JP2002345400A - 鮮度保持雰囲気供給装置 - Google Patents
鮮度保持雰囲気供給装置Info
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- JP2002345400A JP2002345400A JP2001158985A JP2001158985A JP2002345400A JP 2002345400 A JP2002345400 A JP 2002345400A JP 2001158985 A JP2001158985 A JP 2001158985A JP 2001158985 A JP2001158985 A JP 2001158985A JP 2002345400 A JP2002345400 A JP 2002345400A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25D—REFRIGERATORS; COLD ROOMS; ICE-BOXES; COOLING OR FREEZING APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F25D2317/00—Details or arrangements for circulating cooling fluids; Details or arrangements for circulating gas, e.g. air, within refrigerated spaces, not provided for in other groups of this subclass
- F25D2317/04—Treating air flowing to refrigeration compartments
- F25D2317/041—Treating air flowing to refrigeration compartments by purification
- F25D2317/0413—Treating air flowing to refrigeration compartments by purification by humidification
Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Cold Air Circulating Systems And Constructional Details In Refrigerators (AREA)
- Storage Of Fruits Or Vegetables (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
術を提供する。 【解決手段】 鮮度保持雰囲気供給装置2には、庫内雰
囲気3、が供給され、これに対して加湿処理及び紫外線
照射処理を施し、鮮度保持雰囲気4を生成する。この加
湿処理と紫外線照射処理によって庫内雰囲気3からオゾ
ンが生成される。相対湿度が高いほどエチレン除去率は
高められるので、鮮度保持雰囲気4中のエチレン濃度を
より効果的に低減することができる。
Description
を保持する技術に関する。
身から発生するエチレン等によって青果物が追熟、老化
することが知られている。そのため、エチレンを除去す
るための技術が種々提案されている。例えばPdClを
用いた鮮度保持剤や、光触媒によるエチレン除去技術が
提案されている。
剤は化学吸着剤であって使用時間についての経時劣化が
大きい。またエチレンを光触媒で除去しようとすれば、
その触媒にエチレンを効率よく物理吸着する吸着剤が未
だ発見されておらず、効率が低い。
とによりエチレンを除去する技術が提案されているが、
オゾン単独でのエチレン除去性能は低い。そこで本発明
は、紫外線照射によりオゾンを発生させるものにおいて
エチレンを効率良く除去する技術を提供することを目的
としている。
オゾン分解触媒を用いて除去する技術を提供する。そし
てこの際、オゾンによるエチレンの酸化によって生成さ
れた、例えば蟻酸、酢酸、ホルムアルデヒドなどのエチ
レン酸化生成物を除去することにより、エチレン酸化生
成物がオゾン分解触媒に対する触媒毒となることを回避
し、以てオゾン分解触媒の能力の劣化を遅らせる技術を
提供する。
持雰囲気供給装置(2)の第1の態様は、貯蔵庫(1)
へと鮮度保持雰囲気(4)を供給する装置である。そし
て、前記貯蔵庫内の雰囲気(3)を導入して紫外線照射
処理を施して前記鮮度保持雰囲気(4)を生成する紫外
線照射部(22,22a)と、前記紫外線照射部に対し
て加湿処理を施す加湿処理部(21;21a)とを備え
る。
連通する導入路(27)及び導出路(28)を更に備
え、前記貯蔵庫内の雰囲気(3)の一部が、前記貯蔵庫
(1)、前記導入路、前記加湿処理部(21;21a)
及び前記紫外線照射部(22,22a)、前記導出路、
前記貯蔵庫の順に循環する。
外線の波長はオゾンが発生する波長である。
水分を供給することにより施される。あるいはまた水に
対して超音波を印加することにより前記加湿処理が施さ
れる。あるいはまた水を加熱して前記加湿処理が施され
る。
(2)の第2の態様は、第1の態様であって、前記加湿
処理には、前記紫外線照射処理が施された水を用いる。
(2)の第3の態様は、第1の態様または第2の態様で
あって、オゾンを除去するオゾン除去部(24)を更に
備える。
(2)の第4の態様は、第3の態様であって、エチレン
酸化生成物を除去する酸化生成物除去部(23)を更に
