JPH0512857B2 - - Google Patents
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- JPH0512857B2 JPH0512857B2 JP63158578A JP15857888A JPH0512857B2 JP H0512857 B2 JPH0512857 B2 JP H0512857B2 JP 63158578 A JP63158578 A JP 63158578A JP 15857888 A JP15857888 A JP 15857888A JP H0512857 B2 JPH0512857 B2 JP H0512857B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/85909—Post-treatment of the connector or wire bonding area
- H01L2224/8592—Applying permanent coating, e.g. protective coating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は比較的大きな電力を取り扱うことので
きる樹脂封止型半導体装置に関する。
きる樹脂封止型半導体装置に関する。
樹脂封止型半導体装置は、量産性ならびに低コ
ストといつた面では金属封止型半導体装置に勝つ
ているが、動作時に発生する熱を放散させる面で
は金属封止型半導体装置に劣つている。近年、半
導体装置の樹脂封止化が進み、たとえばかなり大
きな電力を取り扱うことになるのできるトランジ
スタも樹脂封止構造とされるに至つている。この
場合、放熱の面で十分な配慮が払われてる。
ストといつた面では金属封止型半導体装置に勝つ
ているが、動作時に発生する熱を放散させる面で
は金属封止型半導体装置に劣つている。近年、半
導体装置の樹脂封止化が進み、たとえばかなり大
きな電力を取り扱うことになるのできるトランジ
スタも樹脂封止構造とされるに至つている。この
場合、放熱の面で十分な配慮が払われてる。
第1図は、樹脂封止構造を有する従来の電力用
トランジスタの構造例を示す断面図であり、トラ
ンジスタ素子1が接着される基板支持部2の裏面
を封止樹脂外殻3で覆うことなく露出させるとと
もに、放熱板への取り付けを可能にすためのねじ
止め用の貫通孔4を形成した構造となつている。
なお5はトランジスタ素子の保護用樹脂、6は外
部リードである。このような構造の樹脂封止形電
力用トランジスタは、放熱板(図示せず)への取
り付けに際しては露出する基板支持体2の裏面を
放熱板に対して電気的には絶縁して熱的に結合す
る。この電気的絶縁はマイカ板などの絶縁板を両
者間に介在させることによつてなされる。
トランジスタの構造例を示す断面図であり、トラ
ンジスタ素子1が接着される基板支持部2の裏面
を封止樹脂外殻3で覆うことなく露出させるとと
もに、放熱板への取り付けを可能にすためのねじ
止め用の貫通孔4を形成した構造となつている。
なお5はトランジスタ素子の保護用樹脂、6は外
部リードである。このような構造の樹脂封止形電
力用トランジスタは、放熱板(図示せず)への取
り付けに際しては露出する基板支持体2の裏面を
放熱板に対して電気的には絶縁して熱的に結合す
る。この電気的絶縁はマイカ板などの絶縁板を両
者間に介在させることによつてなされる。
ところで、このような構造によれば、放熱効果
の点に関しては所期の目的が達成される。しかし
ながら、上記のように放熱板への取り付けに際し
て、絶縁板を介在させることが不可避であり、取
りつけ作業が煩雑となる。さらに、絶縁板は基板
支持体と放熱板との間に正しく位置しなければな
らないところであるが、両者を1体的に緊着する
際にともすると正しい位置関係が損われ、電気的
絶縁が保てなくなる。このため、第2図で示すよ
うに、基板支持体2の裏面側にも封止樹脂層7を
薄く設け、絶縁板を不要とするようにした構造の
樹脂封止形電力用トランジスタが提案されるに至
つている。
の点に関しては所期の目的が達成される。しかし
ながら、上記のように放熱板への取り付けに際し
て、絶縁板を介在させることが不可避であり、取
りつけ作業が煩雑となる。さらに、絶縁板は基板
支持体と放熱板との間に正しく位置しなければな
らないところであるが、両者を1体的に緊着する
際にともすると正しい位置関係が損われ、電気的
絶縁が保てなくなる。このため、第2図で示すよ
うに、基板支持体2の裏面側にも封止樹脂層7を
薄く設け、絶縁板を不要とするようにした構造の
樹脂封止形電力用トランジスタが提案されるに至
つている。
第3図は、第1図および第2図で示した樹脂封
