JPH05137502A - エチレン除去装置 - Google Patents
エチレン除去装置Info
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- JPH05137502A JPH05137502A JP32513291A JP32513291A JPH05137502A JP H05137502 A JPH05137502 A JP H05137502A JP 32513291 A JP32513291 A JP 32513291A JP 32513291 A JP32513291 A JP 32513291A JP H05137502 A JPH05137502 A JP H05137502A
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- Japan
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- ethylene
- air
- reaction chamber
- environment
- hydrogen peroxide
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 空気中のエチレンを連続して効率よく、しか
も低廉な設備で酸化除去する。 【構成】 エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入し、
同空気中のエチレンを除去した後、これを前記保鮮環境
に戻すエチレン除去装置において、入口７より導入され
たエチレン含有空気に、オゾン発生器２により発生し吹
出口３より吹出されたオゾンを付与する第１反応室９を
設け、同第１反応室９より混合器４を経て未反応エチレ
ンを含む空気が流入する第２反応室１０内に、過酸化水
素水溶液６が入っている分解・吸収器５を設け、同第２
反応室１０内に流入した前記空気を過酸化水素水溶液６
内を通過させて未反応エチレンを酸化する。
も低廉な設備で酸化除去する。 【構成】 エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入し、
同空気中のエチレンを除去した後、これを前記保鮮環境
に戻すエチレン除去装置において、入口７より導入され
たエチレン含有空気に、オゾン発生器２により発生し吹
出口３より吹出されたオゾンを付与する第１反応室９を
設け、同第１反応室９より混合器４を経て未反応エチレ
ンを含む空気が流入する第２反応室１０内に、過酸化水
素水溶液６が入っている分解・吸収器５を設け、同第２
反応室１０内に流入した前記空気を過酸化水素水溶液６
内を通過させて未反応エチレンを酸化する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は青果物保鮮システム中の
エチレン等の除去に適用されるエチレン除去装置に関す
るものである。
エチレン等の除去に適用されるエチレン除去装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来果物、野菜、花卉等の鮮度保持に
は、低温での貯蔵が行なわれ、環境調節として酸素濃度
の低下、二酸化炭素の添加により呼吸作用の抑制を図っ
ていた。更に最近貯蔵物から排出されるエチレンが成熟
ホルモンであることが分かり、エチレンの除去について
も注目されている。エチレンの除去は保鮮技術として極
めて有効と云われており、従来も保鮮環境を減圧にして
除去する方法、エチレン吸着剤を使用する方法、エチレ
ン包装材を使用する方法、オゾンや過マンガン酸カリ等
で酸化分解させる方法が開発されている。
は、低温での貯蔵が行なわれ、環境調節として酸素濃度
の低下、二酸化炭素の添加により呼吸作用の抑制を図っ
ていた。更に最近貯蔵物から排出されるエチレンが成熟
ホルモンであることが分かり、エチレンの除去について
も注目されている。エチレンの除去は保鮮技術として極
めて有効と云われており、従来も保鮮環境を減圧にして
除去する方法、エチレン吸着剤を使用する方法、エチレ
ン包装材を使用する方法、オゾンや過マンガン酸カリ等
で酸化分解させる方法が開発されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の保鮮環境を減圧にしてエチレンを除去する方法は、貯
蔵庫を減圧に耐え、かつ気密を保持するために高強度に
