JPH0838040A - エチレン除去装置 - Google Patents
エチレン除去装置Info
- Publication number
- JPH0838040A JPH0838040A JP17670894A JP17670894A JPH0838040A JP H0838040 A JPH0838040 A JP H0838040A JP 17670894 A JP17670894 A JP 17670894A JP 17670894 A JP17670894 A JP 17670894A JP H0838040 A JPH0838040 A JP H0838040A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photocatalyst
- ethylene
- reaction chamber
- ultraviolet light
- ozone
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- Storage Of Harvested Produce (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 青果等から排出されるエチレンの除去装置に
おいて、紫外線放射手段から反応室に入射した紫外線を
有効に利用してエチレン除去効率を向上させる。 【構成】 ケーシング１内に、環境空気を流過させる通
風手段（ファン２）とオゾンを発生及び分解させる紫外
線照射手段（紫外線ランプ４）を設けた反応室９を備え
たエチレン除去装置において、反応室９の壁内面に酸化
チタン（ＴｉＯ2）等の光触媒１０を塗布、コーティン
グし、紫外線の照射によって光触媒１０を酸化と還元の
２作用をもつ活性な表面にするようにした。
おいて、紫外線放射手段から反応室に入射した紫外線を
有効に利用してエチレン除去効率を向上させる。 【構成】 ケーシング１内に、環境空気を流過させる通
風手段（ファン２）とオゾンを発生及び分解させる紫外
線照射手段（紫外線ランプ４）を設けた反応室９を備え
たエチレン除去装置において、反応室９の壁内面に酸化
チタン（ＴｉＯ2）等の光触媒１０を塗布、コーティン
グし、紫外線の照射によって光触媒１０を酸化と還元の
２作用をもつ活性な表面にするようにした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、青果物等から排出され
熟成・老化促進作用を有するエチレンを除去するための
エチレン除去装置に関する。
熟成・老化促進作用を有するエチレンを除去するための
エチレン除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のエチレン除去装置の縦断面
図である。エチレン除去装置は、冷蔵庫内に設置され、
冷蔵庫内の青果物等から排出される熟成・老化促進作用
を有するエチレンをオゾンによって除去したり冷蔵庫内
に浮遊する細菌、微生物を不活性ないしは死滅させて青
果物の鮮度を保持するためのものである。
図である。エチレン除去装置は、冷蔵庫内に設置され、
冷蔵庫内の青果物等から排出される熟成・老化促進作用
を有するエチレンをオゾンによって除去したり冷蔵庫内
に浮遊する細菌、微生物を不活性ないしは死滅させて青
果物の鮮度を保持するためのものである。
【０００３】この従来のエチレン除去装置は、図２に示
すように、ケーシング１が設けられており、その上方内
部にはファン２、モータ３、その下方の内部（以下、反
応室９という）には紫外線ランプ（以下Ｕｒランプとい
う）４及び活性炭やマンガン、鉄等の金属触媒又はこれ
らの金属酸化物触媒を素材としたオゾン処理器５等が装
着されている。また、ケーシング１の底面には吸込口
６、上部には吹出口７が設けられている。そして、ケー
シング１の下部に取付けられた脚８を介して冷蔵庫１０
０の床面に設置されている。
すように、ケーシング１が設けられており、その上方内
部にはファン２、モータ３、その下方の内部（以下、反
応室９という）には紫外線ランプ（以下Ｕｒランプとい
う）４及び活性炭やマンガン、鉄等の金属触媒又はこれ
らの金属酸化物触媒を素材としたオゾン処理器５等が装
着されている。また、ケーシング１の底面には吸込口
６、上部には吹出口７が設けられている。そして、ケー
シング１の下部に取付けられた脚８を介して冷蔵庫１０
