JPH0491197A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、洗浄剤組成物、更に詳しくは硬質表面用液体
洗浄剤組成物に関する。

〔従来の技術及びその課題〕

従来の洗浄剤組成物は、汚れの種類、程度の違いにより
使い分けられている。即ち、比較的汚れの程度の軽い手
アカ汚れ、未変性油清れに対しては界面活性剤／溶剤系
の洗浄剤が、台所回り等の熱、日光、空気中の酸素など
の作用により変質した油脂汚れ等には界面活性剤／溶剤
／アルカリ剤系の洗浄剤が、また浴室内の金属石ケン、
特に脂肪酸のカルシウム塩に対しては界面活性剤／溶剤
／金属イオン封鎖側系の洗浄剤が主流となってきている
。

又、その洗浄剤の主成分である溶剤は、洗浄力、基材に
対する損傷性等から低級アルコールにエチレンオキサイ
ド及び／又はプロピレンオキサイドを付加したアルキレ
ングリコールアルキルエーテル系溶剤が一般的であり、
これら溶剤を使用することにより、洗浄力についてはあ
る程度満足のいくレベルのものが種々提案されているが
（例えば特公昭５０−４０１２６号公報、特開昭５４−
１５８４０８号公報、特開昭６１−１５１３００号公報
、特公昭５５−９０３６号公報、特開平１−２２１４９
７号公報）、一方では溶剤臭がするが為に、使用時に不
快感を与えたり、香料成分等の添加によるマスキングを
必要としなければならず、香料成分を添加しても匂いと
しては満足のいくレベルまでには至っていない。

又、特開平２−１３２１９９号公報では特定の溶剤（低
級アルコールのプロピレンオキサイド付加物）中の異性
体含有量を限定することにより匂いを改善する提案がな
されているが、完全に溶剤臭を抑えるまでには至ってい
ない。

〔問題を解決するための手段］ 本発明者らは、洗浄剤組成物に用いられる下記一般式（
１） ％式％（１） 〔ここで、Ｒ，Ｒ’　はそれぞれＨ又は炭素数１〜８の
アルキル基を表し、Ｒ，Ｒ’　が同時にＨであることは
ない。Ｘ、　Ｙは０≦Ｘ≦３．０≦Ｙ≦３の整数であっ
て、Ｘ、　Ｙが同時にＯであることはない。〕 で表されるアルキレングリコールアルキルエーテル系溶
剤において、溶剤臭の根本的な原因の解明、更には、溶
剤臭のしない溶剤の検討を積み重ねた結果、不快な溶剤
臭の原因は一般式（］）で表される溶剤自身が有する匂
いではなく、製造時に副生ずる、あるいは原料由来のご
く微量の揮発性物質にあることが判明した。

又、溶剤のヘッドスペース分析（条件は、後述する。）
にて測定した結果、溶剤臭を有しているものは、主成分
である一般式（１）で表される化合物以外に、分子量が
５０〜３００の副生成物を−ｇ式（１）で表される化合
物のピークエリアに対して１％〜３％、更には４〜２０
％含んでいることが判明した。

そこで、反応条件をかえることにより、副生成物の含有
量の異なる溶剤サンプルを得て、がかるサンプル中のヘ
ントスペースの分析と匂いの評価を行った結果、ヘッド
スペース中の分子量が５０〜３００の物質の含有量が主
成分のピークエリアに対して０．５％以下の溶剤が匂い
の点で問題のないレベルにあることが判明した。

以上の結果に鑑み、本発明者らは、従来より溶剤臭がす
るといわれてきたものに含まれるごく微量の分子量５０
〜３００の副生成物を、ヘッドスペース中のＧＣ−ＭＳ
分析によるピークエリア比が０．５％以下となるまで低
減することにより得られる溶剤臭のない溶剤を配合すれ
ば、洗浄力については勿論のこと、匂いの点で非常に優
れた洗浄剤組成物が提供されることを見出し、本発明を
完成するに至った。

即ち、本発明は、 （Ａ）下記一般式（１）で表されるアルキレングリコー
ルアルキルエーテル系溶剤であって、該溶剤中の主成分
以外の分子量５０〜３００の物質の含有量が、ヘントス
ペースＧＣ−ＭＳ分析において前記溶剤のピークエリア
に対する前記主成分以外の物質のピークエリアの比が０
．５％以下となる量であることを特徴とするアルキレン
グリコールアルキルエーテル系溶剤 ０．１〜２０重量％ ＲＯ（Ｃ２Ｈ，Ｏ）　Ｘ（Ｃ３Ｈ６０）　ＹＲ’　　　
　　（１）〔ここで、Ｒ，Ｒ’　はそれぞれ■又は炭素
数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ，Ｒ’　が同時ムこＨ
であることはない。Ｘ、　Ｙは０≦Ｘ≦３０≦Ｙ≦３の
整数であって、Ｘ、　Ｙが同時に０であることはない、
〕 （Ｂ）界面活性剤　　　　　　　０．１〜２０重量％を
含有してなることを特徴とする洗浄剤組成物を提供する
ものである。