する必要があり、しかも大掛かりな減圧装置が必要なた
め、コスト高となる欠点があった。またエチレン吸着剤
を使用する方法は、活性炭やゼオライト等のエチレンを
吸着する多孔物質が使用されるが、吸着剤には水分が優
先的に吸着されるため、エチレンの吸着量は少ない。従
って吸着剤を多量に必要とする等の問題があり、更にエ
チレン除去効果は吸着剤周辺のみであり、全空間への効
果は少なかった。次にエチレン包装材を使用する方法
は、貯蔵物の包装であるため、その取扱いが繁雑であ
り、資材費も高くなる欠点があった。またオゾンや過マ
ンガン酸カリ等で酸化分解させる方法は、反応率が低い
ため大型となり、設備費及び運転経費が嵩むと云う問題
があった。本発明は前記従来の課題を解決すると共に、
更に殺菌、脱臭効果をも有するエチレン除去装置を提供
しようとするものである。
の保鮮環境を減圧にしてエチレンを除去する方法は、貯
蔵庫を減圧に耐え、かつ気密を保持するために高強度に
する必要があり、しかも大掛かりな減圧装置が必要なた
め、コスト高となる欠点があった。またエチレン吸着剤
を使用する方法は、活性炭やゼオライト等のエチレンを
吸着する多孔物質が使用されるが、吸着剤には水分が優
先的に吸着されるため、エチレンの吸着量は少ない。従
って吸着剤を多量に必要とする等の問題があり、更にエ
チレン除去効果は吸着剤周辺のみであり、全空間への効
果は少なかった。次にエチレン包装材を使用する方法
は、貯蔵物の包装であるため、その取扱いが繁雑であ
り、資材費も高くなる欠点があった。またオゾンや過マ
ンガン酸カリ等で酸化分解させる方法は、反応率が低い
ため大型となり、設備費及び運転経費が嵩むと云う問題
があった。本発明は前記従来の課題を解決すると共に、
更に殺菌、脱臭効果をも有するエチレン除去装置を提供
しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】このため本発明は、エチ
レンを含む保鮮環境内の空気を導入し、同空気中のエチ
レンを除去した後、これを前記保鮮環境に戻すエチレン
除去装置において、前記導入空気にオゾンを付与する第
１反応室と、同第１反応室を通過した空気を過酸化水素
水溶液中を通過させる第２反応室とからなるもので、こ
れを課題解決のための手段とするものである。また本発
明は、エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入し、同空
気中のエチレンを除去した後、これを前記保鮮環境に戻
すエチレン除去装置において、紫外線照射器を備え、湿
しフィルタを流通させた空気により高湿度環境に維持さ
れる第１反応室を有し、同第１反応室に保鮮環境内の空
気を導入して紫外線を照射すると共に、同第１反応室を
流通した空気を予熱し、これを触媒層に通す予熱器及び
触媒層を備えた第２反応室とからなるもので、これを課
題解決のための手段とするものである。更に本発明は、
エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入し、同空気中の
エチレンを除去した後、これを前記保鮮環境に戻すエチ
レン除去装置において、紫外線照射器を備え、湿しフィ
ルタを流通させた空気により高湿度環境に維持される第
１反応室を有し、同第１反応室に保鮮環境内の空気を導
入して紫外線を照射すると共に、同第１反応室を流通し
た空気を過酸化水素水溶液中を流通させる第２反応室を
有し、同第２反応室の過酸化水素水溶液を前記湿しフィ
ルタに導く過酸化水素水溶液導入路を設けてなるもの
で、これを課題解決のための手段とするものである。
レンを含む保鮮環境内の空気を導入し、同空気中のエチ
レンを除去した後、これを前記保鮮環境に戻すエチレン
除去装置において、前記導入空気にオゾンを付与する第
１反応室と、同第１反応室を通過した空気を過酸化水素
水溶液中を通過させる第２反応室とからなるもので、こ
れを課題解決のための手段とするものである。また本発
明は、エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入し、同空
気中のエチレンを除去した後、これを前記保鮮環境に戻
すエチレン除去装置において、紫外線照射器を備え、湿
しフィルタを流通させた空気により高湿度環境に維持さ
れる第１反応室を有し、同第１反応室に保鮮環境内の空
気を導入して紫外線を照射すると共に、同第１反応室を
流通した空気を予熱し、これを触媒層に通す予熱器及び