０の床面に設置されている。
【０００４】しかして、モータ３によってファン２が駆
動されると、冷蔵庫１００内の空気は吸込口６を経て反
応室９内に導入される。この空気はＵｒランプ４（波長
１８４．９nm）に照射されることによって、流入した空
気中の酸素からオゾンが生成される。このオゾンは空気
中に浮遊する菌等を死滅させると共にエチレンを酸化し
てエチレン化合物に転化させる。余剰のオゾンはＵｒラ
ンプ４（波長２５３．７nm）に照射されることによって
分解され、ＯＨラジカル（遊離水酸基）を生成する。こ
のＯＨラジカルは空気中に残存するエチレンを酸化して
ＣＯ2 と水に転化させる。
動されると、冷蔵庫１００内の空気は吸込口６を経て反
応室９内に導入される。この空気はＵｒランプ４（波長
１８４．９nm）に照射されることによって、流入した空
気中の酸素からオゾンが生成される。このオゾンは空気
中に浮遊する菌等を死滅させると共にエチレンを酸化し
てエチレン化合物に転化させる。余剰のオゾンはＵｒラ
ンプ４（波長２５３．７nm）に照射されることによって
分解され、ＯＨラジカル（遊離水酸基）を生成する。こ
のＯＨラジカルは空気中に残存するエチレンを酸化して
ＣＯ2 と水に転化させる。
【０００５】次いで、空気は活性炭やマンガン、鉄等の
金属触媒又はこれらの金属酸化物触媒を素材としたオゾ
ン処理器５に流入し、ここで空気中になお残存するオゾ
ンは酸素に分解される。オゾンを除かれた空気は吹出口
７を経て冷蔵庫１００内に戻る。
金属触媒又はこれらの金属酸化物触媒を素材としたオゾ
ン処理器５に流入し、ここで空気中になお残存するオゾ
ンは酸素に分解される。オゾンを除かれた空気は吹出口
７を経て冷蔵庫１００内に戻る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前記の従来のエチレン
除去装置においては、反応室９の壁面に入射した紫外線
は熱に変わるのみで、有効利用されていないという問題
があった。
除去装置においては、反応室９の壁面に入射した紫外線
は熱に変わるのみで、有効利用されていないという問題
があった。
【０００７】本発明は、以上の問題点を解決することが
できるエチレン除去装置を提供しようとするものであ
る。
できるエチレン除去装置を提供しようとするものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、ケーシング内
に、環境気体を流過させる通風手段とオゾンを発生及び
分解させる紫外線照射手段設けた反応室を備えてなるエ
チレン除去装置において、前記反応室の壁内面に酸化チ
タン（ＴｉＯ2 ）等を素材とした光触媒を塗布、コーテ
ィングしたことを特徴とする。
に、環境気体を流過させる通風手段とオゾンを発生及び
分解させる紫外線照射手段設けた反応室を備えてなるエ
チレン除去装置において、前記反応室の壁内面に酸化チ
タン（ＴｉＯ2 ）等を素材とした光触媒を塗布、コーテ
ィングしたことを特徴とする。
【０００９】なお、本発明では、光触媒として酸化チタ
ン（ＴｉＯ2 ）の外に酸化亜鉛（ＺｎＯ）、水酸化亜鉛
（Ｚｎ（ＯＨ）2 ）、６チタン酸カリウム（Ｋ2 Ｏ・６
ＴｉＯ2 ）等が用いられる。
ン（ＴｉＯ2 ）の外に酸化亜鉛（ＺｎＯ）、水酸化亜鉛
（Ｚｎ（ＯＨ）2 ）、６チタン酸カリウム（Ｋ2 Ｏ・６
ＴｉＯ2 ）等が用いられる。
【００１０】
【作用】本発明は、前記構成を具えているため、反応室
の壁内面に塗布、コーティングされた光触媒に紫外線照
射手段からの紫外線が照射されると、その表面に電子
（ｅ- ）と電子の抜け穴であるホール（ｈ+ ）が生成さ
れ、生成された電子（ｅ-）は物質を還元する（電子を
与える）力をもっており、一方、ホール（ｈ+ ）は光触
媒の表面の微量の水分と反応し、ＯＨラジカルを生成し
酸化作用がある。これによって、光触媒の表面は酸化と
還元の２つの作用をもつ活性な表面に変化する。
の壁内面に塗布、コーティングされた光触媒に紫外線照
射手段からの紫外線が照射されると、その表面に電子
（ｅ- ）と電子の抜け穴であるホール（ｈ+ ）が生成さ
れ、生成された電子（ｅ-）は物質を還元する（電子を
与える）力をもっており、一方、ホール（ｈ+ ）は光触
媒の表面の微量の水分と反応し、ＯＨラジカルを生成し
酸化作用がある。これによって、光触媒の表面は酸化と
還元の２つの作用をもつ活性な表面に変化する。