止形電力用トランジスタを組み立てるに際して、
通常用いられるリードフレームと平面図であり、
図示するように、移送ピツチの決定ならびに樹脂
封止時の位置決めをなす孔8が穿設された共通接
続細条9から同一方向へ向かつてトランジスタの
外部リード6,10,11が延び、さらに外部リ
ード6の端部に基板支持体2が繋つた構造となつ
ている。トランジスタの組みたては、その左端部
に示したように、トランジスタ素子1の接着、ト
ランジスタ素子電極と外部リード10,11との
間の金属細線12による接続ならびに保護用樹脂
5の形成を経てなされる。
止形電力用トランジスタを組み立てるに際して、
通常用いられるリードフレームと平面図であり、
図示するように、移送ピツチの決定ならびに樹脂
封止時の位置決めをなす孔8が穿設された共通接
続細条9から同一方向へ向かつてトランジスタの
外部リード6,10,11が延び、さらに外部リ
ード6の端部に基板支持体2が繋つた構造となつ
ている。トランジスタの組みたては、その左端部
に示したように、トランジスタ素子1の接着、ト
ランジスタ素子電極と外部リード10,11との
間の金属細線12による接続ならびに保護用樹脂
5の形成を経てなされる。
以上のようなリードフレームを用いてトランジ
スタ組立構体を得、これを第2図で示した封止構
造とするには、第4図で示すように、上金型13
と下金型14の間に形成された空所の中にトラン
ジスタ組立構体の基板支持体2を浮かせて配置
し、こののち、空所内へ樹脂30を注入すること
が行われる。この注入により樹脂30は基板支持
体2の裏面直下の空所にも満たされ、第2図で示
すように封止成型がなされる。
スタ組立構体を得、これを第2図で示した封止構
造とするには、第4図で示すように、上金型13
と下金型14の間に形成された空所の中にトラン
ジスタ組立構体の基板支持体2を浮かせて配置
し、こののち、空所内へ樹脂30を注入すること
が行われる。この注入により樹脂30は基板支持
体2の裏面直下の空所にも満たされ、第2図で示
すように封止成型がなされる。
ところで、第4図からも明らかなように、第2
図で示した封止構造を第3図で示したリードフレ
ームを用いて得ようとした場合、リードフレーム
の外部リードの形成側のみが上下の金型によつて
挟持された状態で樹脂の注入がなされるため、基
板支持体2が樹脂の圧力で空所内で屈曲するおそ
れが多分にあり、したがつて、樹脂内の正しい位
置に基板支持体2が位置する状態で封止を行うこ
とが極めて困難であつた。かかる基板支持体2の
屈曲は、基板支持体2の裏面側の薄い樹脂層7の
厚みにばらつきをもたらし、さらに、この厚みの
ばらつきは、完成したトランジスタの放熱特性の
ばらつきに直結する。
図で示した封止構造を第3図で示したリードフレ
ームを用いて得ようとした場合、リードフレーム
の外部リードの形成側のみが上下の金型によつて
挟持された状態で樹脂の注入がなされるため、基
板支持体2が樹脂の圧力で空所内で屈曲するおそ
れが多分にあり、したがつて、樹脂内の正しい位
置に基板支持体2が位置する状態で封止を行うこ
とが極めて困難であつた。かかる基板支持体2の
屈曲は、基板支持体2の裏面側の薄い樹脂層7の
厚みにばらつきをもたらし、さらに、この厚みの
ばらつきは、完成したトランジスタの放熱特性の
ばらつきに直結する。
本発明は、放熱板を兼ねる基板支持体の一方の
主面(半導体基板の接着面とは反対側の面)の直
下に高い精度で均一な厚みの薄い樹脂の層を形成
した構造を実現することにより実装時における作
業性を格段に向上させた樹脂封止形半導体装置を
提供することを目的とする。
主面(半導体基板の接着面とは反対側の面)の直
下に高い精度で均一な厚みの薄い樹脂の層を形成
した構造を実現することにより実装時における作
業性を格段に向上させた樹脂封止形半導体装置を
提供することを目的とする。
この目的を達成するために本発明の樹脂封止形
半導体装置は、表面側に半導体基板が載置される
とともに半導体基板載置部とは異なる位置に孔が
穿設された放熱板を兼ねる基板支持体と、同基板
支持体の一方の側から導出され、前記基板支持体
と一体成型された外部リードと、前記基板支持体
の他の側から導出され、前記基板支持体と一体成
型された細条とが成型樹脂により封止されてな
り、前記基板支持体の裏面側が前記成型樹脂で薄
く覆われるとともに、前記基板支持体の表面側の
前記成型樹脂でなる封止外殻が肉薄部および肉厚
部を有し、かつ、前記肉薄部にその表面から前記
基板支持体に穿設さられた孔を貫通して裏面に達
するねじ止め用の貫通孔が設けられていることを
特徴とする。
半導体装置は、表面側に半導体基板が載置される
とともに半導体基板載置部とは異なる位置に孔が
穿設された放熱板を兼ねる基板支持体と、同基板