触媒層を備えた第２反応室とからなるもので、これを課
題解決のための手段とするものである。更に本発明は、
エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入し、同空気中の
エチレンを除去した後、これを前記保鮮環境に戻すエチ
レン除去装置において、紫外線照射器を備え、湿しフィ
ルタを流通させた空気により高湿度環境に維持される第
１反応室を有し、同第１反応室に保鮮環境内の空気を導
入して紫外線を照射すると共に、同第１反応室を流通し
た空気を過酸化水素水溶液中を流通させる第２反応室を
有し、同第２反応室の過酸化水素水溶液を前記湿しフィ
ルタに導く過酸化水素水溶液導入路を設けてなるもの
で、これを課題解決のための手段とするものである。
【０００５】
【作用】本発明においてエチレンを含む空気は、エチレ
ン除去装置の第１反応室に入り、ここでオゾンを混合さ
れることによりエチレンの一部が酸化されると共に、余
剰のオゾンと未反応のエチレンが第１反応室を通過して
第２反応室に流入する。次いで第２反応室において未反
応のエチレンを過酸化水素水溶液中を通すことにより、
ここでオゾンが分解されてヒドロキシラジカル（・Ｏ
Ｈ）を生成し、エチレンを酸化すると共に、エチレンの
酸化生成物も過酸化水素水溶液に吸収されて、保鮮に有
害な物質が完全に除去される。また請求項２の発明にお
いては、エチレンを含む空気は第１反応室に入り、ここ
で紫外線を照射されることにより、加湿空気中の酸素の
一部が励起酸素原子及びオゾンとなり、水と反応して酸
化力の強いヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を生成してエ
チレンが酸化される。ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）は
寿命が短いため消失するが、未反応エチレンとオゾンは
残存して第２反応室に入る。第２反応室の予熱器で加温
された空気は、相対湿度も下がり、残存するオゾンは触
媒層で分解される。更に請求項３の発明においては、エ
チレンを含む空気は第１反応室に入り、ここで紫外線を
照射されることにより、加湿空気中の酸素の一部が励起
酸素原子及びオゾンとなり、水と反応して酸化力の強い
ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を生成してエチレンが酸
化される。ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）は寿命が短い
ため消失するが、オゾンと未反応エチレンは残存して第
２反応室に入る。第２反応室では過酸化水素水溶液中を
通すことにより、ここでオゾンが分解されてヒドロキシ
ラジカル（・ＯＨ）を生成し、エチレンを酸化すると共
に、エチレンの酸化生成物も過酸化水素水溶液に吸収さ
れて、保鮮に有害な物質が完全に除去される。更に過酸
化水素水溶液を湿しフィルタに導入することによって導
入空気が加湿され、第１反応室がヒドロキシラジカル
（・ＯＨ）を生成し易い条件となり、反応効率が上が
る。
ン除去装置の第１反応室に入り、ここでオゾンを混合さ
れることによりエチレンの一部が酸化されると共に、余
剰のオゾンと未反応のエチレンが第１反応室を通過して
第２反応室に流入する。次いで第２反応室において未反
応のエチレンを過酸化水素水溶液中を通すことにより、
ここでオゾンが分解されてヒドロキシラジカル（・Ｏ
Ｈ）を生成し、エチレンを酸化すると共に、エチレンの
酸化生成物も過酸化水素水溶液に吸収されて、保鮮に有
害な物質が完全に除去される。また請求項２の発明にお
いては、エチレンを含む空気は第１反応室に入り、ここ
で紫外線を照射されることにより、加湿空気中の酸素の
一部が励起酸素原子及びオゾンとなり、水と反応して酸
化力の強いヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を生成してエ
チレンが酸化される。ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）は
寿命が短いため消失するが、未反応エチレンとオゾンは
残存して第２反応室に入る。第２反応室の予熱器で加温
された空気は、相対湿度も下がり、残存するオゾンは触
媒層で分解される。更に請求項３の発明においては、エ
チレンを含む空気は第１反応室に入り、ここで紫外線を
照射されることにより、加湿空気中の酸素の一部が励起
