JPH0484946A - 液注入方法 - Google Patents
液注入方法Info
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- JPH0484946A JPH0484946A JP2202105A JP20210590A JPH0484946A JP H0484946 A JPH0484946 A JP H0484946A JP 2202105 A JP2202105 A JP 2202105A JP 20210590 A JP20210590 A JP 20210590A JP H0484946 A JPH0484946 A JP H0484946A
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、センサ、あるいはその他の装置等に高真空下
で液を注入する方法、更に詳しくはメカニカルセクタ走
査方式の超音波探触子へ超音波伝播液を注入する方法に
関するものである。
で液を注入する方法、更に詳しくはメカニカルセクタ走
査方式の超音波探触子へ超音波伝播液を注入する方法に
関するものである。
従来の技術
従来、この種の液注入方法としては、液晶デイスプレィ
への液晶の封入、あるいはエレクトロクロミック材料の
封入等が知られている。
への液晶の封入、あるいはエレクトロクロミック材料の
封入等が知られている。
これらの液注入方法は、デイスプレィの内部に電極か存
在するだけの単純な構造であるため、内部を真空にして
注入液に液封入口を接触させ、デイスプレィの外部の圧
力を常圧に戻すことにより、デイスプレィ内部を注入液
で完全に置換することができる。このような真空注入方
法は、構造が単純で、かつその内部容積が比較的小さい
場合においては、内部に気泡を存在させることなく液の
注入が可能である。しかし、内部構造が複雑で、かつそ
の内部容積も大きくなってくると、前述のような単純な
真空注入法では効率的に液注入を行うことができなくな
る。このような装置の一つとしてメカニカルセフタ走査
方式の超音波探触子を挙げることができる。この超音波
探触子においては、機構部品等で構成されている超音波
センサ部分を超音波伝播液で気密に封じなければならな
い。そこで、従来、超音波探触子に伝播液を封入するに
は、約100torrの真空度まで伝播液と超音波探触
子の双方を吸引し、伝播液が脱気し、平衡状態に達する
と、真空容器内に設置されている送液ポンプで伝播液を
超音波探触子へ供給し、伝播液が超音波探触子からオー
バーフローすると、容器内を常圧に戻していた。このと
きの真空度100torrは、真空状態での送液が可能
な限界の値である。
在するだけの単純な構造であるため、内部を真空にして
注入液に液封入口を接触させ、デイスプレィの外部の圧
力を常圧に戻すことにより、デイスプレィ内部を注入液
で完全に置換することができる。このような真空注入方
法は、構造が単純で、かつその内部容積が比較的小さい
場合においては、内部に気泡を存在させることなく液の
注入が可能である。しかし、内部構造が複雑で、かつそ
の内部容積も大きくなってくると、前述のような単純な
真空注入法では効率的に液注入を行うことができなくな
る。このような装置の一つとしてメカニカルセフタ走査
方式の超音波探触子を挙げることができる。この超音波
探触子においては、機構部品等で構成されている超音波
センサ部分を超音波伝播液で気密に封じなければならな
い。そこで、従来、超音波探触子に伝播液を封入するに
は、約100torrの真空度まで伝播液と超音波探触
子の双方を吸引し、伝播液が脱気し、平衡状態に達する
と、真空容器内に設置されている送液ポンプで伝播液を
超音波探触子へ供給し、伝播液が超音波探触子からオー
バーフローすると、容器内を常圧に戻していた。このと
きの真空度100torrは、真空状態での送液が可能
な限界の値である。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記従来の送液ポンプを使用する真空注
入方法では、真空度が低く、注入液体で完全に置換する
ことができず、微少の気泡が内部に残存するため、この
真空注入の後でこの気泡を除く、脱泡工程を必要とする
。また、超音波伝播液としては、超音波伝播物性が生体
とほぼ等しくなるように、できるだけ水に近いものが要
求されるため、エチレングリコール、あるいはプロピレ
ングリコール、ブタンジオール等の炭素数が2〜5個の
