JPH05128505A - 薄膜磁気デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は薄膜磁気ディスクの製造プロセスに関
し、特にテクスチャ加工中に生じた加工暦や自然酸化膜
を洗浄中に加工液や砥粒、加工粉と共にエッチング除去
し、円周方向に磁気異方性を付けることにある。 【構成】Ｎｉ−Ｐ２めっき膜をテクスチャ加工し、加工
液などの汚染部質の洗浄と同じに、加工で生じる歪や熱
による局部的に結晶化した部分をエッチングする。エッ
チングは洗浄液にＮｉ−Ｐをエッチングする酸性部質又
はアルカリ性部質を添加したものを使用する。 【効果】洗浄中に汚染物の除去と加工暦をエッチンする
ため、磁気異方性の優れた次成膜を成膜できる効果があ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子計算機やワ−クステ
−ションなどの外部記憶装置として用いられている磁気
記録媒体の製造方法に係り、特に磁気特性に優れた磁性
媒体を持つ薄膜磁気ディスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクなどの磁気記録技術を利用
した記憶装置は、計算機やワ−クステ−ションなどの外
部記憶装置として広く用いられており、近年の情報量の
増大に伴ってますます大容量のものが要求されている。
一方で装置自身の形状は、より小型、軽量のものが望ま
れており、これらを両立させるには記録媒体の飛躍的な
記録密度向上が不可欠となっている。

【０００３】例えば、磁性膜形成前において、磁気特性
の向上のため、磁気ディスク媒体の基板面、あるいは基
板面上に設けられたＮｉ−Ｐメッキ等の下地膜上に、第
２図のように、磁気ディスク媒体の円周方向で、ほぼ同
心円状に加工痕を残す加工（以下テクスチャ加工と略
す）が行われている。

【０００４】テクスチャ加工は、（１）磁気ディスク停
止時に磁気ヘッドと磁気ディスク媒体との間の吸着現象
を軽減する効果、（２）加工表面上に成膜される磁性膜
に形状異方性を持たせることにより、円周方向に磁性特
性を均一化させる効果等を有する。

【０００５】テクスチャ加工に関する技術は、特開昭６
３−４２０２７，特開昭６３−２４９９３３，特開昭６
３−４２０１９，特開昭６２−２６２２２７などに記載
されている。

【０００６】しかし、テクスチャ加工後の表面は、加工
のため局部的に熱が発生し、このため加工による歪や、
結晶欠陥等が発生する。これがもとで、この上に磁性媒
体の結晶成長が不均一となり、保磁力等の磁気特性の向
上が期待できない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
現状に鑑みてなされたものであり、テクスチャ加工歴や
汚染膜を除去し、成膜前に必要な表面を制御することに
より、磁気記録媒体の磁気特性を著しく向上させること
を目的としたものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明では成膜前の基板表面を、これまでに受けた加
工歴や汚染膜を洗浄中に加工液や砥粒、加工粉等と共に
エッチングで除去し、しかる後その表面に下地膜、磁性
膜、保護膜を成膜し、磁性膜の結晶配向性を向上するこ
とを特徴とする。

【０００９】

【作用】テクスチャ加工後の基板表面は、加工に用いる
砥粒が基板表面に押しつけられ、さらに研磨されるた
め、局部的に熱が発生する。この熱がアモルファス構造
のＮｉ−Ｐ下地膜の表面では再結晶が起こり、もはやア
モルファス構造ではなく、結晶化された表面となる。こ
のため、均一な表面でなくなり、この上に成膜される磁
性媒体は、加工に伴い結晶化した微小な表面に左右さ
れ、期待道理の磁気特性が得られない。ここで、この加
工に伴う表面のダメ−ジをエッチング液で除去すること
により、この上に成膜される磁性媒体に影響を与えず
に、期待道理の磁性媒体を成膜することができる。エッ
チング処理はオフラインで行ってもよいが、洗浄中に加
工液や砥粒、加工粉等と共にエッチングすることによ
り、洗浄能力が格段に向上し、その結果表面の清浄度が
さらに向上し、また、加工暦も同じに除去される。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明
する。