酸素原子及びオゾンとなり、水と反応して酸化力の強い
ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を生成してエチレンが酸
化される。ヒドロキシラジカル（・ＯＨ）は寿命が短い
ため消失するが、オゾンと未反応エチレンは残存して第
２反応室に入る。第２反応室では過酸化水素水溶液中を
通すことにより、ここでオゾンが分解されてヒドロキシ
ラジカル（・ＯＨ）を生成し、エチレンを酸化すると共
に、エチレンの酸化生成物も過酸化水素水溶液に吸収さ
れて、保鮮に有害な物質が完全に除去される。更に過酸
化水素水溶液を湿しフィルタに導入することによって導
入空気が加湿され、第１反応室がヒドロキシラジカル
（・ＯＨ）を生成し易い条件となり、反応効率が上が
る。
【０００６】
【実施例】以下本発明を図面の実施例について説明する
と、図１〜図３は本発明の第１〜第３実施例を示す。先
ず図１の第１実施例について説明すると、１はエチレン
除去装置で図示していない青果物の貯蔵庫内に設置され
ている。２はオゾン発生器で無声放電型、紫外線ランプ
型等が使用される。３はオゾンの吹出口で、エチレン除
去装置の第１反応室９内に配置されており、同第１反応
室９内で入口７より導入されたエチレン含有空気に吹出
口３よりのオゾンが付与される。４はエチレン含有空気
とオゾンの混合器、５は第２反応室１０内に設けられた
分解・吸収器で、過酸化水素水溶液６が入れてあり、下
流からの気流は必ず分解・吸収器５を通過する。８はフ
ァンである。
と、図１〜図３は本発明の第１〜第３実施例を示す。先
ず図１の第１実施例について説明すると、１はエチレン
除去装置で図示していない青果物の貯蔵庫内に設置され
ている。２はオゾン発生器で無声放電型、紫外線ランプ
型等が使用される。３はオゾンの吹出口で、エチレン除
去装置の第１反応室９内に配置されており、同第１反応
室９内で入口７より導入されたエチレン含有空気に吹出
口３よりのオゾンが付与される。４はエチレン含有空気
とオゾンの混合器、５は第２反応室１０内に設けられた
分解・吸収器で、過酸化水素水溶液６が入れてあり、下
流からの気流は必ず分解・吸収器５を通過する。８はフ
ァンである。
【０００７】次に作用を説明すると、ファン８を駆動す
ることによって、貯蔵庫内のエチレンを含む空気が入口
７からエチレン除去装置１の第１反応室９内に入り、オ
ゾン発生器２から送られオゾン吹出口３から出たオゾン
と合流し、混合器４を経て分解・吸収器５に入る。この
過程でエチレンの一部はオゾンと反応することにより、
酸化してエチレンオキサイドに転化する。そしてこれら
は分解・吸収器５に充填された過酸化水素水溶液６内を
流過する過程で、オゾンは瞬時に分解されて酸化力の強
いヒドロキシラジカル（・ＯＨ）となり、これが未反応
のエチレンと反応してこれを酸化する。また空気中に臭
気物質や細菌、かび等の微生物が含まれていると、これ
らはエチレンと同様の機構により脱臭されて殺菌され
る。また分解・吸収器５を流過した空気は、ファン８に
よって付勢され貯蔵庫に戻る。なお、前記図１の第１実
施例においては、オゾン発生器２がエチレン除去装置１
の外に配置されているが、オゾン発生型の紫外線ランプ
等のオゾン発生器２を、エチレン除去装置１内に配置し
てエチレン含有空気を直接オゾン化してもよい。また分
解・吸収器５は、性能向上又は大型化のために多段とす
ることもでき、ファン８に代えてエチレン含有空気の入
口７に押込み型ファンを設置することもできる。
ることによって、貯蔵庫内のエチレンを含む空気が入口
７からエチレン除去装置１の第１反応室９内に入り、オ
ゾン発生器２から送られオゾン吹出口３から出たオゾン
と合流し、混合器４を経て分解・吸収器５に入る。この
過程でエチレンの一部はオゾンと反応することにより、
酸化してエチレンオキサイドに転化する。そしてこれら
は分解・吸収器５に充填された過酸化水素水溶液６内を
流過する過程で、オゾンは瞬時に分解されて酸化力の強
いヒドロキシラジカル（・ＯＨ）となり、これが未反応
のエチレンと反応してこれを酸化する。また空気中に臭
気物質や細菌、かび等の微生物が含まれていると、これ
らはエチレンと同様の機構により脱臭されて殺菌され
る。また分解・吸収器５を流過した空気は、ファン８に
よって付勢され貯蔵庫に戻る。なお、前記図１の第１実
施例においては、オゾン発生器２がエチレン除去装置１
の外に配置されているが、オゾン発生型の紫外線ランプ