脂肪族系の2価、若しくは3価のアルコールが一般的に
用いられている。これらの液体は、水と同様に比較的粘
性が高く、超音波探触子内部の微少な気泡を系外へ排出
する脱泡作業は非常に難しく、しかも、この脱泡作業に
は非常に多くの工程を要していた。
入方法では、真空度が低く、注入液体で完全に置換する
ことができず、微少の気泡が内部に残存するため、この
真空注入の後でこの気泡を除く、脱泡工程を必要とする
。また、超音波伝播液としては、超音波伝播物性が生体
とほぼ等しくなるように、できるだけ水に近いものが要
求されるため、エチレングリコール、あるいはプロピレ
ングリコール、ブタンジオール等の炭素数が2〜5個の
脂肪族系の2価、若しくは3価のアルコールが一般的に
用いられている。これらの液体は、水と同様に比較的粘
性が高く、超音波探触子内部の微少な気泡を系外へ排出
する脱泡作業は非常に難しく、しかも、この脱泡作業に
は非常に多くの工程を要していた。
本発明は、このような従来の問題を解決するものであり
、高真空下で被注入体内に確実に液を注入することがで
きて被注入体内の気泡を確実に除去することができ、し
たがって、気泡の確認作業および脱泡工程を必要とせず
、効率的な液注入を可能とし、また、注入作業の自動化
を図ることができて製造効率を大幅に向上させることが
できるようにした液注入方法を提供することを目的とす
るものである。
、高真空下で被注入体内に確実に液を注入することがで
きて被注入体内の気泡を確実に除去することができ、し
たがって、気泡の確認作業および脱泡工程を必要とせず
、効率的な液注入を可能とし、また、注入作業の自動化
を図ることができて製造効率を大幅に向上させることが
できるようにした液注入方法を提供することを目的とす
るものである。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するための本発明の技術的解決手段は、
高真空状態で被注入体内に送液するための送液ポンプに
対し、真空度を過渡的に低下させて呼水を行うようにし
たものである。
高真空状態で被注入体内に送液するための送液ポンプに
対し、真空度を過渡的に低下させて呼水を行うようにし
たものである。
そして、過渡的に真空度を低下する時間としては、20
〜400秒(S)の範囲が良好である。20秒より短い
と、送液ポンプを良好に稼働させることができず、40
0秒より長いと、注入液中への気体の溶解量が多くなり
、再度、高真空にした時点で気泡が発生し、送液ができ
なくなってしまった。したがって、超音波探触子等の被
注入体の種類、超音波伝播液等の注入液の種類によって
上記範囲で任意に設定すればよい。
〜400秒(S)の範囲が良好である。20秒より短い
と、送液ポンプを良好に稼働させることができず、40
0秒より長いと、注入液中への気体の溶解量が多くなり
、再度、高真空にした時点で気泡が発生し、送液ができ
なくなってしまった。したがって、超音波探触子等の被
注入体の種類、超音波伝播液等の注入液の種類によって
上記範囲で任意に設定すればよい。
また、真空度としては注入液の種類により多少変化する
が、10−2torr〜10torrの範囲であれば、
液注入後、超音波探触子の内部に気泡が検出されること
はなかった。
が、10−2torr〜10torrの範囲であれば、
液注入後、超音波探触子の内部に気泡が検出されること
はなかった。
また、過渡的に低下させる真空度の範囲としては、10
〜50torrの範囲が適当である。この範囲を越えて
真空度を低下した場合には、過渡的に真空度を低下する
時間の場合と同様に、再度、高真空状態にし、注入液を
送液ポンプで吸引して超音波探触子に送液を行った時に
送液チューブ内に気泡が発生し、送液を行うことができ
なかった。また、逆に10torrを超えた場合には、
呼水が不完全となり、送液を行うことができなかった。
〜50torrの範囲が適当である。この範囲を越えて
真空度を低下した場合には、過渡的に真空度を低下する
時間の場合と同様に、再度、高真空状態にし、注入液を
送液ポンプで吸引して超音波探触子に送液を行った時に
送液チューブ内に気泡が発生し、送液を行うことができ
なかった。また、逆に10torrを超えた場合には、
呼水が不完全となり、送液を行うことができなかった。
また、超音波探触子の超音波伝播液に用いる注入液とし
ては、炭素数が2〜5gIIの範囲の2価、若しくは3
価のアルコールを用いるのが好ましい。
ては、炭素数が2〜5gIIの範囲の2価、若しくは3
価のアルコールを用いるのが好ましい。