【００１１】この光触媒の表面に反応室を流過する空気
中に含まれているエチレン、残存オゾン、及び細菌等が
接触すると、その酸化還元力が直接（光触媒自身が有す
る有機物分解力によって）又は間接（過酸化水素とＯＨ
ラジカルが有する酸化力を介して）に作用し、エチレン
は酸化されてＣＯ2 と水に、残存オゾンは還元されて酸
素にそれぞれ転化、分解される。また、細菌類も死滅さ
れる。
中に含まれているエチレン、残存オゾン、及び細菌等が
接触すると、その酸化還元力が直接（光触媒自身が有す
る有機物分解力によって）又は間接（過酸化水素とＯＨ
ラジカルが有する酸化力を介して）に作用し、エチレン
は酸化されてＣＯ2 と水に、残存オゾンは還元されて酸
素にそれぞれ転化、分解される。また、細菌類も死滅さ
れる。
【００１２】
【実施例】本発明の一実施例を、図１によって説明す
る。本実施例は、図２に示す従来のエチレン除去装置を
以下説明するように改良したものであり、図１において
図２におけると同一の部分には同一の符号を付し、その
説明を省略する。
る。本実施例は、図２に示す従来のエチレン除去装置を
以下説明するように改良したものであり、図１において
図２におけると同一の部分には同一の符号を付し、その
説明を省略する。
【００１３】本実施例では、反応室９の壁内面に酸化チ
タン（ＴｉＯ2 ）等を素材とした光触媒１０が塗布、コ
ーティングされている。
タン（ＴｉＯ2 ）等を素材とした光触媒１０が塗布、コ
ーティングされている。
【００１４】本実施例において、Ｕｒランプ４に照射さ
れることによって反応室９内に導入された空気中の酸素
からオゾンが生成され、このオゾンによって空気中に浮
遊する菌等を死滅させると共にエチレンを酸化してエチ
レン化合物に転化させ、かつ、余剰のオゾンがＵｒラン
プ４に照射されることによって分解されてＯＨラジカル
を生成し、このＯＨラジカルによって空気中に残存する
エチレンを酸化してＣＯ2 と水に転化させることは、前
記図２に示される従来のエチレン除去装置と同様である
が、本実施例は、これに加えて次の作用及び効果を有す
る。
れることによって反応室９内に導入された空気中の酸素
からオゾンが生成され、このオゾンによって空気中に浮
遊する菌等を死滅させると共にエチレンを酸化してエチ
レン化合物に転化させ、かつ、余剰のオゾンがＵｒラン
プ４に照射されることによって分解されてＯＨラジカル
を生成し、このＯＨラジカルによって空気中に残存する
エチレンを酸化してＣＯ2 と水に転化させることは、前
記図２に示される従来のエチレン除去装置と同様である
が、本実施例は、これに加えて次の作用及び効果を有す
る。
【００１５】即ち、光触媒１０は半導体であり、Ｕｒラ
ンプ４からの紫外線に照射されると、その表面に電子
（ｅ- ）と電子の抜け穴であるホール（ｈ+ ）が生成さ
れ、生成された電子（ｅ- ）は物質を還元する（電子を
与える力）を持っている。一方、ホール（ｈ+ ）は光触
媒１０の表面の微量の水分と反応し、ＯＨラジカルを生
成し酸化作用がある。これによって、光触媒１０の表面
は、酸化と還元の２つの作用をもつ活性な表面に変化す
る。
ンプ４からの紫外線に照射されると、その表面に電子
（ｅ- ）と電子の抜け穴であるホール（ｈ+ ）が生成さ
れ、生成された電子（ｅ- ）は物質を還元する（電子を
与える力）を持っている。一方、ホール（ｈ+ ）は光触
媒１０の表面の微量の水分と反応し、ＯＨラジカルを生
成し酸化作用がある。これによって、光触媒１０の表面
は、酸化と還元の２つの作用をもつ活性な表面に変化す
る。
【００１６】この活性化された光触媒１０の表面に空気
中に含まれているエチレン、残存オゾン及び細菌等が接
触すると、その酸化還元力が直接（光触媒自身が有する
有機物分解力によって）又は間接（過酸化水素とＯＨラ
ジカルのもつ酸化力を介して）に作用し、エチレンは酸
化されてＣＯ2 に、残存オゾンは還元され酸素にそれぞ
れ転化、分解される。また、細菌類も死滅する。
中に含まれているエチレン、残存オゾン及び細菌等が接
触すると、その酸化還元力が直接（光触媒自身が有する
有機物分解力によって）又は間接（過酸化水素とＯＨラ
ジカルのもつ酸化力を介して）に作用し、エチレンは酸
化されてＣＯ2 に、残存オゾンは還元され酸素にそれぞ
れ転化、分解される。また、細菌類も死滅する。
【００１７】この結果、装置としてのエチレン除去効率