等のオゾン発生器２を、エチレン除去装置１内に配置し
てエチレン含有空気を直接オゾン化してもよい。また分
解・吸収器５は、性能向上又は大型化のために多段とす
ることもでき、ファン８に代えてエチレン含有空気の入
口７に押込み型ファンを設置することもできる。
【０００８】次に図２の第２実施例について説明する
と、１はエチレン除去装置で、図示していない青果物貯
蔵庫内に設置されている。９′は第１反応室で、同第１
反応室９′内には、波長１８４．９ｎｍ及び２５３．７
ｎｍの紫外線を発生する紫外線照射器１１があり、更に
第１反応室９′には、湿しフィルタ１２、ファン１３、
湿し空気流路１４が取付けられており、加湿された空気
は湿し空気出口１５から第１反応室９′に戻される。１
０′は第２反応室で、予熱器１６と触媒層１７が配置さ
れている。また７はエチレン含有空気入口、８はファン
である。
と、１はエチレン除去装置で、図示していない青果物貯
蔵庫内に設置されている。９′は第１反応室で、同第１
反応室９′内には、波長１８４．９ｎｍ及び２５３．７
ｎｍの紫外線を発生する紫外線照射器１１があり、更に
第１反応室９′には、湿しフィルタ１２、ファン１３、
湿し空気流路１４が取付けられており、加湿された空気
は湿し空気出口１５から第１反応室９′に戻される。１
０′は第２反応室で、予熱器１６と触媒層１７が配置さ
れている。また７はエチレン含有空気入口、８はファン
である。
【０００９】次に図２の第２実施例について作用を説明
すると、ファン８及びファン１３を駆動させることによ
って、貯蔵庫内のエチレンを含む空気が空気入口７から
第１反応室９′内に入るが、同空気の一部は湿しフィル
タ１２で加湿されて湿し空気出口１５から第１反応室
９′に戻る。前記空気が第１反応室９′を流過する過程
で、紫外線照射器１１から照射される波長１８４．９ｎ
ｍの紫外線によって、加湿空気中の酸素の一部が励起酸
素原子及びオゾンとなり、水と反応して酸化力の強いヒ
ドロキシラジカル（・ＯＨ）が生成してエチレンが酸化
される。ここで紫外線照射器１１から照射される波長２
５３．７ｎｍの紫外線は、オゾンを分解してヒドロキシ
ラジカル（・ＯＨ）の生成を助ける。そしてエチレンが
除去された空気は、次に第２反応室１０′へ入り、予熱
器１６で加温され、相対湿度が低下した状態で触媒層１
７へ導入される。触媒層１７は残存オゾンを分解するた
めに主に活性炭、ＴｉＯ2 ，ＭｎＯ2 等が使用される
が、何れも低温、高湿度では触媒能が低いため、空気を
予熱することによりこれらの障害を防止できる。また空
気中に臭気物質や細菌、かび等の微生物が含まれている
と、これらはエチレンと同様の機構により脱臭、殺菌さ
れる。また第２反応室１０′を流過した空気は、ファン
８によって付勢され貯蔵庫に戻る。以上の如く前記図２
の実施例においては、湿しフィルタ１２と湿し空気出口
１５の位置が下から上へ向けて配置してあるが、逆の配
置でもよく、全体を第１反応室９′内に収納してもよ
い。またファン８に代えて空気入口７に押込み型ファン
を設置することもできる。
すると、ファン８及びファン１３を駆動させることによ
って、貯蔵庫内のエチレンを含む空気が空気入口７から
第１反応室９′内に入るが、同空気の一部は湿しフィル
タ１２で加湿されて湿し空気出口１５から第１反応室
９′に戻る。前記空気が第１反応室９′を流過する過程
で、紫外線照射器１１から照射される波長１８４．９ｎ
ｍの紫外線によって、加湿空気中の酸素の一部が励起酸
素原子及びオゾンとなり、水と反応して酸化力の強いヒ
ドロキシラジカル（・ＯＨ）が生成してエチレンが酸化
される。ここで紫外線照射器１１から照射される波長２
５３．７ｎｍの紫外線は、オゾンを分解してヒドロキシ
ラジカル（・ＯＨ）の生成を助ける。そしてエチレンが
除去された空気は、次に第２反応室１０′へ入り、予熱
器１６で加温され、相対湿度が低下した状態で触媒層１
７へ導入される。触媒層１７は残存オゾンを分解するた
めに主に活性炭、ＴｉＯ2 ，ＭｎＯ2 等が使用される
が、何れも低温、高湿度では触媒能が低いため、空気を
予熱することによりこれらの障害を防止できる。また空
気中に臭気物質や細菌、かび等の微生物が含まれている
と、これらはエチレンと同様の機構により脱臭、殺菌さ
れる。また第２反応室１０′を流過した空気は、ファン
８によって付勢され貯蔵庫に戻る。以上の如く前記図２
の実施例においては、湿しフィルタ１２と湿し空気出口
