JPH05142543A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH05142543A JPH05142543A JP30468291A JP30468291A JPH05142543A JP H05142543 A JPH05142543 A JP H05142543A JP 30468291 A JP30468291 A JP 30468291A JP 30468291 A JP30468291 A JP 30468291A JP H05142543 A JPH05142543 A JP H05142543A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】液晶表示素子の製造工程における歩留まりを向
上し生産性向上を図る。 【構成】液晶表示素子の製造方法では、電極基板１およ
びＣＦ基板８などの透明基板の不用基板６を含むほぼ全
面に配向膜７が形成され、布などによってこの配向膜７
全面がラビングされる。すると、両基板の液晶充填領域
５の配向膜７には均一な溝状の凹凸部が形成されて、こ
の液晶充填領域５では、液晶分子の配向方向を良好に得
ることができる。
上し生産性向上を図る。 【構成】液晶表示素子の製造方法では、電極基板１およ
びＣＦ基板８などの透明基板の不用基板６を含むほぼ全
面に配向膜７が形成され、布などによってこの配向膜７
全面がラビングされる。すると、両基板の液晶充填領域
５の配向膜７には均一な溝状の凹凸部が形成されて、こ
の液晶充填領域５では、液晶分子の配向方向を良好に得
ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子の製造方
法に関する。
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、液晶表示素子の製造過程の１
つとして、透明基板に形成された配向膜を布などにより
一方向に擦り配向処理を行う、いわゆるラビングはよく
知られている。ここで、ラビングとは、液晶分子の配向
方向を得るために透明基板上に配向膜を形成し、この配
向膜に溝状の凹凸部を所定方向に形成することである。
このラビングの結果によって液晶表示素子の表示品位の
善し悪しが決まり、製造工程における液晶表示素子の歩
留りが決定される。このため、このラビング処理には、
配向膜面に対して均一な溝状の凹凸部を形成することが
望まれている。ところで、従来の液晶表示素子の製造方
法では、ラビングの前に、図５に示すように、ＣＦ（カ
ラーフィルタ）基板５１および電極基板５２などの各透
明基板上の表示領域５３よりも少し大きめな領域に配向
膜５４が形成される。この領域を液晶充填領域５５（斜
線部）と称する。その後、この配向膜５４にラビングす
る。
つとして、透明基板に形成された配向膜を布などにより
一方向に擦り配向処理を行う、いわゆるラビングはよく
知られている。ここで、ラビングとは、液晶分子の配向
方向を得るために透明基板上に配向膜を形成し、この配
向膜に溝状の凹凸部を所定方向に形成することである。
このラビングの結果によって液晶表示素子の表示品位の
善し悪しが決まり、製造工程における液晶表示素子の歩
留りが決定される。このため、このラビング処理には、
配向膜面に対して均一な溝状の凹凸部を形成することが
望まれている。ところで、従来の液晶表示素子の製造方
法では、ラビングの前に、図５に示すように、ＣＦ（カ
ラーフィルタ）基板５１および電極基板５２などの各透
明基板上の表示領域５３よりも少し大きめな領域に配向
膜５４が形成される。この領域を液晶充填領域５５（斜
線部）と称する。その後、この配向膜５４にラビングす
る。
【０００３】ところで、図６示すように、例えばＣＦ基
板５１上を布などを用いて所定の方向、例えば斜め方向
（矢印）にラビングすると、液晶充填領域５５の配向膜
５４とセル形成時に切断される液晶充填領域５５の外側
に延在する基板部分５６との境界およびその近傍部分で
ラビングによる押圧力の差が生じる。さらに、この押圧
差の生じる部分を配向膜上に分布線Ｃを引いて区分する
と、配向膜５４の中央部５７（押圧力のほぼ一定な部
分）と配向膜周縁部５８（押圧力の強い部分）とに分け
られる。この場合、分布線Ｃは、表示領域５３内にかか