支持体の一方の側から導出され、前記基板支持体
と一体成型された外部リードと、前記基板支持体
の他の側から導出され、前記基板支持体と一体成
型された細条とが成型樹脂により封止されてな
り、前記基板支持体の裏面側が前記成型樹脂で薄
く覆われるとともに、前記基板支持体の表面側の
前記成型樹脂でなる封止外殻が肉薄部および肉厚
部を有し、かつ、前記肉薄部にその表面から前記
基板支持体に穿設さられた孔を貫通して裏面に達
するねじ止め用の貫通孔が設けられていることを
特徴とする。
以下に図面を参照して本発明の一実施例を詳し
く説明する。
く説明する。
第5図は、本実施例に使用するリードフレーム
の構造を示す図であり、第5図aは平面図を、第
5bは第5図aのB−B線に沿つた断面図をそれ
ぞれに示す。
の構造を示す図であり、第5図aは平面図を、第
5bは第5図aのB−B線に沿つた断面図をそれ
ぞれに示す。
図示するように、基板支持体2の外部リード6
に繋る辺とは反対側の辺から2本の細条15と1
6が延び、これらが、第2の共通接続細条17に
繋つた構造となつている。なお、第2の共通接続
細条に形成された孔18は、樹脂封止工程で金型
の一部と嵌合し位置規制のために作用する。とこ
ろで、第5図bで示すように、細条15と16の
厚みは基板支持体2よりも薄く選定され、しか
も、その下面と基板支持体2の下面との間に所定
の段差が形成されている。
に繋る辺とは反対側の辺から2本の細条15と1
6が延び、これらが、第2の共通接続細条17に
繋つた構造となつている。なお、第2の共通接続
細条に形成された孔18は、樹脂封止工程で金型
の一部と嵌合し位置規制のために作用する。とこ
ろで、第5図bで示すように、細条15と16の
厚みは基板支持体2よりも薄く選定され、しか
も、その下面と基板支持体2の下面との間に所定
の段差が形成されている。
第6図は、かかるリードフレームを用いて形成
したトランジスタ組立構体を樹脂で封止成型する
状態を示す図であり、上下の金型13と14の間
に形成される空所内へ樹脂30を注入して成型す
る点では、従来の方法と同じである。しかしなが
ら、このリードフレームを使用した場合には、図
示するように、リードフレームの外部リード6,
10,11が一方の側において上下の金型によつ
て挟持されるとともに、他方の側でも、細条1
5,16ならびに第2の共通接続細条17が上下
の金型によつて挟持される。また第1の共通接続
細条9に設けた孔8に金型の突出部が嵌合(図示
せず)するばかりでなく、第2の共通接続細条1
7の孔18にも金型の突出部19が嵌合する。な
お、20はねじ止め用の孔を形成するべく樹脂を
部分的に排除する突起である。
したトランジスタ組立構体を樹脂で封止成型する
状態を示す図であり、上下の金型13と14の間
に形成される空所内へ樹脂30を注入して成型す
る点では、従来の方法と同じである。しかしなが
ら、このリードフレームを使用した場合には、図
示するように、リードフレームの外部リード6,
10,11が一方の側において上下の金型によつ
て挟持されるとともに、他方の側でも、細条1
5,16ならびに第2の共通接続細条17が上下
の金型によつて挟持される。また第1の共通接続
細条9に設けた孔8に金型の突出部が嵌合(図示
せず)するばかりでなく、第2の共通接続細条1
7の孔18にも金型の突出部19が嵌合する。な
お、20はねじ止め用の孔を形成するべく樹脂を
部分的に排除する突起である。
このようにして、本実施例の方法によれば、リ
ードフレームの基板支持体2は、上下の金型13
と14によつて挟持される外部リード6と細条1
5,16とにより支持されて金型内の空所内に浮
いた状態で位置する。また、第1、第2の共通接
続細条9,17の双方は、金型によつて単に挟持
されるだけではなく、これらに穿説した孔と金型
の突起との嵌合によつて水平方向の動きが完全に
阻止されるため、上記の浮いた状態は極めて正確
に制御される。
ードフレームの基板支持体2は、上下の金型13
と14によつて挟持される外部リード6と細条1
5,16とにより支持されて金型内の空所内に浮
いた状態で位置する。また、第1、第2の共通接
続細条9,17の双方は、金型によつて単に挟持
されるだけではなく、これらに穿説した孔と金型
の突起との嵌合によつて水平方向の動きが完全に
阻止されるため、上記の浮いた状態は極めて正確
に制御される。
第7図は上記の封止成型過程を経たのちの状態
を示す斜視図である、図示するように封止外殻に
は、ねじ止め用の孔4の形成を有する肉薄部21
と肉厚部22が形成されているが、両者間に段差
が形成されていることにより、放熱板への取りつ
け時にねじの頂部が突出することのない状態が成
立する。
を示す斜視図である、図示するように封止外殻に