１５の位置が下から上へ向けて配置してあるが、逆の配
置でもよく、全体を第１反応室９′内に収納してもよ
い。またファン８に代えて空気入口７に押込み型ファン
を設置することもできる。
【００１０】次に図３の第３実施例について説明する
と、１はエチレン除去装置で図示していない青果物貯蔵
庫内に設置されている。９′は図２と同じ構造の第１反
応室で、同第１反応室９′内には波長１８４．９ｎｍ及
び２５３．７ｎｍの紫外線を発生する紫外線照射器１１
があり、更に第１反応室９′には、湿しフィルタ１２、
ファン１３、湿し空気流路１４が取付けられており、加
湿された空気は湿し空気出口１５から第１反応室９′に
戻される。１０′は第２反応室で、図１の場合と同じ構
造である。また４はエチレン含有空気とオゾンの混合
器、５は分解・吸収器で、過酸化水素水溶液６が入れて
あり、下流からの気流は必ず分解・吸収器５を通過す
る。７はエチレン含有空気の入口、８はファンである。
また１８は過酸化水素水溶液６を湿しフィルタ１２に供
給する装置であり、減少分の過酸化水素水溶液は補給装
置１９によって適時補われる。
と、１はエチレン除去装置で図示していない青果物貯蔵
庫内に設置されている。９′は図２と同じ構造の第１反
応室で、同第１反応室９′内には波長１８４．９ｎｍ及
び２５３．７ｎｍの紫外線を発生する紫外線照射器１１
があり、更に第１反応室９′には、湿しフィルタ１２、
ファン１３、湿し空気流路１４が取付けられており、加
湿された空気は湿し空気出口１５から第１反応室９′に
戻される。１０′は第２反応室で、図１の場合と同じ構
造である。また４はエチレン含有空気とオゾンの混合
器、５は分解・吸収器で、過酸化水素水溶液６が入れて
あり、下流からの気流は必ず分解・吸収器５を通過す
る。７はエチレン含有空気の入口、８はファンである。
また１８は過酸化水素水溶液６を湿しフィルタ１２に供
給する装置であり、減少分の過酸化水素水溶液は補給装
置１９によって適時補われる。
【００１１】次に図３の第３実施例によって作用を説明
すると、ファン８及びファン１３を駆動させることによ
って、貯蔵庫内のエチレンを含む空気が空気入口７から
第１反応室９′内に入り、紫外線照射器１１によりオゾ
ン化される。また導入空気の一部は湿しフィルタ１２で
加湿されて湿し空気出口１５から第１反応室９′に戻
る。第１反応室９′を流過する過程で、紫外線照射器１
１から照射される波長１８４．９ｎｍの紫外線によっ
て、加湿空気中の酸素の一部が励起酸素原子及びオゾン
となり、水を反応して酸化力の強いヒドロキシラジカル
（・ＯＨ）が生成し、エチレンが酸化される。ここで紫
外線照射器１１から照射される波長２５３．７ｎｍの紫
外線は、オゾンを分解してヒドロキシラジカル（・Ｏ
Ｈ）の生成を助ける。更にこの空気は、混合器４を経て
分解・吸収器５に入る。この過程で未反応エチレンと残
留オゾンは、分解・吸収器５に充填された過酸化水素水
溶液６内を流過する過程で、オゾンは瞬時に分解されて
酸化力の強いヒドロキシラジカル（・ＯＨ）となり、こ
れが未反応エチレンと反応してこれを酸化する。また空
気中に臭気物質や細菌、かび等の微生物が含まれている
と、これらはエチレンと同様の機構により脱臭、殺菌さ
れる。また分解・吸収器５を流過した空気は、ファン８
によって付勢され貯蔵庫に戻る。
すると、ファン８及びファン１３を駆動させることによ
って、貯蔵庫内のエチレンを含む空気が空気入口７から
第１反応室９′内に入り、紫外線照射器１１によりオゾ
ン化される。また導入空気の一部は湿しフィルタ１２で
加湿されて湿し空気出口１５から第１反応室９′に戻
る。第１反応室９′を流過する過程で、紫外線照射器１
１から照射される波長１８４．９ｎｍの紫外線によっ
て、加湿空気中の酸素の一部が励起酸素原子及びオゾン
となり、水を反応して酸化力の強いヒドロキシラジカル
（・ＯＨ）が生成し、エチレンが酸化される。ここで紫
外線照射器１１から照射される波長２５３．７ｎｍの紫
外線は、オゾンを分解してヒドロキシラジカル（・Ｏ
Ｈ）の生成を助ける。更にこの空気は、混合器４を経て
分解・吸収器５に入る。この過程で未反応エチレンと残
留オゾンは、分解・吸収器５に充填された過酸化水素水
溶液６内を流過する過程で、オゾンは瞬時に分解されて
酸化力の強いヒドロキシラジカル（・ＯＨ）となり、こ
れが未反応エチレンと反応してこれを酸化する。また空
気中に臭気物質や細菌、かび等の微生物が含まれている
と、これらはエチレンと同様の機構により脱臭、殺菌さ