ることがある。
板５１上を布などを用いて所定の方向、例えば斜め方向
（矢印）にラビングすると、液晶充填領域５５の配向膜
５４とセル形成時に切断される液晶充填領域５５の外側
に延在する基板部分５６との境界およびその近傍部分で
ラビングによる押圧力の差が生じる。さらに、この押圧
差の生じる部分を配向膜上に分布線Ｃを引いて区分する
と、配向膜５４の中央部５７（押圧力のほぼ一定な部
分）と配向膜周縁部５８（押圧力の強い部分）とに分け
られる。この場合、分布線Ｃは、表示領域５３内にかか
ることがある。
【０００４】このような状況で、例えば布などを用いて
連続的に配向膜５４をラビングした場合、配向膜周縁部
５８（押圧力の強い部分）を擦る布などのへたり方およ
び汚れ方などが変わってくる。すなわち、配向膜周縁部
５８では、布の使い初めは溝状の凹凸部の深さが深くな
り、布がへたってくると溝状の凹凸部の深さが浅くなる
など凹凸部の形状が不安定になる。例えば分布線Ｃの表
示領域５３にかかった部分で凹凸部が浅くなると、その
部分に充填された液晶材料の液晶分子は配向不良を起こ
し、完成した液晶表示素子の表示は、表示領域５３の周
辺部が薄くなるといった表示不良（表示むら）を起こ
す。この結果、液晶表示素子の製造工程では歩留まりが
低下することになる。
連続的に配向膜５４をラビングした場合、配向膜周縁部
５８（押圧力の強い部分）を擦る布などのへたり方およ
び汚れ方などが変わってくる。すなわち、配向膜周縁部
５８では、布の使い初めは溝状の凹凸部の深さが深くな
り、布がへたってくると溝状の凹凸部の深さが浅くなる
など凹凸部の形状が不安定になる。例えば分布線Ｃの表
示領域５３にかかった部分で凹凸部が浅くなると、その
部分に充填された液晶材料の液晶分子は配向不良を起こ
し、完成した液晶表示素子の表示は、表示領域５３の周
辺部が薄くなるといった表示不良（表示むら）を起こ
す。この結果、液晶表示素子の製造工程では歩留まりが
低下することになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このように上述した従
来の液晶表示素子の製造方法では、各透明基板の液晶充
填領域に配向膜を形成しこの配向膜をラビングすると、
表示領域に配向不良が生じることがあり、液晶表示素子
の製造工程の歩留まりが低下するという問題があった。
来の液晶表示素子の製造方法では、各透明基板の液晶充
填領域に配向膜を形成しこの配向膜をラビングすると、
表示領域に配向不良が生じることがあり、液晶表示素子
の製造工程の歩留まりが低下するという問題があった。
【０００６】本発明はこのような課題を解決するために
なされたもので、各透明基板の少なくとも表示領域には
均一な押圧力でラビングでき、この結果、液晶表示素子
の製造工程の歩留まりが向上し、生産性向上を図ること
のできる液晶表示素子の製造方法を提供することを目的
とする。
なされたもので、各透明基板の少なくとも表示領域には
均一な押圧力でラビングでき、この結果、液晶表示素子
の製造工程の歩留まりが向上し、生産性向上を図ること
のできる液晶表示素子の製造方法を提供することを目的
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するために、少なくともラビングするときには、表
示領域の外側に透明基板が延在する液晶表示装置の製造
方法において、前記透明基板のほぼ全面に配向膜を形成
し、この配向膜全面にラビングすることを特徴としてい
る。
達成するために、少なくともラビングするときには、表
示領域の外側に透明基板が延在する液晶表示装置の製造
方法において、前記透明基板のほぼ全面に配向膜を形成
し、この配向膜全面にラビングすることを特徴としてい
る。
【０００８】
【作用】この発明の液晶表示素子の製造方法では、少な
くともラビングするときには、表示領域外に透明基板が
延在しており、この透明基板のほぼ全面に配向膜を形成
すると、透明基板上はほぼ平坦な面になる。
くともラビングするときには、表示領域外に透明基板が
延在しており、この透明基板のほぼ全面に配向膜を形成
すると、透明基板上はほぼ平坦な面になる。
【０００９】この透明基板の配向膜全面をラビングする
と、透明基板の周縁部には、ラビングの押圧力に差が生
じて溝状の凹凸部が不均一に形成される。しかし、この