は、ねじ止め用の孔4の形成を有する肉薄部21
と肉厚部22が形成されているが、両者間に段差
が形成されていることにより、放熱板への取りつ
け時にねじの頂部が突出することのない状態が成
立する。
次いで、X−X線ならびにX′−X′線に沿つた
切断処理を施し、第1の共通接続細条9ならびに
細条15,16を切断することによつて、第8図
で示す構造の樹脂封止形トランジスタが完成す
る。
切断処理を施し、第1の共通接続細条9ならびに
細条15,16を切断することによつて、第8図
で示す構造の樹脂封止形トランジスタが完成す
る。
上記したとおり、本実施例の樹脂封止形半導体
装置では、基板支持体2の裏面が均一な厚みの薄
い樹脂層で覆われ、従来のごとくマイカの板等の
絶縁板を介することなく、直接放熱体への取り付
けを可能とするばかりでなく、基板支持体2の表
面側に位置する封止外殻をねじ止め用の孔4を有
する肉薄部21と肉厚部22の2部分で構成し、
両者間の段差によつて、放熱板へねじ止めした際
にそのねじの頂部が突出することのない構造とな
つている。
装置では、基板支持体2の裏面が均一な厚みの薄
い樹脂層で覆われ、従来のごとくマイカの板等の
絶縁板を介することなく、直接放熱体への取り付
けを可能とするばかりでなく、基板支持体2の表
面側に位置する封止外殻をねじ止め用の孔4を有
する肉薄部21と肉厚部22の2部分で構成し、
両者間の段差によつて、放熱板へねじ止めした際
にそのねじの頂部が突出することのない構造とな
つている。
このように本実施例においては、絶縁板を不要
としたこと、および、ねじの頂部を隠蔽したこと
の相乗作用により、その実装的における取り付け
の作業制を格段に向上させるだけでなく、実装密
度をも向上させたものである。
としたこと、および、ねじの頂部を隠蔽したこと
の相乗作用により、その実装的における取り付け
の作業制を格段に向上させるだけでなく、実装密
度をも向上させたものである。
ところで、本実施例の方法で形成したトランジ
スタでは、細条15と16の切り口が封止外殻の
側面に露出するが、第5図で示したように、基板
支持部2の下面と細条15と16の下面との間に
厚みの差に基く段差が形成されているため、完成
したトランジスタの放熱板へとりつけられる側の
樹脂封止外殻の下面と切り口との間には十分な間
隔が付与される。したがつて、この部分において
短絡事故が発生するおそれはない。また、細条1
5,16が肉薄であるため、これの切断も容易で
ある。
スタでは、細条15と16の切り口が封止外殻の
側面に露出するが、第5図で示したように、基板
支持部2の下面と細条15と16の下面との間に
厚みの差に基く段差が形成されているため、完成
したトランジスタの放熱板へとりつけられる側の
樹脂封止外殻の下面と切り口との間には十分な間
隔が付与される。したがつて、この部分において
短絡事故が発生するおそれはない。また、細条1
5,16が肉薄であるため、これの切断も容易で
ある。
なお、本発明の樹脂封止形半導体装置を製作す
るために用いる封止成型用の樹脂は出来うる限り
熱伝導性の高いものであることが望ましく、ま
た、基板支持部直下の樹脂層の厚みは放熱特性と
電気的絶縁性の両者に鑑み、約0.3〜0.5mm程度に
選定されることがのぞましく、この範囲で特に良
好な結果が得られた。
るために用いる封止成型用の樹脂は出来うる限り
熱伝導性の高いものであることが望ましく、ま
た、基板支持部直下の樹脂層の厚みは放熱特性と
電気的絶縁性の両者に鑑み、約0.3〜0.5mm程度に
選定されることがのぞましく、この範囲で特に良
好な結果が得られた。
以上説明したところから明らかなように、本発
明によれば、放熱板を兼ねる基板支持体の直下に
薄い樹脂層をもつ樹脂封止形半導体装置の実装時
の作業性を向上させ、さらに実装密度を向上させ
ることができる。
明によれば、放熱板を兼ねる基板支持体の直下に
薄い樹脂層をもつ樹脂封止形半導体装置の実装時
の作業性を向上させ、さらに実装密度を向上させ
ることができる。
第1図および第2図は従来の樹脂封止形電力用
トランジスタの構造を示す断面図、第3図は従来
のリードフレームを示す平面図、第4図は第3図
で示すリードフレームを用いて第2図で示す樹脂
封止形電力用トランジスタを形成するときの封止
成型の状態を示す図、第5図a,bは本発明の一
実施例にかかるリードフレームを示す平面図なら
びに断面図、第6図〜第8図は本発明の製造方法
における封止成型工程から完成までの状態を示す
図である。 1……トランジスタ素子、2……基板支持体、
4……ねじ止め用の孔、5……保護用樹脂、6,
10,11……外部リード、12……金属細線、
13,14……金型、30……樹脂、7……薄い
樹脂層、8,18……孔、9,17……共通接続