れる。また分解・吸収器５を流過した空気は、ファン８
によって付勢され貯蔵庫に戻る。
【００１２】
【発明の効果】以上詳細に説明した如く本発明による
と、エチレンを含む空気が第１反応室に導入されてオゾ
ンが付与され、また第１反応室を通過した空気を過酸化
水素水溶液中を通過させる第２反応室を設けたので、空
気中のエチレンを連続して効率よく酸化除去できると共
に、脱臭、殺菌も可能となり、しかも構造が簡単で、設
備費、運転経費を低減できる。また本発明によると、エ
チレンを含む空気が導入される第１反応室内で、加湿状
態で紫外線照射ができ、また第２反応室で空気を予熱し
て触媒層を通過するように配設したため、空気中のエチ
レンを連続して効率よく酸化除去できると共に、余剰オ
ゾンも完全に分解でき、更に脱臭、殺菌も可能となる。
更に過酸化水素水溶液を湿しフィルタに導入することに
よって導入空気が加湿され、第１反応室がヒドロキシラ
ジカル（・ＯＨ）を生成し易い条件となり、反応効率が
上がる。
と、エチレンを含む空気が第１反応室に導入されてオゾ
ンが付与され、また第１反応室を通過した空気を過酸化
水素水溶液中を通過させる第２反応室を設けたので、空
気中のエチレンを連続して効率よく酸化除去できると共
に、脱臭、殺菌も可能となり、しかも構造が簡単で、設
備費、運転経費を低減できる。また本発明によると、エ
チレンを含む空気が導入される第１反応室内で、加湿状
態で紫外線照射ができ、また第２反応室で空気を予熱し
て触媒層を通過するように配設したため、空気中のエチ
レンを連続して効率よく酸化除去できると共に、余剰オ
ゾンも完全に分解でき、更に脱臭、殺菌も可能となる。
更に過酸化水素水溶液を湿しフィルタに導入することに
よって導入空気が加湿され、第１反応室がヒドロキシラ
ジカル（・ＯＨ）を生成し易い条件となり、反応効率が
上がる。
【図１】本発明の第１実施例を示すエチレン除去装置の
縦断面図である。
縦断面図である。
【図２】本発明の第２実施例を示すエチレン除去装置の
縦断面図である。
縦断面図である。
【図３】本発明の第３実施例を示すエチレン除去装置の
縦断面図である。
縦断面図である。
１ エチレン除去装置 ２ オゾン発生器 ３ オゾン吹出口 ４ 混合器 ５ 分解・吸収器 ６ 過酸化水素水溶液 ７ エチレン含有空気の入口 ８ ファン ９，９′ 第１反応室 １０，１０′ 第２反応室 １１ 紫外線照射器 １２ 湿しフィルタ １３ ファン １５ 湿し空気出口 １６ 予熱器 １７ 触媒層 １８ 過酸化水素水溶液供給装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 恭助 愛知県西春日井郡西枇杷島町字旭町３丁目 １番地 三菱重工業株式会社エアコン製作 所内 (72)発明者 森 義高 愛知県西春日井郡西枇杷島町字旭町３丁目 １番地 三菱重工業株式会社エアコン製作 所内
Claims (3)
- 【請求項１】 エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入
し、同空気中のエチレンを除去した後、これを前記保鮮
環境に戻すエチレン除去装置において、前記導入空気に
オゾンを付与する第１反応室と、同第１反応室を通過し
た空気を過酸化水素水溶液中を通過させる第２反応室と
からなることを特徴とするエチレン除去装置。 - 【請求項２】 エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入
し、同空気中のエチレンを除去した後、これを前記保鮮
環境に戻すエチレン除去装置において、紫外線照射器を
備え、湿しフィルタを流通させた空気により高湿度環境
に維持される第１反応室を有し、同第１反応室に保鮮環
境内の空気を導入して紫外線を照射すると共に、同第１
反応室を流通した空気を予熱し、これを触媒層に通す予
熱器及び触媒層を備えた第２反応室とからなることを特
徴とするエチレン除去装置。 - 【請求項３】 エチレンを含む保鮮環境内の空気を導入
し、同空気中のエチレンを除去した後、これを前記保鮮
環境に戻すエチレン除去装置において、紫外線照射器を
備え、湿しフィルタを流通させた空気により高湿度環境
に維持される第１反応室を有し、同第１反応室に保鮮環
境内の空気を導入して紫外線を照射すると共に、同第１
反応室を流通した空気を過酸化水素水溶液中を流通させ
る第２反応室を有し、同第２反応室の過酸化水素水溶液
を前記湿しフィルタに導く過酸化水素水溶液導入路を設