備える。
(2)の第5の態様は、第4の態様であって、前記紫外
線照射部(22,22a)から前記酸化生成物除去部
(23)を経由して前記オゾン分解部(24)へと気体
を移動させる移送部(25)を更に備える。
するブロック図である。鮮度保持雰囲気供給装置2は、
貯蔵庫1内の雰囲気(以下「庫内雰囲気」という)を入
力し、鮮度保持雰囲気4を貯蔵庫1へと供給する。貯蔵
庫1には例えば青果物5が鮮度保持雰囲気供給装置2の
外部で貯蔵される。
3に対して加湿処理及び紫外線照射処理を施し、鮮度保
持雰囲気4を生成する。通常、庫内雰囲気3は酸素を含
んでおり、この加湿処理と紫外線照射処理によって庫内
雰囲気3中のエチレンが分解される。公知のようにオゾ
ンはエチレンを分解するので、鮮度保持雰囲気供給装置
2はエチレン分解機能を備える、といえる。
生成される。この際に用いられる紫外線の波長として、
例えば185nmが採用される。また加湿処理として、
透湿膜を介して水分を供給してもよいし、水に対して超
音波を印加してもよいし、水を加熱してもよい。加湿処
理には紫外線照射処理が施された水を用いれば、当該水
の殺菌を行うこともできる。
を示すグラフである。相対湿度の上昇と共にエチレン除
去率が上昇することがわかる。つまり本発明のように、
加湿処理された雰囲気に対して紫外線照射処理を施すこ
とで、庫内雰囲気3と比較してエチレン濃度が低下した
鮮度保持雰囲気4が貯蔵庫1へと供給される。
して採用し得る鮮度保持雰囲気供給装置2Aの構成を示
すブロック図である。鮮度保持雰囲気供給装置2Aはい
ずれも貯蔵庫1と連通する導入路27、導出路28を備
えている。導入路27は庫内雰囲気3を導入し、導出路
28は鮮度保持雰囲気4を導出する。また庫内雰囲気3
に対して加湿処理を施す加湿処理部21と、加湿された
庫内雰囲気3に対して紫外線を照射する紫外線照射部2
2とを備えており、これらによって上述の加湿処理及び
紫外線照射処理が実行される。加湿処理部21と紫外線
照射部22とは相まって、上述のように高いエチレン除
去率を実現する。そして庫内雰囲気3の一部が導入路2
7、加湿処理部21、紫外線照射部22、導出路28の
順に循環する。
ゾン分解処理部24を、加湿処理部21及び紫外線照射
部22との下流側に備えている。即ち残存オゾン分解処
理部24にはオゾンが発生した後の気体が供給されるこ
とになる。残存オゾン分解処理部24はエチレン除去で
消費されなかったオゾンを除去する。これにより、鮮度
保持雰囲気4は、エチレン、オゾンのいずれの濃度も低
い気体として貯蔵庫1に供給される。残存オゾン分解処
理部24としてはオゾン分解触媒を採用することができ
る。
際、蟻酸、酢酸、ホルムアルデヒドなどのエチレン酸化
生成物が副生成物として生成される。これは上記のオゾ
ン分解触媒に対する触媒毒として機能する。そこで鮮度
保持雰囲気供給装置2Aは更に副生成物処理部23を、
残存オゾン分解処理部24よりも上流側で、かつ加湿処
理部21及び紫外線照射部22よりも下流側に備えてい
る。副生成物処理部23は例えば光触媒と、光触媒物質
に触媒作用を顕著にさせるべく照射する光源とで構成さ
れる。そして酸化生成物を除去する機能、例えば蟻酸、
酢酸、ホルムアルデヒド等のエチレン酸化生成物を二酸
化炭素CO2と水H2Oへと分解する機能を果たす。
O2やチタン酸ストロンチウムSrTiO3や、ニオブ酸
カリウムK4NbO17や、酸化ニオブNbO5や、酸化タ
ングステンWO3や、酸化亜鉛ZnOを採用することが
でき、光源としては400nm以下の波長、例えば36
5nmの紫外光を照射する紫外光ランプを採用すること
ができる。副生成物処理部23で採用される光源によっ
て、紫外線照射部22での紫外線照射処理を行っても良
い。
路28を除いて最も下流側に排出用ファン25を設け、
鮮度保持雰囲気4を導出路28から排出させている。こ
れによりエチレン酸化生成物が加湿処理部21や紫外線
照射部22に留まることなく副生成物処理部23、残存
オゾン分解処理部24へと送出される。これは上述のよ
うにエチレン、オゾンのいずれの濃度も低い鮮度保持雰
囲気4の供給を容易にする。
例示するブロック図であり、図1の鮮度保持雰囲気供給
装置2として採用し得る鮮度保持雰囲気供給装置2Bの
構成を示す。鮮度保持雰囲気供給装置2Bは、鮮度保持
雰囲気供給装置2Aの加湿処理部21と紫外線照射部2
2との代わりにエチレン分解部26を備えている。本変
形では、庫内雰囲気3の一部が導入路27、エチレン分
解部26、導出路28の順に循環する。
外線ランプ22aとを有しており、それぞれが加湿処理
と紫外線照射処理とを庫内雰囲気3に施している。本変
形においても、もちろん、加湿装置21aに供せられる
水に対して紫外線ランプ22aからの紫外線照射を施
し、殺菌を行うことができる。また紫外線ランプ22a
を副生成物処理部23で採用される光源によって兼用し
ても良い。
庫1ではなく、紫外線照射部22や紫外線ランプ22a
に対して加湿処理を行うことが望ましい。図5は鮮度保
持雰囲気供給装置2Aを貯蔵庫1の内部に配置した場合
を例示するブロック図である。加湿装置21aが鮮度保
持雰囲気供給装置2Cと別体で設けられている。そして
加湿装置21aによって加湿処理された加湿された庫内
雰囲気3に対し、鮮度保持雰囲気供給装置2Cがエチレ
ン除去などの処理を行う。
囲気供給装置2Aから加湿処理部21を省いた構成を有
しており、例えば紫外線照射部22、副生成物処理部2
3、残存オゾン分解部24、排出用ファン25を備えて
いる。
を行った場合の貯蔵庫1内の湿度の時間に対する変化を