本発明において、一般式（１）で表される化合物のヘッ
ドスペースＧＣ−ＭＳ分析は以下のよね二行なわれる。

■測定機器 ■ガスクロ条件 ・カラム・・・Ｊアンド−社［ＤＢ−ＷＡＸ３０ｍＸ０
．３２Ｘ５０ａ ・キャリアガス−Ｈｅ、　１．８４ａｆｆｉ／　５ｉｎ
Ｓｐｌｉｔ　　ｖｅｎｔ、　　２０．０ｄ／５ｉｎＴｏ
ｔａｌ　５ｐｌｉｔ　ｖｅｎｔ、　　１２５ｄ／＋＋＋
ｉｎ・カラム昇温条件 時間 ０〜２分・・・４０°Ｃで一定 ２〜１２分・・・４°Ｃ／分で８０°Ｃまで昇温１２〜
１９分・・・１０℃／分で１５０°Ｃまで昇温１９〜３
１分・・・１５０℃で一定 ・試料注入温度２３０°Ｃ ・検出温度２５０°Ｃ ■ヘッドスペース条件 ・サンプル容器・・・２０ａｔバイヤル容器・サンプル
量・・・１０Ｍ１ ・加温条件・・・９０℃、１．５時間 本発明に用いられる（Ａ）の溶剤としては、エチレング
リコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチル
エーテル、トリプロピレングリコールジメチルエーテル
、ポリオキシエチレン（式（１）中のＸ　−１）ポリオ
キシプロピレン（式（１）中のＹ＝３）グリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。かかる溶剤中の副生成
物の含有量は、ヘッドスペースＧＣ−ＭＳ分析において
、溶剤のピークエリアに対する主成分以外の副生成物の
ピークエリアの比が０．５％以下となる量である必要が
ある。ピークエリアの比が０．５％を越えると臭いの面
で満足できる洗浄剤組成物が得られない、これらの溶剤
（Ａ）は本発明の組成物中に０．１〜２０重量％、好ま
しくは３〜１０重量％配合される。

本発明に用いられる界面活性剤（Ｂ）としては、陰イオ
ン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤が好ましいが、
必要に応じて、両性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤
も使用可能である。

陰イオン性界面活性剤としては通常のスルホネート系陰
イオン性界面活性剤、サルフェート系陰イオン性界面活
性剤が使用される。スルホネート系陰イオン性界面活性
剤としては、直鎖又は分枝鎖アルキル（ｃｍ〜Ｃｔｔ）
ベンゼンスルホン酸塩、長鎖アルキル（Ｃｓ　＝　Ｃｚ
　ｚ　）スルホン酸塩、長鎖オレフィン（Ｃ３〜Ｃｚ）
スルホン酸塩等がある。またサルフェート系陰イオン性
界面活性剤としては長鎖モノアルキル（Ｃ３〜Ｃｚｚ）
硫酸エステル塩、ポリオキシエチレン（１〜６モル）長
鎖アルキル（Ｃ３〜Ｃｚｚ）エーテル硫酸エステル塩、
ポリオキシエチレン（１〜６モル）アルキル（Ｃ８〜Ｃ
ｐｓ）フェニルエーテル硫酸エステル塩等がある。これ
ら陰イオン性界面活性剤の対イオンとしての陽イオンは
、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属イオン、モノ
エタノールアミン、ジェタノールアミン、トリエタノー
ルアミン等のアルカノールアミンイオン等である。加水
分解に対する抵抗が強い等の点から、本発明の陰イオン
性界面活性剤としてはスルホネート系界面活性剤が好ま
しい。更に洗浄力等の点から直鎖又は分枝鎖アルキルベ
ンゼンスルホン酸塩が好ましい。

非イオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレン（
６〜３５モル）長鎖アルキル（第１級又は第２級０８〜
Ｃ２□）エーテル、ポリオキシエチレン（６〜３５モル
）アルキル（ＣＳ〜Ｃｐｓ）フェニルエーテル、ポリオ
キシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー
等が使用される。

洗浄力等の点から、ポリオキシエチレン（６〜３５モル
）長鎖アルキル（第１級又は第２級０８〜Ｃ２□）エー
テル、ポリオキシエチレン（６〜３５モル）アルキル（
０６〜Ｃ＋ａ）フェニルエーテルが好ましい。

両性界面活性剤としては、炭素数８〜２２のアルキル基
を有するカルボヘタイン、スルホベタイン、ヒドロキシ
スルホベタイン等が挙げられる。

また、陽イオン性界面活性剤としては、炭素数１０〜２
２のアルキル基又はアルケニル基を有するモノ長鎖アル
キルトリメチルアンモニウム塩、ジ長鎖アルキルジメチ
ルアンモニウム塩、モノ長鎖アルキルジメチルベンジル
アンモニウム塩等が挙げられる。