作用
したがって、本発明によれば、高真空状態で被注入体内
に送液するための送液ポンプに対し、真空度を過渡的に
低下させて呼水を行うことにより、高真空状態での送液
ポンプによる被注入体に対する送液が可能となり、被注
入体が超音波探触子のように内部に複雑な構造を有して
いても確実に液を注入することができ、被注人体内の気
泡を確実に除去することができる。
に送液するための送液ポンプに対し、真空度を過渡的に
低下させて呼水を行うことにより、高真空状態での送液
ポンプによる被注入体に対する送液が可能となり、被注
入体が超音波探触子のように内部に複雑な構造を有して
いても確実に液を注入することができ、被注人体内の気
泡を確実に除去することができる。
実施例
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第1図は本発明の一実施例における液注入方法に適用す
る液注入装置を示す概略構成図である。本実施例におい
ては、超音波探触子に超音波伝播液である1、3−ブタ
ンジオールを注入する場合について説明する。
る液注入装置を示す概略構成図である。本実施例におい
ては、超音波探触子に超音波伝播液である1、3−ブタ
ンジオールを注入する場合について説明する。
第1図において、1は真空デシケータであり、真空室2
と3が通路4により連通されている。5は真空室2に納
められた液注入用の超音波探触子、6は超音波探触子5
よりオーバーフローした液を受ける容器、7は真空室3
に納められた送液ポンプ、8は真空室3に納められたホ
ットスターラーであり、超音波探触子5に封入するため
の1,3−ブタンジオール9の脱気を促進するたぬにこ
の1,3−ブタンジオール9を攪拌、加熱する。1oは
1,3−ブタンジオール9を超音波探触子5へ注入のた
めに送液するシリコーン製の送液チューブ、11は通路
4に連通され、真空デシケータ1を真空にするための真
空ポンプ、12は真空室2に連通された真空リークバル
ブ、13と14はそれぞれ真空デシケータ1内の真空度
を測定するための真空ゲージとそのセンサである。
と3が通路4により連通されている。5は真空室2に納
められた液注入用の超音波探触子、6は超音波探触子5
よりオーバーフローした液を受ける容器、7は真空室3
に納められた送液ポンプ、8は真空室3に納められたホ
ットスターラーであり、超音波探触子5に封入するため
の1,3−ブタンジオール9の脱気を促進するたぬにこ
の1,3−ブタンジオール9を攪拌、加熱する。1oは
1,3−ブタンジオール9を超音波探触子5へ注入のた
めに送液するシリコーン製の送液チューブ、11は通路
4に連通され、真空デシケータ1を真空にするための真
空ポンプ、12は真空室2に連通された真空リークバル
ブ、13と14はそれぞれ真空デシケータ1内の真空度
を測定するための真空ゲージとそのセンサである。
次に、本発明の注入工法について説明する。
まず、真空ポンプ11を駆動し、真空デシケータ1を1
0 ” torr〜10torr(7)真空&ニし、1
,3−ブタンジオール9から脱気する。
0 ” torr〜10torr(7)真空&ニし、1
,3−ブタンジオール9から脱気する。
次に、真空ポンプ11の駆動を停止すると共に、真空リ
ークバルブ12の開放により真空デシケータ1内の真空
度を過渡的に低下させ、送液ポンプ7に対し、送液チュ
ーブ10を介して1.3−ブタンジオール9による呼水
を行う。
ークバルブ12の開放により真空デシケータ1内の真空
度を過渡的に低下させ、送液ポンプ7に対し、送液チュ
ーブ10を介して1.3−ブタンジオール9による呼水
を行う。
その後、真空リークバルブ12を閉じると共に、真空ポ
ンプ11を駆動し、真空デシケータ1の真空度を高め、
送液ポンプ7を駆動して1.3−ブタンジオール9を超
音波探触子5に対し、送液チューブ10を介して供給し
、注入する。そして、超音波探触子5から1.3−ブタ
ンジオール9がオーバーフローすると、送液ポンプ7の
駆動を停止して1,3ブータンジオール9の供給を停止
する。
ンプ11を駆動し、真空デシケータ1の真空度を高め、
送液ポンプ7を駆動して1.3−ブタンジオール9を超
音波探触子5に対し、送液チューブ10を介して供給し
、注入する。そして、超音波探触子5から1.3−ブタ
ンジオール9がオーバーフローすると、送液ポンプ7の
駆動を停止して1,3ブータンジオール9の供給を停止
する。
次に、具体的実施例について第2図を参照しながら説明
する。第2図は超音波探触子に1゜3−ブタンジオール
