波長を含む第２のスペク
トル範囲を示す。このスペクトル範囲１３はその
最大となる波長１４を中心として前後±10％の範
囲にあり、第２図よりこれらの範囲相互の光線の
エネルギー比の一例が見られる。１５は波長に関
係した光導電性膜の吸収曲線の大体の位置であ
る。この図から本発明によるスペクトル範囲の位
置がこの吸収曲線に関してよく認められる。

第２図に記入された破線１６は、例えば付加的
に存在することができかつ上記のスペクトル範囲
外にある付加的光線を示す。この光線のスペクト
ル範囲１１および１３に入るスペクトル成分はス
ペクトル範囲１１ないし１３のエネルギー値に数
えられるべきである。

第３図は本発明が適用される公知の複写装置を
示す説明図である。２１はドラムを示し、この上
には感光性の膜２１１がある。２３はコロナ放電
用の装置である。２４は記録照射のための装置を
示し、この中には例えば赤光用の光源２４１があ
る。２５は静電コピーの作成用の印刷装置であ
る。２６は特に本発明が具体化されている装置を
示す。この装置２６の中にある光源２６１は例え
ばフイルタ２６２を使用して、第１のスペクトル
範囲の光線及び第２のスペクトル範囲の光線を供
給することができる。

第３図は本発明の特殊な構成を含み、この構成
においては１つのスペクトル範囲のみに対する光
源２６１を有する第１の装置２６の他に、他のス
ペクトル範囲の必要な光を発生する光源２６１′
を有する第２装置２６′が含まれている。即ち本
発明に対しては、両スペクトル範囲の光が同時に
ドラム２１の表面上ないしは膜２１１中に達する
ことは必ずしも必要ではない。むしろ１つのスペ
クトル範囲の光の照射を時間的に他のスペクトル
範囲の光線の照射後（およびこの逆）行うことも
可能である。この両照射が連続して（例えばコロ
ナ荷電または複写過程によつて互いに分離されず
に）装置２５による印刷過程とコロナ装置２３の
（再）荷電間で行われることは特に述べられる必
要がない。

次に光導電体としてAs₂Se₃の使用の際のコン
トラスト電位の安定化に対する光線エネルギー成
分Ｉ(11)およびＩ(13)の影響を示すような、若干の数
値例を述べる。以下の例において、Ａ，Ｂは従来
装置の場合、Ｃは本発明装置のものである。

Ａ：Ｉ(11)＝50・10^-3Ws／m²：λ(12)＝500nmおよび Ｉ(13)＝０は46・10^-4Ａ／m²のコロナ電流密度の際 700Vの荷電電位を生ずる。そのときコントラス
ト電位５マイナス３（第１図）はその安定化され
た最終値の設定迄30％だけ変化する。

Ｂ：Ｉ(11)＝(13)1.5・10^-3Ws／m²：λ(13)＝500nm： λ(14)＝700nmは13.4・10^-4Ａ／m²のコロナ電流密度 の際550Vの荷電電位を生ずる。そのときコント
ラスト電位５マイナス３（第１図）はその安定化
された最終値の設定迄50％だけ変化する。

Ｃ：Ｉ(11)＝10・10^-3Ws／m²：λ(13)＝500nm： Ｉ(13)＝1.5・10_U-3Ws／m²：λ(14)＝700nmは13.4・ 10_-4Ａ／m²のコロナ電流密度の際700Vの荷電電位を 生ずる。そのときコントラスト電位４マイナス３
（第１図）はその安定化された最終値の設定迄３
％より少なく変化するが、このことは提案された
装置２６の所望の影響を示す。

コロナ荷電前の予備照射ともいわれる本発明に
よるような消去照射によつて、波長の長いスペク
トル範囲の光による記録照射用の膜の材料の光導
電効果は高められる。その際「波長が長い」と
は、光エネルギーがそれぞれの光導電性材料の帯
辺部にほぼ等しい波長範囲を意味する。これにつ
いては本出願人の提案による上記の公開明細書中
に記載されている。As₂Se₂に対してはこれは約
550ないし650nmの範囲である。このように長い
波長による書込みは、例えば米国特許第3511649
号明細書より明らかなようにこれ迄実際には行わ
れなかつた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明により達成される効果を説明す
るための線図、第２図はスペクトル範囲およびこ
の範囲の放射エネルギーを相互の比において、ま
た光導電体の材料の吸収曲線に関して示す線図、
第３図は本発明による複写装置の概略図である。 １１，１３……スペクトル範囲、１２，１４…
…波長、１６……光線エネルギー、２１１……光
導電性膜、２６１，２６１′……光源、２６２…
…フイルタ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 静電潜像を書込むための光導電性膜と、書込
   まれた静電潜像を消去するための光源を有する装
   置とを備えた電子複写装置において、前記光源２
   ６１は、光導電性膜に最大光導電度を生じる波長
   を含む第１のスペクトル範囲１１と、光導電性膜
   に生じる光導電度と滲透深度との積が最大となる
   波長を含む第２のスペクトル範囲１３とを含み、
   第１のスペクトル範囲１１の光線エネルギーは第
   ２のスペクトル範囲１３の光線エネルギーの３〜
   10倍のスペクトル分布を有し、両スペクトル範囲
   １１，１３の各幅はそれぞれの最大値の波長１
   ２，１４の約±10％に定められ、かつ残りのスペ
   クトル１６の全光線エネルギーは第１のスペクト
   ル範囲１１の光線エネルギーの５〜10％を超えな
   いようにしたことを特徴とする電子複写装置。 ２ 第２のスペクトル範囲１３の光線エネルギー
   は、残りのスペクトル１６の光線をも放出する光
   源２６１の光線の成分であることを特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の装置。 ３ 光源２６１の光線はほぼ白光であることを特
   徴とする特許請求の範囲第２項記載の装置。 ４ 両スペクトル範囲１１，１３の光線エネルギ
   ーは、両スペクトル範囲の光線エネルギーのエネ
   ルギー比と残りのスペクトル１６の光線エネルギ
   ーとを調整するフイルタ２６２の設けられている
   唯１つの光源２６１により発生されることを特徴
   とする特許請求の範囲第１項記載の装置。 ５ ２つの光源２６１，２６１′が備えられ、こ
   れらの光源は時間的に連続して順次１つのスペク
   トル範囲１１，１３の光線エネルギーないし他の
   スペクトル範囲１３，１１の光線エネルギーを光
   導電性膜２１１へ照射することを特徴とする特許
   請求の範囲第１項記載の装置。