【００１１】図１は、本発明の薄膜磁気ディスクの製造
プロセスの一例を示し、図２は薄膜磁気ディスクの構造
を示し、図３は、テクスチャ加工により表面に発生する
歪や結晶欠陥の発生ようすを示し、図４，図５はエッチ
ングにより加工履歴を除去されるようすを示す。

【００１２】薄膜磁気ディスクは図２に示すように、磁
性媒体を支えるアルミ合金基板１、基板に適度な固さを
持たせるためのＮｉ−Ｐメッキ下地膜２、磁性媒体の磁
気異方性を付けるための下地膜３、磁性膜４、磁性膜の
摩耗を保護するための保護膜５、摩擦係数を小さくする
ための潤滑膜６で構成する。また、２のＮｉ−Ｐ下地膜
と３の下地膜の間には、ヘッドの浮上特性を安定にする
ために、円周方向にテクスチャ加工を行う。

【００１３】本実施例の薄膜磁気ディスクの製造方法
は、図１のように、アルミ合金基板１に無電解メッキ法
でＮi−Ｐ２を１０〜３０μm付け、次に表面を境面研磨
し、洗浄する。さらに、Ｎｉ−Ｐメッキした基板を回転
させながら表面を加工し、基板の円周方向にテクスチャ
加工を施し、洗浄する。この洗浄では、加工液や砥粒、
加工分などを除去すると共に、加工で生じた歪や微小結
晶部分等の加工履歴をエッチング除去する。この後、ス
パッタ方法で下地膜３、磁性膜４、保護膜５を成膜し、
潤滑剤６を塗布後検査を行う。

【００１４】こうして、得られた基板は、表面状態が均
一となり、特性の良い薄膜磁気ディスクが得られる。ま
た、洗浄液は、Ｎｉ／Ｐをエッチングするものであるな
ら酸性、アルカリ性何方でも構わないが、一般的にアル
カリ性の洗浄液が設備の保守等の面でよい。エッチング
量はテクスチャ加工のダメ−ジ深さに合わせて１ｎｍ〜
１００ｎｍ程度必要であるが、通常は数ｎｍ程度で良
い。

【００１５】次に本発明の特徴について図３，図４，図
５を用いて説明する。

【００１６】テクスチャ加工は砥粒７の入った研磨液を
滴下し、その表面をテ−プ８で押しつけ、基板を回転し
ながら円周方向に数nｍ〜数十nｍの溝を付ける。このと
き、図３に示すように、砥粒７と基板が接触する部分で
は表面のＮｉ−Ｐ２は塑性変形を受け、局部的に歪や熱
を発生するため、アモルファス状態でなくなる。このた
め、この上に成膜する下地膜や磁性膜の成長に悪影響を
与える。そこで、図４に示すように加工直後の基板表面
を、洗浄と同じにエッチングすることで、図５に示すよ
うに加工歴は除去され、加工前のきれいでアモルファス
状態の表面が出てくる。このとき、テクスチャ加工の形
状は一部滑らかになるが、ヘッド浮上や磁気特性の本質
的な特性は維持され、さらに、スパッタ成膜に必要な表
面状態が得られるため磁気特性の良い基板が得られる。

【００１７】次に本発明の製造方法の詳細を図６を用い
て説明する。

【００１８】テクスチャ加工直後の表面には加工液、砥
粒、加工粉等が付着しており、また、この他に表面には
図３で述べたような加工歪や熱による局部的に結晶化し
た部分ができる。このような汚染部質や加工履歴を除去
するために、図６に示すように、まず、アルカリ性の洗
浄液に浸漬し、超音波洗浄をする。ここでは、大方の汚
染部質を落す粗洗浄部と呼び、洗浄と共にエッチング性
の洗浄液により加工暦を除去する。この処理は、温度を
４０〜６０℃程度掛けるようにすれば処理時間の短縮や
表面の仕上げ向上などで効果が表れる。ここで、浸漬し
ながら超音波洗浄する理由は、次に行うスクラブ洗浄で
傷を付けないことと、充分にエッチングするためのマ−
ジンを得るためである。ここでの洗浄は、汚染部質を落
すことはもちろん、加工履歴を充分にエッチングできる
だけの時間を掛け処理を行う。粗洗浄後は、高圧ジェッ
ト洗浄、又は液体に超音波を乗せて基板表面に吹き付け
て洗浄する超音波スプレ−洗浄などの非接触式の洗浄方
法で汚染部質を除去する。次に洗剤、純水スクラブ洗浄
等で精密洗浄を行い、スピン乾燥や温水に浸漬し、ゆっ
くり引き上げる温水引き上げ乾燥、若しくは引上げ中に
不活性なガス又は不活性な高温ガスを吹き付けて乾燥す
る。