けてなることを特徴とするエチレン除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32513291A JPH05137502A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | エチレン除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32513291A JPH05137502A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | エチレン除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05137502A true JPH05137502A (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=18173432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32513291A Withdrawn JPH05137502A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | エチレン除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05137502A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002345400A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-03 | Daikin Ind Ltd | 鮮度保持雰囲気供給装置 |
| KR20030017089A (ko) * | 2001-08-23 | 2003-03-03 | 김석규 | 에칠렌제거 및 살균 가습장치 |
| JP2010207223A (ja) | 2004-08-26 | 2010-09-24 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 帯電微粒子水によるエチレンガスの除去方法及び静電霧化装置 |
| JP2019525769A (ja) * | 2016-06-20 | 2019-09-12 | セダ インターナショナル ソシエテ アノニム | 植物性産物の貯蔵の雰囲気の処理のための方法および装置 |
| WO2022070347A1 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | 日栄インテック株式会社 | 鮮度保持装置およびパネル取付け構造 |
-
1991
- 1991-11-14 JP JP32513291A patent/JPH05137502A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002345400A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-03 | Daikin Ind Ltd | 鮮度保持雰囲気供給装置 |
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| US11559061B2 (en) | 2016-06-20 | 2023-01-24 | Xeda International S.A. | Method and assembly for the treatment of the atmosphere in a storage space for vegetable products |
| US11771101B2 (en) | 2016-06-20 | 2023-10-03 | Xeda International S.A. | Apparatus for treatment of the atmosphere of a storage space for vegetable products |
| WO2022070347A1 (ja) * | 2020-09-30 | 2022-04-07 | 日栄インテック株式会社 | 鮮度保持装置およびパネル取付け構造 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990204 |