周縁部はセル形成時に切断される部分であり液晶表示素
子が完成したときには関係がなくなる。
と、透明基板の周縁部には、ラビングの押圧力に差が生
じて溝状の凹凸部が不均一に形成される。しかし、この
周縁部はセル形成時に切断される部分であり液晶表示素
子が完成したときには関係がなくなる。
【００１０】一方、透明基板の表示領域よりも若干広い
液晶充填領域（中央部）には、ラビングの押圧力がほぼ
均一に加えられるのでこの領域の配向膜には均一な溝状
の凹凸部が形成される。そして、セル形成後、この領域
に液晶材料を充填すれば、この領域の液晶分子の配向方
向は良好に得られるようになる。
液晶充填領域（中央部）には、ラビングの押圧力がほぼ
均一に加えられるのでこの領域の配向膜には均一な溝状
の凹凸部が形成される。そして、セル形成後、この領域
に液晶材料を充填すれば、この領域の液晶分子の配向方
向は良好に得られるようになる。
【００１１】この結果、液晶表示素子の製造工程では、
表示不良が低減されて歩留まりが向上する。
表示不良が低減されて歩留まりが向上する。
【００１２】
【実施例】以下、本発明に係る一実施例の液晶表示素子
の製造方法を図面に基づいて説明する。図１、図２、図
３および図４はこの液晶表示素子の製造手順を示す図で
ある。
の製造方法を図面に基づいて説明する。図１、図２、図
３および図４はこの液晶表示素子の製造手順を示す図で
ある。
【００１３】この実施例の製造方法では、図１に示すよ
うに、まず、透明基板（以下電極基板１と称す）上にTF
T アレイなどからなる表示領域２を形成し、この表示領
域２の周囲近傍にシール剤塗布部３と引き出し電極部４
を形成する。このシール剤塗布部３で囲まれた領域内に
液晶材料が充填されるのでこの領域を液晶充填領域５と
称する。したがって、この液晶充填領域５は表示領域２
よりも若干広くなる。続いて、電極基板１のシール剤塗
布部３と引き出し電極部４とを除き、電極基板１の液晶
充填領域５とこの外側に延在している基板部分（以下、
この基板部分はセル形成時に切断される不用部分である
ので不用基板６と称す）とを含むほぼ全面に印刷法など
によりポリイミドなどを用いて配向膜７を形成し、その
後、この電極基板１をおよそ 180゜Ｃで焼成する。な
お、シール剤塗布部３には、接着強度を保持するために
配向膜７は形成せず、引き出し電極部４には、他の基板
との電気的接続を行うために配向膜７は形成しない。
うに、まず、透明基板（以下電極基板１と称す）上にTF
T アレイなどからなる表示領域２を形成し、この表示領
域２の周囲近傍にシール剤塗布部３と引き出し電極部４
を形成する。このシール剤塗布部３で囲まれた領域内に
液晶材料が充填されるのでこの領域を液晶充填領域５と
称する。したがって、この液晶充填領域５は表示領域２
よりも若干広くなる。続いて、電極基板１のシール剤塗
布部３と引き出し電極部４とを除き、電極基板１の液晶
充填領域５とこの外側に延在している基板部分（以下、
この基板部分はセル形成時に切断される不用部分である
ので不用基板６と称す）とを含むほぼ全面に印刷法など
によりポリイミドなどを用いて配向膜７を形成し、その
後、この電極基板１をおよそ 180゜Ｃで焼成する。な
お、シール剤塗布部３には、接着強度を保持するために
配向膜７は形成せず、引き出し電極部４には、他の基板
との電気的接続を行うために配向膜７は形成しない。
【００１４】続いて、この電極基板１に対向配置される
ＣＦ（カラーフィルター）基板８のシール剤塗布部３と
電極基板１の引き出し電極部４とを除き、この基板の不
用基板６を含むほぼ全面に配向膜７を形成し、その後、
電極基板１と同様に焼成する。これにより、それぞれの
基板上はほぼ平坦な面になる。
ＣＦ（カラーフィルター）基板８のシール剤塗布部３と
電極基板１の引き出し電極部４とを除き、この基板の不
用基板６を含むほぼ全面に配向膜７を形成し、その後、
電極基板１と同様に焼成する。これにより、それぞれの
基板上はほぼ平坦な面になる。
【００１５】次に、両基板の不用基板６を含む配向膜７
にラビング処理を施す。すなわち、図２に示すように、
ＣＦ基板８の配向膜７全面を布などによって所定の方
向、例えば斜め方向（矢印方向）に押圧しつつラビング
する。
にラビング処理を施す。すなわち、図２に示すように、
ＣＦ基板８の配向膜７全面を布などによって所定の方
