JP2574525B2 - 液注入方法 - Google Patents

液注入方法

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JP2574525B2
JP2574525B2 JP2202105A JP20210590A JP2574525B2 JP 2574525 B2 JP2574525 B2 JP 2574525B2 JP 2202105 A JP2202105 A JP 2202105A JP 20210590 A JP20210590 A JP 20210590A JP 2574525 B2 JP2574525 B2 JP 2574525B2
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健司 田原
一▲吉▼ 入岡
幸廣 斉藤
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、センサ、あるいはその他の装置等に高真空
下で液を注入する方法、更に詳しくはメカニカルセクタ
走査方式の超音波探触子へ超音波伝播液を注入する方法
に関するものである。
従来の技術 従来、この種の液注入方法としては、液晶ディスプレ
イへの液晶の封入、あるいはエレクトロクロミック材料
の封入等が知られている。これらの液注入方法は、ディ
スプレイの内部に電極が存在するだけの単純な構造であ
るため、内部を真空にして注入液に液封入口を接触さ
せ、ディスプレイの外部の圧力を常圧に戻すことによ
り、ディスプレイ内部を注入液で完全に置換することが
できる。このような真空注入方法は、構造が単純で、か
つその内部容積が比較的小さい場合においては、内部に
気泡を存在させることなく液の注入が可能である。しか
し、内部構造が複雑で、かつその内部容積も大きくなっ
てくると、前述のような単純な真空注入法では効率的に
液注入を行うことができなくなる。このような装置の一
つとしてメカニカルセクタ走査方式の超音波探触子を挙
げることができる。この超音波探触子においては、機構
部品等で構成されている超音波センサ部分を超音波伝播
液で気密に封じなければならない。そこで、従来、超音
波探触子に伝播液を封入するには、約100torrの真空度
まで伝播液と超音波探触子の双方を吸引し、伝播液が脱
気し、平衡状態に達すると、真空容器内に設置されてい
る送液ポンプで伝播液を超音波探触子へ供給し、伝播液
が超音波探触子からオーバーフローすると、容器内を常
圧に戻していた。このときの真空度100torrは、真空状
態での送液が可能な限界の値である。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記従来の送液ポンプを使用する真空
注入方法では、真空度が低く、注入液体で完全に置換す
ることができず、微少の気泡が内部に残存するため、こ
の真空注入の後でこの気泡を除く、脱泡工程を必要とす
る。また、超音波伝播液としては、超音波伝播物性が生
体とほぼ等しくなるように、できるだけ水に近いものが
要求されるため、エチレングリコール、あるいはプロピ
レングリコール、ブタンジオール等の炭素数が2〜5個
の脂肪族系の2価、若しくは3価のアルコールが一般的
に用いられている。これらの液体は、水と同様に比較的
粘性が高く、超音波探触子内部の微少な気泡を系外へ排
出する脱泡作業は非常に難しく、しかも、この脱泡作業
には非常に多くの工程を要していた。
本発明は、このような従来の問題を解決するものであ
り、高真空下で被注入体内に確実に液を注入することが
できて被注入体内の気泡を確実に除去することができ、
したがって、気泡の確認作業および脱泡工程を必要とせ
ず、効率的な液注入を可能とし、また、注入作業の自動
化を図ることができて製造効率を大幅に向上させること
ができるようにした液注入方法を提供することを目的と
するものである。
課題を解決するための手段 上記目的を達成するための本発明の技術的解決手段
は、高真空状態で被注入体内に送液するための送液ポン
プに対し、真空度を過渡的に低下させて呼水を行うよう
にしたものである。
そして、過渡的に真空度を低下する時間としては、20
〜400秒(S)の範囲が良好である。20秒より短いと、
送液ポンプを良好に稼働させることができず、400秒よ
り長いと、注入液中への気体の溶解量が多くなり、再
度、高真空にした時点で気泡が発生し、送液ができなく
なってしまった。したがって、超音波探触子等の被注入
体の種類、超音波伝播液等の注入液の種類によって上記
範囲で任意に設定すればよい。
また、真空度としては注入液の種類により多少変化す
るが、10-2torr〜10torrの範囲であれば、液注入後、超
音波探触子の内部に気泡が検出されることはなかった。
また、過渡的に低下させる真空度の範囲としては、10
〜50torrの範囲が適当である。この範囲を越えて真空度
を低下した場合には、過渡的に真空度を低下する時間の
場合と同様に、再度、高真空状態にし、注入液を送液ポ
ンプで吸引して超音波探触子に送液を行った時に送液チ
ューブ内に気泡が発生し、送液を行うことができなかっ
た。また、逆に10torrを越えた場合には、呼水が不完全
となり、送液を行うことができなかった。
また、超音波探触子の超音波伝播液に用いる注入液と
しては、炭素数が2〜5個の範囲の2価、若しくは3価
のアルコールを用いるのが好ましい。
作用 したがって、本発明によれば、高真空状態で被注入体
内に送液するための送液ポンプに対し、真空度を過渡的
に低下させて呼水を行うことにより、高真空状態での送
液ポンプによる被注入体に対する送液が可能となり、被
注入体が超音波探触子のように内部に複雑な構造を有し
ていても確実に液を注入することができ、被注入体内の
気泡を確実に除去することができる。
実施例 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
第1図は本発明の一実施例における液注入方法に適用
する液注入装置を示す概略構成図である。本実施例にお
いては、超音波探触子に超音波伝播液である1,3−ブタ
ンジオールを注入する場合について説明する。
第1図において、1は真空デシケータであり、真空室