示している。ここで時刻t0において加湿装置21aの
動作が開始したとしている。
内雰囲気3の湿度は、加湿装置21aの動作後、緩やか
に増大する。従って図6のグラフL2に示されるよう
に、エチレン除去率も緩やかに増大する。
構成のように、紫外線照射部22や紫外線ランプ22a
に加湿処理を施す場合、紫外線照射処理の対象となる雰
囲気は庫内雰囲気3よりも少量なので、その湿度は速や
かに上昇し、エチレン除去率も速やかに増大する。
保持雰囲気供給装置によれば、加湿処理された雰囲気に
紫外線照射処理を施すことで、庫内雰囲気(3)と比較
してエチレン濃度が低下した鮮度保持雰囲気(4)を貯
蔵庫(1)へと供給する。しかも紫外線照射部(22,
22a)に対して加湿処理を施すので、紫外線照射処理
の対象となる雰囲気の湿度、ひいてはエチレン除去率は
速やかに増大する。
持雰囲気供給装置によれば、加湿に用いられる水の殺菌
も行うことができる。
持雰囲気供給装置によれば、消費されずに残存したオゾ
ンを除去することにより、エチレン、オゾンのいずれの
濃度も低い気体を供給することができる。
持雰囲気供給装置によれば、酸化生成物分解手段によっ
て例えば蟻酸、酢酸、ホルムアルデヒドなどのエチレン
酸化生成物が除去されるので、オゾン除去部(24)に
オゾン分解触媒を採用しても、エチレン酸化生成物によ
る被毒を減少させることができる。
持雰囲気供給装置によれば、エチレン酸化生成物が紫外
線照射部(22,22a)に留まることなく酸化生成物
除去部(23)へと送出し、残存したオゾンも除去され
るので、エチレン、オゾンのいずれの濃度も低い鮮度保
持雰囲気を供給することができる。
る。
フである。
図である。
ロック図である。
場合を例示するブロック図である。
Claims (10)
- 【請求項1】 貯蔵庫(1)へと鮮度保持雰囲気(4)
を供給する装置であって、 前記貯蔵庫内の雰囲気(3)を導入して紫外線照射処理
を施して前記鮮度保持雰囲気(4)を生成する紫外線照
射部(22,22a)と、 前記紫外線照射部に対して加湿処理を施す加湿処理部
(21;21a)と、を備える、鮮度保持雰囲気供給装
置。 - 【請求項2】 いずれも前記貯蔵庫(1)と連通する導
入路(27)及び導出路(28)を更に備え、 前記貯蔵庫内の雰囲気(3)の一部が、前記貯蔵庫
(1)、前記導入路、前記加湿処理部(21;21a)
及び前記紫外線照射部(22,22a)、前記導出路、
前記貯蔵庫の順に循環する、請求項1記載の鮮度保持雰
囲気供給装置。 - 【請求項3】 前記紫外線照射処理に採用される紫外線
の波長はオゾンが発生する波長である、請求項1に記載
の鮮度保持雰囲気供給装置。 - 【請求項4】 透湿膜を介して水分を供給することによ
り前記加湿処理が施される、請求項1乃至請求項3のい
ずれか一つに記載の鮮度保持雰囲気供給装置。 - 【請求項5】 水に対して超音波を印加することにより
前記加湿処理が施される、請求項1乃至請求項3のいず
れか一つに記載の鮮度保持雰囲気供給装置。 - 【請求項6】 水を加熱して前記加湿処理が施される、
請求項1乃至請求項3のいずれか一つに記載の鮮度保持
雰囲気供給装置。 - 【請求項7】 前記加湿処理には、前記紫外線照射処理
が施された水を用いる、請求項1乃至請求項6のいずれ
か一つに記載の鮮度保持雰囲気供給装置。 - 【請求項8】 オゾンを除去するオゾン除去部(24)
を更に備える、請求項1乃至請求項7のいずれか一つに
記載の鮮度保持雰囲気供給装置。 - 【請求項9】 エチレン酸化生成物を除去する酸化生成
物除去部(23)を更に備える、請求項8に記載の鮮度
保持雰囲気供給装置。 - 【請求項10】 前記紫外線照射部(22,22a)か
ら前記酸化生成物除去部(23)を経由して前記オゾン
分解部(24)へと気体を移動させる移送部(25)を
更に備える、請求項9記載の鮮度保持雰囲気供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001158985A JP2002345400A (ja) | 2001-05-28 | 2001-05-28 | 鮮度保持雰囲気供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001158985A JP2002345400A (ja) | 2001-05-28 | 2001-05-28 | 鮮度保持雰囲気供給装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002345400A true JP2002345400A (ja) | 2002-12-03 |
Family
ID=19002636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001158985A Pending JP2002345400A (ja) | 2001-05-28 | 2001-05-28 | 鮮度保持雰囲気供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002345400A (ja) |
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- 2001-05-28 JP JP2001158985A patent/JP2002345400A/ja active Pending
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