が向上し能力を増加することができる。また、残存オゾ
ンも酸素に分解されるのでオゾン処理器５の触媒量を減
少することができる。
が向上し能力を増加することができる。また、残存オゾ
ンも酸素に分解されるのでオゾン処理器５の触媒量を減
少することができる。
【００１８】
【発明の効果】本発明においては、反応室の壁内面に酸
化チタン（ＴｉＯ2 ）等を素材とした光触媒が塗布、コ
ーティングされているので、この表面に紫外線放射手段
からの紫外線が照射されると、その表面に電子（ｅ- ）
と電子の抜け穴であるホール（ｈ+ ）が生成され、生成
された電子（ｅ- ）は物質を還元する（電子を与える）
力を持っている。一方、ホール（ｈ+ ）は光触媒の表面
の微量の水分と反応し、ＯＨラジカルを生成し酸化作用
がある。これによって、光触媒の表面は酸化と還元の２
つの作用をもつ活性な表面に変化する。
化チタン（ＴｉＯ2 ）等を素材とした光触媒が塗布、コ
ーティングされているので、この表面に紫外線放射手段
からの紫外線が照射されると、その表面に電子（ｅ- ）
と電子の抜け穴であるホール（ｈ+ ）が生成され、生成
された電子（ｅ- ）は物質を還元する（電子を与える）
力を持っている。一方、ホール（ｈ+ ）は光触媒の表面
の微量の水分と反応し、ＯＨラジカルを生成し酸化作用
がある。これによって、光触媒の表面は酸化と還元の２
つの作用をもつ活性な表面に変化する。
【００１９】この表面に、反応室を流過する空気中に含
まれているエチレン、残存オゾン細菌等が接触すると、
その酸化還元力が直接（光触媒自身が有する有機物分解
力によって）又は間接（過酸化水素とＯＨラジカルが有
する酸化力を介して）に作用し、エチレンは酸化されて
ＣＯ2 に分解され、残存オゾンは還元されて酸素に分解
される。
まれているエチレン、残存オゾン細菌等が接触すると、
その酸化還元力が直接（光触媒自身が有する有機物分解
力によって）又は間接（過酸化水素とＯＨラジカルが有
する酸化力を介して）に作用し、エチレンは酸化されて
ＣＯ2 に分解され、残存オゾンは還元されて酸素に分解
される。
【００２０】この結果、装置としてのエチレン除去効率
を向上し能力を増加することができる。また、残存オゾ
ンも酸素に分解されるのでオゾン処理器の触媒量を減少
することができる。
を向上し能力を増加することができる。また、残存オゾ
ンも酸素に分解されるのでオゾン処理器の触媒量を減少
することができる。
【図１】本発明の第１実施例に係るエチレン除去装置の
縦断面図である。
縦断面図である。
【図２】従来のエチレン除去装置の縦断面図である。
１ ケーシング ２ ファン ３ モータ ４ 紫外線ランプ ５ オゾン処理器 ６ 吸込口 ７ 吹出口 ９ 反応室 １０ 光触媒 １００ 冷蔵庫
フロントページの続き (72)発明者 竹内 直和 名古屋市中村区岩塚町字高道１番地 三菱 重工業株式会社名古屋研究所内 (72)発明者 北田 卓也 名古屋市中村区岩塚町字高道１番地 三菱 重工業株式会社名古屋研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 ケーシング内に、環境気体を流過させる
通風手段とオゾンを発生及び分解させる紫外線照射手段
を設けた反応室を備えてなるエチレン除去装置におい
て、前記反応室の壁内面に光触媒を塗布、コーティング
したことを特徴とするエチレン除去装置。 - 【請求項２】 前記光触媒が酸化チタン（ＴｉＯ2 ）を
素材とすることを特徴とする請求項１に記載のエチレン
除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17670894A JPH0838040A (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | エチレン除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17670894A JPH0838040A (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | エチレン除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0838040A true JPH0838040A (ja) | 1996-02-13 |
Family
ID=16018374