2と3が通路4により連通されている。5は真空室2に
納められた液注入用の超音波探触子、6は超音波探触子
5よりオーバーフローした液を受ける容器、7は真空室
3に納められた送液ポンプであり、この送液ポンプ7は
後述する送液チューブ10を外周部から押圧する複数のロ
ーラが送液方向に回転するものであり、これらのローラ
が回転することにより、送液チューブ10内の注入液が順
次押し出されて送液されるものである。8は真空室3に
納められたホットスターラーであり、調音波探触子5に
封入するための1,3−ブタンジオール9の脱気を促進す
るためにこの1,3−ブタンジオール9を撹拌、加熱す
る。10は1,3−ブタンジオール9を超音波探触子5へ注
入のために送液するシリコーン製の送液チューブ、11は
通路4に連通され、真空デシケータ1を真空にするため
の真空ポンプ、12は真空室2に連通された真空リークバ
ルブ、13と14はそれぞれ真空デシケータ1内の真空度を
測定するための真空ゲージとそのセンサである。
次に、本発明の注入工法について説明する。
まず、真空ポンプ11を駆動し、真空デシケータ1を10
-2torr〜10torrの真空度にし、1,3−ブタンジオール9
から脱気する。次に、真空ポンプ11の駆動を停止すると
共に、真空リークバルブ12の開放により真空デシケータ
1内の真空度を過渡的に低下させる。真空デシケータ1
内の真空度が低下すると送液チューブ10内の真空度も低
下し気体の圧縮特性が回復する。この状態で送液ポンプ
7が稼働すると、送液チューブ10の外周部が送液方向に
順次押圧されることにより、送液チューブ10内の気体が
送液方向に押し出され、1,3−ブタンジオール9が送液
チューブ10内に充填され送液ポンプ7に対して呼水を行
う。その後、真空リークバルブ12を閉じると共に、真空
ポンプ11を駆動し、真空デシケータ1の真空度を高め、
送液ポンプ7を駆動して1,3−ブタンジオール9を超音
波探触子5に対し、送液チューブ10を介して供給し、注
入する。そして、超音波探触子5から1,3−ブタンジオ
ール9がオーバーフローすると、送液ポンプ7の駆動を
停止して1,3ブ−タンジオール9の供給を停止する。
次に、具体的実施例について第2図を参照しながら説
明する。第2図は超音波探触子に1,3−ブタンジオール
を注入する時の工程を真空度(圧力)と時間の関係で示
した図である。
第2図に示すように、まず、1,3−ブタンジオール9
の脱気工程Aでは、6×10-1torrの真空度で定常状態に
達した。次に、真空デシケータ1の真空度を過渡的に低
下し、送液ポンプ7に対して呼水を行う呼水充填工程B
では、約20torrまで低下することにより十分に呼水を行
うことが可能であった。その後、超音波探触子5に対
し、1,3−ブタンジオール9を注入する工程Cでは、真
空デシケータ1が再び6×10-1torrの真空に達したとこ
ろで注入を開始し、超音波探触子5から1,3−ブタンジ
オール9がオーバーフローした時点で工程を終了した。
以上の工程で1,3−ブタンジオール9の注入を行った
超音波探触子5の内部には全く気泡が見られず、従来の
ような注入工程以降の脱泡工程を必要とせず、非常に効
率的に注入作業を行うことができた。
発明の効果 以上述べたように本発明によれば、高真空状態で被注
入体内に送液するための送液ポンプに対し、真空度を過
渡的に低下させて呼水を行うことにより、高真空状態で
の送液ポンプによる被注入体に対する送液が可能とな
り、被注入体が超音波探触子のように内部に複雑な構造
を有していても確実に液を注入し、被注入体内の気泡を
確実に除去することができる。したがって、従来、注入
工程の後工程として残存していた気泡の確認作業および
気泡を取除く作業(脱泡作業)を必要とせず、効率的に
液注入が可能となる。また、真空度を管理することによ
り注入作業を自動化することもでき、したがって、製造
効率の大幅な向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における液注入方法に適用す
る液注入装置を示す概略構成図、第2図は第1図に示す
液注入装置を用いて試験した液注入工程を真空度(圧
力)と時間の関係で示した図である。 1……真空デシケータ、5……超音波探触子、7……送
液ポンプ、8……ホットスターラー、9……1,3−ブタ
ンジオール(注入液)、10……送液チューブ、11……真
空ポンプ、12……真空リークバルブ。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−254118(JP,A) 特開 昭53−63525(JP,A) 特開 昭63−302834(JP,A) 実開 昭57−123211(JP,U)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】室内にて注入液と被注入体との間を送液チ
    ューブで連通し、上記送液チューブの中間に上記注入液
    を送液する送液ポンプを配置し、上記室内を高真空状態
    にして上記注入液の脱気を行い、上記室内の真空度を過
    渡的に低下させた送液ポンプを稼働させて上記送液チュ
    ーブに上記注入液を充填して上記送液ポンプに対して呼
    水を行い、上記室内を高真空状態に戻して上記送液ポン
    プにより上記注入液を上記被注入体に注入することを特
    徴とする液注入方法。
  2. 【請求項2】過渡的に真空度を低下する時間が20〜400
    秒の範囲である請求項1記載の液注入方法。
  3. 【請求項3】高真空状態の真空度が10-2torr〜10torrの
    範囲である請求項1記載の液注入方法。
  4. 【請求項4】過渡的に低下させる真空度が10〜50torrの
    範囲である請求項1記載の液注入方法。
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JPS60254118A (ja) * 1984-05-31 1985-12-14 Fujitsu Ltd 液晶注入装置
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