細条、15,16……細条、19,20……金型
の突起、21……封止樹脂外殻肉薄部、22……
封止樹脂外殻肉厚部。
トランジスタの構造を示す断面図、第3図は従来
のリードフレームを示す平面図、第4図は第3図
で示すリードフレームを用いて第2図で示す樹脂
封止形電力用トランジスタを形成するときの封止
成型の状態を示す図、第5図a,bは本発明の一
実施例にかかるリードフレームを示す平面図なら
びに断面図、第6図〜第8図は本発明の製造方法
における封止成型工程から完成までの状態を示す
図である。 1……トランジスタ素子、2……基板支持体、
4……ねじ止め用の孔、5……保護用樹脂、6,
10,11……外部リード、12……金属細線、
13,14……金型、30……樹脂、7……薄い
樹脂層、8,18……孔、9,17……共通接続
細条、15,16……細条、19,20……金型
の突起、21……封止樹脂外殻肉薄部、22……
封止樹脂外殻肉厚部。
Claims (1)
- 1 表面側の所定部に半導体基板が載置され、同
半導体基板の載置部とは異なる位置に孔の穿設さ
れた基板支持体と、同基板支持体の一方の辺の側
から導出された外部リードの一部と、前記基板支
持体の他方の辺の側から導出され、樹脂封止時に
前記基板支持体のささえとなる細条の一部とが、
単一の成型樹脂で前記基板支持体の表面側に厚
く、裏面側に薄く覆つて封止され、前記基板支持
体の表面側の前記成型樹脂でなる封止外殻に前記
半導体基板の載置部で肉厚、他部で肉薄の段差部
を有し、かつ、前記封止外殻の段差肉薄部に、そ
の表面から前記基板支持体に穿設された前記孔を
貫通して裏面に達する、ねじ止め用の貫通孔を備
えた樹脂封止型半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63158578A JPS6446958A (en) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | Resin seal type semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63158578A JPS6446958A (en) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | Resin seal type semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6446958A JPS6446958A (en) | 1989-02-21 |
JPH0512857B2 true JPH0512857B2 (ja) | 1993-02-19 |
Family
ID=15674751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63158578A Granted JPS6446958A (en) | 1988-06-27 | 1988-06-27 | Resin seal type semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6446958A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4851973B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2012-01-11 | 本田技研工業株式会社 | 回転センサ及びその製造方法 |
JP2014183242A (ja) * | 2013-03-20 | 2014-09-29 | Denso Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5713802U (ja) * | 1980-06-30 | 1982-01-23 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5558053U (ja) * | 1978-10-11 | 1980-04-19 |
-
1988
- 1988-06-27 JP JP63158578A patent/JPS6446958A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5713802U (ja) * | 1980-06-30 | 1982-01-23 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6446958A (en) | 1989-02-21 |
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