を注入する時の工程を真空度(圧力)と時間の関係で示
した図である。
する。第2図は超音波探触子に1゜3−ブタンジオール
を注入する時の工程を真空度(圧力)と時間の関係で示
した図である。
第2図に示すように、まず、1,3−ブタンジオール9
の脱気工程Aでは、6 X 10−’torrの真空度
で定常状態に達した。次に、真空デシケータ1の真空度
を過渡的に低下し、送液ポンプ7に対して呼水を行う呼
水充填工程Bでは、約2Qtorrまで低下することに
より十分に呼水を行うことが可能であった。その後、超
音波探触子5に対し、1.3−ブタンジオール9を注入
する工程Cでは、真空デシケータ1が再び6X10−1
tOrrの真空に達したところで注入を開始し、超音波
探触子5から1,3−ブタンジオール9がオーバーフロ
ーした時点で工程を終了した。
の脱気工程Aでは、6 X 10−’torrの真空度
で定常状態に達した。次に、真空デシケータ1の真空度
を過渡的に低下し、送液ポンプ7に対して呼水を行う呼
水充填工程Bでは、約2Qtorrまで低下することに
より十分に呼水を行うことが可能であった。その後、超
音波探触子5に対し、1.3−ブタンジオール9を注入
する工程Cでは、真空デシケータ1が再び6X10−1
tOrrの真空に達したところで注入を開始し、超音波
探触子5から1,3−ブタンジオール9がオーバーフロ
ーした時点で工程を終了した。
以上の工程で1.3−ブタンジオール9の注入を行った
超音波探触子5の内部には全く気泡が見られず、従来の
ような注入工程以降の脱泡工程を必要とせず、非常に効
率的に注入作業を行うことができた。
超音波探触子5の内部には全く気泡が見られず、従来の
ような注入工程以降の脱泡工程を必要とせず、非常に効
率的に注入作業を行うことができた。
発明の効果
以上述べたように本発明によれば、高真空状態で被注入
体内に送液するための送液ポンプに対し、真空度を過渡
的に低下させて呼水を行うことにより、高真空状態での
送液ポンプによる被注入体に対する送液が可能となり、
被注入体が超音波探触子のように内部に複雑な構造を有
していても確実に液を注入し、被注入体内の気泡を確実
に除去することができる。したがって、従来、注入工程
の後工程として残存していた気泡の確認作業および気泡
を取除く作業(脱泡作業)を必要とせず、効率的な液注
入が可能となる。また、真空度を管理することにより注
入作業を自動化することもでき、したがって、製造効率
の大幅な向上を図ることができる。
体内に送液するための送液ポンプに対し、真空度を過渡
的に低下させて呼水を行うことにより、高真空状態での
送液ポンプによる被注入体に対する送液が可能となり、
被注入体が超音波探触子のように内部に複雑な構造を有
していても確実に液を注入し、被注入体内の気泡を確実
に除去することができる。したがって、従来、注入工程
の後工程として残存していた気泡の確認作業および気泡
を取除く作業(脱泡作業)を必要とせず、効率的な液注
入が可能となる。また、真空度を管理することにより注
入作業を自動化することもでき、したがって、製造効率
の大幅な向上を図ることができる。
第1図は本発明の一実施例における液注入方法に適用す
る液注入装置を示す概略構成図、第2図は第1図に示す
液注入装置を用いて試験した液注入工程を真空度(圧力
)と時間の関係で示した図である。 1・・・真空デシケータ、5・・・超音波探触子、7・
・・送液ポンプ、8・・・ホットスターラー、9・・・
1.3−ブタンジオール(注入液)、10・・・送液チ
ューブ、11・・・真空ポンプ、12・・・真空リーク
バルブ。
る液注入装置を示す概略構成図、第2図は第1図に示す
液注入装置を用いて試験した液注入工程を真空度(圧力
)と時間の関係で示した図である。 1・・・真空デシケータ、5・・・超音波探触子、7・
・・送液ポンプ、8・・・ホットスターラー、9・・・
1.3−ブタンジオール(注入液)、10・・・送液チ
ューブ、11・・・真空ポンプ、12・・・真空リーク
バルブ。
Claims (5)
- (1)高真空状態で被注入体内に送液するための送液ポ
ンプに対し、真空度を過渡的に低下させて呼水を行うこ
とを特徴とする液注入方法。 - (2)過渡的に真空度を低下する時間が20〜400秒
の範囲である請求項1記載の液注入方法。 - (3)高真空状態の真空度が10^−^2torr〜1
0torrの範囲である請求項1記載の液注入方法。 - (4)過渡的に低下させる真空度が10〜50torr