向、例えば斜め方向（矢印方向）に押圧しつつラビング
する。
【００１６】このとき、不用基板６に形成された配向膜
７には、その周縁部Ａに布の押圧力に差が生じてこの部
分に形成された溝状の凹凸部は、その形状（深さ）など
が不安定になる。
７には、その周縁部Ａに布の押圧力に差が生じてこの部
分に形成された溝状の凹凸部は、その形状（深さ）など
が不安定になる。
【００１７】一方、液晶充填領域５の配向膜７には、布
などの押圧力がほぼ均一に加えられるため均一な溝状の
凹凸部が形成される。なお、電極基板１についてもラビ
ング処理を同様に行う。なお、TN型の場合、ラビング方
向は電極基板１とＣＦ基板８とで直交させるようにす
る。
などの押圧力がほぼ均一に加えられるため均一な溝状の
凹凸部が形成される。なお、電極基板１についてもラビ
ング処理を同様に行う。なお、TN型の場合、ラビング方
向は電極基板１とＣＦ基板８とで直交させるようにす
る。
【００１８】そして、図３に示すように、電極基板１と
ＣＦ基板８とを電気的に接続するためのトランスファー
９をＣＦ基板８に塗布し、エポキシ樹脂などのシール剤
１１を電極基板１に塗布し、互いの配向膜６を対向させ
るようにして両基板をスペーサビーズ１２を介して貼り
合わせる。なお、このスペーサビーズ１２は直径5 μｍ
程度のものが用いられる。
ＣＦ基板８とを電気的に接続するためのトランスファー
９をＣＦ基板８に塗布し、エポキシ樹脂などのシール剤
１１を電極基板１に塗布し、互いの配向膜６を対向させ
るようにして両基板をスペーサビーズ１２を介して貼り
合わせる。なお、このスペーサビーズ１２は直径5 μｍ
程度のものが用いられる。
【００１９】その後、図４に示すように、セルの有効外
形寸法線（トラスファー９の外側近傍の位置）Ｂより個
々の基板の不用基板６を切断し、図示しない注入口を形
成し、この注入口より液晶充填領域５内に液晶材料１３
を充填し注入口を封止すれば、液晶分子の配向方向の良
好に得られた液晶セル１４が形成される。つまり、不用
基板６は切断されるのでこの不用基板６に形成された溝
状の凹凸部がいかなる状態であろうとも完成した液晶セ
ル１４には問題はない。
形寸法線（トラスファー９の外側近傍の位置）Ｂより個
々の基板の不用基板６を切断し、図示しない注入口を形
成し、この注入口より液晶充填領域５内に液晶材料１３
を充填し注入口を封止すれば、液晶分子の配向方向の良
好に得られた液晶セル１４が形成される。つまり、不用
基板６は切断されるのでこの不用基板６に形成された溝
状の凹凸部がいかなる状態であろうとも完成した液晶セ
ル１４には問題はない。
【００２０】このように本実施例の液晶表示素子の製造
方法よれば、電極基板１とＣＦ基板８とのほぼ全面に配
向膜７を形成しこの配向膜７全面をラビングすると、布
の押圧力に差の生じる部分は基板の周縁部Ａに生じる
が、この周縁部Ａは液晶セル１４としては不要な部分で
あるため液晶セル１４には問題は生じない。
方法よれば、電極基板１とＣＦ基板８とのほぼ全面に配
向膜７を形成しこの配向膜７全面をラビングすると、布
の押圧力に差の生じる部分は基板の周縁部Ａに生じる
が、この周縁部Ａは液晶セル１４としては不要な部分で
あるため液晶セル１４には問題は生じない。
【００２１】一方、両基板の液晶充填領域５の配向膜７
には、均一な溝状の凹凸部が形成されるので液晶分子の
配向方向が良好に得られるようになる。
には、均一な溝状の凹凸部が形成されるので液晶分子の
配向方向が良好に得られるようになる。
【００２２】この結果、液晶表示素子の製造工程では、
表示不良などが低減されて液晶表示素子の歩留まりが向
上し、生産性向上が図られる。
表示不良などが低減されて液晶表示素子の歩留まりが向
上し、生産性向上が図られる。
【００２３】なお、本発明は、例えば単純マトリクス液
晶表示素子およびアクティブマトリクス液晶表示素子な
どさまざまな液晶表示素子に用いることができる。
晶表示素子およびアクティブマトリクス液晶表示素子な
どさまざまな液晶表示素子に用いることができる。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように本発明の液晶表示素
子の製造方法によれば、透明基板のほぼ全面に配向膜が
形成され、この配向膜全面がラビングされるので透明基
