JPH0487155U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0487155U JPH0487155U JP13032090U JP13032090U JPH0487155U JP H0487155 U JPH0487155 U JP H0487155U JP 13032090 U JP13032090 U JP 13032090U JP 13032090 U JP13032090 U JP 13032090U JP H0487155 U JPH0487155 U JP H0487155U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion source
- ion
- vacuum chamber
- hole
- extraction electrode
- Prior art date
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- Granted
Links
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 6
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第1図は本実施例のイオン発生装置の構成図で
ある。 2……真空チエンバ、3……イオン源、4……
イオン源駆動部、6……引出し電極、9……直線
導入機、10……穴つき反射鏡、12……拡大顕
微鏡。
ある。 2……真空チエンバ、3……イオン源、4……
イオン源駆動部、6……引出し電極、9……直線
導入機、10……穴つき反射鏡、12……拡大顕
微鏡。
Claims (1)
- イオン源と、このイオン源位置の移動調整を行
うイオン源駆動部と、前記イオン源よりイオンを
引出す引出し電極と、引出されたイオンビームが
通過する穴を有する反射鏡と、この反射鏡を介し
て前記イオン源の先端部を観察することができる
窓を有する真空チエンバとを備えたことを特徴と
するイオン発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13032090U JPH079333Y2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | イオン発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13032090U JPH079333Y2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | イオン発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0487155U true JPH0487155U (ja) | 1992-07-29 |
JPH079333Y2 JPH079333Y2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=31877673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13032090U Expired - Lifetime JPH079333Y2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | イオン発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH079333Y2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014060129A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Ulvac Japan Ltd | イオン照射装置 |
WO2019167165A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンミリング装置及びイオンミリング装置のイオン源調整方法 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP13032090U patent/JPH079333Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014060129A (ja) * | 2012-09-19 | 2014-04-03 | Ulvac Japan Ltd | イオン照射装置 |
WO2019167165A1 (ja) * | 2018-02-28 | 2019-09-06 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンミリング装置及びイオンミリング装置のイオン源調整方法 |
US11244802B2 (en) | 2018-02-28 | 2022-02-08 | Hitachi High-Tech Corporation | Ion milling device and ion source adjusting method for ion milling device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH079333Y2 (ja) | 1995-03-06 |