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17670894A Withdrawn JPH0838040A (ja) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | エチレン除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0838040A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002206851A (ja) * | 2001-01-11 | 2002-07-26 | Matsushita Refrig Co Ltd | 冷蔵庫 |
| JP2002333266A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-22 | Matsushita Refrig Co Ltd | 冷蔵庫 |
| KR100450227B1 (ko) * | 2001-12-22 | 2004-09-24 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 에틸렌 제거용 광촉매 반응기 |
| EP1566103A1 (en) * | 2004-02-18 | 2005-08-24 | Daikoh Shoji Corporation | Method and device for converting ethylene in ethane and freshness keeping apparatus for fresh agricultural product |
| WO2007147743A1 (en) * | 2006-06-20 | 2007-12-27 | Ciba Holding Inc. | Process for removing ethene from biological sources using iodine doped titaniumdioxide |
| KR20220085530A (ko) * | 2020-12-15 | 2022-06-22 | 대한민국(농촌진흥청장) | 오존이 잔류되지 않는 에틸렌 제거장치 및 이를 이용한 에틸렌 제거방법 |
-
1994
- 1994-07-28 JP JP17670894A patent/JPH0838040A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002206851A (ja) * | 2001-01-11 | 2002-07-26 | Matsushita Refrig Co Ltd | 冷蔵庫 |
| JP2002333266A (ja) * | 2001-05-07 | 2002-11-22 | Matsushita Refrig Co Ltd | 冷蔵庫 |
| KR100450227B1 (ko) * | 2001-12-22 | 2004-09-24 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 에틸렌 제거용 광촉매 반응기 |
| EP1566103A1 (en) * | 2004-02-18 | 2005-08-24 | Daikoh Shoji Corporation | Method and device for converting ethylene in ethane and freshness keeping apparatus for fresh agricultural product |
| WO2007147743A1 (en) * | 2006-06-20 | 2007-12-27 | Ciba Holding Inc. | Process for removing ethene from biological sources using iodine doped titaniumdioxide |
| KR20220085530A (ko) * | 2020-12-15 | 2022-06-22 | 대한민국(농촌진흥청장) | 오존이 잔류되지 않는 에틸렌 제거장치 및 이를 이용한 에틸렌 제거방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011002 |