板の少なくとも表示領域には、均一な溝状の凹凸部が形
成され液晶分子の配向方向が良好に得られる。
子の製造方法によれば、透明基板のほぼ全面に配向膜が
形成され、この配向膜全面がラビングされるので透明基
板の少なくとも表示領域には、均一な溝状の凹凸部が形
成され液晶分子の配向方向が良好に得られる。
【００２５】この結果、液晶表示素子の製造工程では、
歩留まりが向上して生産性向上を図ることができる。
歩留まりが向上して生産性向上を図ることができる。
【図１】この発明の一実施例の液晶表示素子の製造手順
の第１工程を示す図である。
の第１工程を示す図である。
【図２】この発明の一実施例の液晶表示素子の製造手順
の第２工程を示す図である。
の第２工程を示す図である。
【図３】この発明の一実施例の液晶表示素子の製造手順
の第３工程を示す図である。
の第３工程を示す図である。
【図４】この発明の一実施例の液晶表示素子の製造手順
の第４工程を示す図である。
の第４工程を示す図である。
【図５】従来の液晶表示素子の配向膜形成状態を示す平
面図である。
面図である。
【図６】従来の液晶表示素子のラビング処理後の状態を
示す平面図である。
示す平面図である。
１…………電極基板 ２…………表示領域 ５…………液晶充填領域 ７…………配向膜 ８…………ＣＦ基板 １４………液晶セル
Claims (1)
- 【請求項１】 少なくともラビングするときには、表示
領域の外側に透明基板が延在する液晶表示装置の製造方
法において、 前記透明基板のほぼ全面に配向膜を形成し、この配向膜
全面にラビングすることを特徴とする液晶表示素子の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30468291A JP3086732B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30468291A JP3086732B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05142543A true JPH05142543A (ja) | 1993-06-11 |
| JP3086732B2 JP3086732B2 (ja) | 2000-09-11 |
Family
ID=17935957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30468291A Expired - Fee Related JP3086732B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3086732B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6055353A (en) * | 1997-06-05 | 2000-04-25 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical fiber for optical amplification and optical amplifier using the optical fiber |
-
1991
- 1991-11-20 JP JP30468291A patent/JP3086732B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6055353A (en) * | 1997-06-05 | 2000-04-25 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Optical fiber for optical amplification and optical amplifier using the optical fiber |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3086732B2 (ja) | 2000-09-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000627 |
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