これらの界面活性剤（Ｂ）は本発明の組成物中に０．１
〜２０重量％配合される。

本発明の洗浄剤組成物には更に酸化防止剤を添加するこ
とにより、経日的な匂いの劣化を防止することができる
。本発明に用いられる酸化防止剤（Ｃ）　としては、従
来公知のものはいずれも使用できるが、好ましいものと
して３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトル
エン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン等の
フェノール系酸化防止剤、　Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−ｐ
−フェニレンジアミン、フェニル−４−ピペリジニルカ
ーボネート等のアミン系酸化防止剤；ジドデシル−３，
３′−チオジプロピオネート、ジトリデシル−３，３′
−チオジプロピオネート等のイオウ系酸化防止剤；トリ
ス（イソデシル）ボスファイト、トリフェニルホスファ
イト等のリン系酸化防止剤；Ｌ−アスコルビン酸及びそ
のナトリウム塩、ＤＬ−α−トコフェロール等の天然酸
化防止剤が挙げられ、単独で、又は２種以上を組み合わ
せて使用することができる。これらのうち、３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン及びＤＬ−α−ト
コフェロールが特に好ましい。

これらの酸化防止剤は本発明の洗浄剤組成物中に溶剤（
Ａ）に対して０．００５重量％以上、好ましくは０．０
０５〜５重量％、特に好ましくは０．０１〜０．３重量
％の割合で配合される。又、酸化防止剤は、溶剤（八）
の製造中に添加しても、本発明の洗浄剤組成物を調整す
る際に添加してもよい。

本発明の洗浄剤組成物にはモノエタノールアミン、ジェ
タノールアミン等のアルカリ剤、クエン酸、ＥＤＴＡ等
の金属イオン封鎖剤を目的に応じて配合したり、又、エ
チルアルコール等の低級アルコール、エチレングリコー
ル、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩等の
低温安定化剤、商品価値を付与させる為の香料、色素、
防腐剤等を任意に配合することができる。

〔実施例〕

以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこ
れらの実施例に限定されるものではない。

表１に示す成分組成の各種洗浄剤組成物を調製し、それ
ぞれの匂いを２０人のパネラ−に評価してもらい、その
評点の平均値を求めた。

評価基準は以下の通りである。

４・・・不快臭はしない ３・・・はとんど不快臭はしない ２・・・やや不快臭がする １・・・不快臭がする 尚、実施例及び比較例に用いたブチルカルピトールのヘ
ッドスペースＧＣ−？ｌＳ分析のチャートをそれぞれ第
１図及び第２図に示した。

表２に示す成分組成の各種洗浄剤組成物を調製し、調製
直後、及び５０℃で１ケ月保存したもののサンプルの匂
いを１０人のパネラ−に評価してもらい、その評点の平
均値を求めた。

評価基準は以下の通りである。

４・・・不快臭はしない ３・・・はとんど不快臭はしない ２・・・やや不快臭がする １・・・不快臭がする

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係わるブチルカルピトールのヘッドス
ペースＧＣ−ＭＳ分析のチャート、第２図は比較のブチ
ルカルピトールのへ・ンドスペースＧＣ□　ＭＳ分析の
チャートである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １（Ａ）下記一般式（１）で表されるアルキレングリコ
   ールアルキルエーテル系溶剤であって、 該溶剤中の主成分以外の分子量５０〜３００の物質の含
   有量が、ヘッドスペースＧＣ−ＭＳ分析（測定条件は本
   文中に記載）において、 前記溶剤のピークエリアに対する前記主成分以外の物質
   のピークエリアの比が０．５％以下となる量であること
   を特徴とするアルキレングリコールアルキルエーテル系
   溶剤０．１〜２０重量％ ＲＯ（Ｃ＿２Ｈ＿４Ｏ）＿Ｘ（Ｃ＿３Ｈ＿６Ｏ）＿ＹＲ
   ’（１）〔ここで、Ｒ、Ｒ’はそれぞれＨ又は炭素数１
   〜８のアルキル基を表し、Ｒ、Ｒ’が同時にＨであるこ
   とはない。Ｘ、Ｙは０≦Ｘ≦３、０≦Ｙ≦３の整数であ
   って、Ｘ、Ｙが同時に０であることはない。〕 （Ｂ）界面活性剤０．１〜２０重量％ を含有してなることを特徴とする洗浄剤組成物。 ２　更に酸化防止剤を（Ａ）成分に対して０．００５重
   量％以上含有してなる請求項１記載の洗浄剤組成物。 ３　酸化防止剤が３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
   ヒドロキシトルエン、ＤＬ−α−トコフェロール及び２
   ，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノンからなる群よ
   り選ばれるものである請求項２記載の洗浄剤組成物。