【００１９】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ス
パッタ成膜前の基板の加工歴を除去した後に成膜するた
め、その上に成膜される磁気記録媒体の結晶性が秩序正
しく並ぶため、目的の特性、特に、保磁力、角形比、磁
気配向性を改善することができ、且つ、高記録密度を有
した製品を安定して供給できる効果がある。本発明の実
施例において洗浄液はｐＨ＝１２のアルカリ性洗浄液を
使用した。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す薄膜磁気ディスクの製
造プロセスを示す図である。

【図２】薄膜磁気ディスクの構造の斜視図である。

【図３】テクスチャ加工中に欠陥が発生するようすを説
明する図である。

【図４】テクスチャ加工により発生した欠陥の説明図で
ある。

【図５】エッチングにより加工履歴を除去する様子を示
す図である。

【図６】本発明の中で特に洗浄中にエッチングするため
のプロセスの一例を示す図である。

【符号の説明】

１……アルミ基板、２……Ｎｉ−Ｐ下地膜、３……下地
膜、４……磁性膜、５……保護膜、６……潤滑膜、７…
…砥粒、８……加工テ−プ。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 森口 善弘 神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社 日立製作所小田原工場内

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁性媒体を支えるＮｉ−Ｐメッキ基板の上
   に、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜を順次成膜し、且
   つ、基板と下地膜の間にテクスチャ加工処理を行う薄膜
   磁気ディスクの製造方法において、テクスチャ加工直
   後、汚染物の洗浄と共に基板表面をエッチングすること
   を特徴とする薄膜磁気ディスクの製造方法。
2. 【請求項２】請求項１記載の製造方法において、テクス
   チャ加工表面をエッチングすることにより、円周方向に
   磁気異方性を付けることを特徴とする薄膜磁気ディスク
   の製造方法。
3. 【請求項３】請求項１記載の製造方法において、洗浄液
   にエッチング作用のある液を添加することを特徴とする
   薄膜磁気ディスクの製造方法。
4. 【請求項４】請求項３記載の洗浄液において、アルカリ
   性の洗浄液を使用することを特徴とする薄膜磁気ディス
   クの製造方法。
5. 【請求項５】請求項３記載の洗浄液において、酸性の洗
   浄液を使用することを特徴とする薄膜磁気ディスクの製
   造方法。
6. 【請求項６】請求項４記載の洗浄液において、アルカリ
   性の液としてはケイ酸ナトリウムなどのナトリウム塩を
   使用することを特徴とする薄膜磁気ディスクの製造方
   法。
7. 【請求項７】請求項４記載の洗浄液において、酸性の液
   としては硝酸、塩酸、硫酸、フッ酸を使用することを特
   徴とする薄膜磁気ディスクの製造方法。
8. 【請求項８】請求項１記載の製造方法において、エッチ
   ングはテクスチャ加工後、前記洗浄液に浸漬し、超音波
   を照射することを特徴とする薄膜磁気ディスクの製造方
   法。
9. 【請求項９】請求項８記載の製造方法において、浸漬超
   音波洗浄後は、高圧ジェット洗浄又は超音波を付与した
   洗浄液流を掛ける超音波ジェット、次いで、洗剤スクラ
   ブ、純水スクラブ、最後にスピン乾燥又は温水に浸漬し
   ゆっくり引き上げる温水引き上げ乾燥、若しくは引上げ
   中に不活性なガス又は不活性な高温ガスを吹き付けて乾
   燥することを特徴とする薄膜磁気ディスクの製造方法。