の範囲である請求項1記載の液注入方法。 - (5)注入液は炭素数が2〜5個の範囲の2価、若しく
は3価のアルコールである請求項1記載の液注入方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2202105A JP2574525B2 (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 液注入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2202105A JP2574525B2 (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 液注入方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0484946A true JPH0484946A (ja) | 1992-03-18 |
JP2574525B2 JP2574525B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=16452048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2202105A Expired - Lifetime JP2574525B2 (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 液注入方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2574525B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1767153A1 (en) * | 2004-06-10 | 2007-03-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ultrasonic probe |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5363525A (en) * | 1976-11-19 | 1978-06-07 | Toshiba Corp | Oil processor for attached machinery room to oil-filled electrical equipment |
JPS57123211U (ja) * | 1981-01-28 | 1982-07-31 | ||
JPS60254118A (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-14 | Fujitsu Ltd | 液晶注入装置 |
JPS63302834A (ja) * | 1987-06-04 | 1988-12-09 | Yotsukaichi Gosei Kk | 超音波診断用探触子の接触媒体及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-07-30 JP JP2202105A patent/JP2574525B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
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JPWO2005120356A1 (ja) * | 2004-06-10 | 2008-04-03 | 松下電器産業株式会社 | 超音波探触子 |
EP1767153A4 (en) * | 2004-06-10 | 2008-12-17 | Panasonic Corp | ULTRASONIC PROBE |
US7575552B2 (en) | 2004-06-10 | 2009-08-18 | Panasonic Corporation | Ultrasonic probe with acoustic medium |
JP4588701B2 (ja) * | 2004-06-10 | 2010-12-01 | パナソニック株式会社 | 超音波探触子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2574525B2 (ja) | 1997-01-22 |
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