JPH0483355A - 半導体素子の実装方法 - Google Patents

半導体素子の実装方法

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JPH0483355A
JPH0483355A JP2198773A JP19877390A JPH0483355A JP H0483355 A JPH0483355 A JP H0483355A JP 2198773 A JP2198773 A JP 2198773A JP 19877390 A JP19877390 A JP 19877390A JP H0483355 A JPH0483355 A JP H0483355A
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JP
Japan
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semiconductor element
board
mounting
semiconductor device
bump
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JP2198773A
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English (en)
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Masae Minamizawa
正栄 南澤
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0483355A publication Critical patent/JPH0483355A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 バンプ端子を具えた半導体素子の実装基板やパッケージ
への実装方法に関し、 半導体素子と被実装体との位置合わせ作業の容易化と接
続信顛性の向上とによって生産性の向上を図ることを目
的とし、 電極に接続されたバンプを具えた半導体素子の実装基板
への実装方法であって、片面には半導体素子の各バンプ
と対応する位置に該各バンブと接続する接続電極が形成
され、他面側の実装基板との接続領域には上記接続電極
に繋がる電極端子が形成されている透明な中継端子基板
の上記接続電極に、半導体素子の各バンプを位置決め対
応させて接続した後、該中継端子基板の上記電極端子を
実装基板の各接続領域に対応させてフェースダウン方式
で実装して構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明はバンプ端子を具えた半導体素子の実装基板やパ
ッケージ等に対する実装工程に係り、特に半導体素子と
実装基板やパッケージの如き被実装体との位置合わせ作
業を容易化する出共に接続信頬性を上げて生産性の向上
を図った半導体素子の実装方法に関する。
近年の半導体装置の高集積度化に伴い、半導体素子を実
装基板やパッケージに接続するのに従来のワイヤボンデ
ィング方式からフェイスダウン(フリップチップ)方式
やT A B (Tape AutoII1ated 
Bonding)端子方式に移行しつつあるが、特に前
者の場合ではパン1間ピッチの小さい半導体素子にも適
用できるメリットがあるため多く使用されている。
〔従来の技術〕 第2図は従来のフェイスダウン方式による実装方法を説
明する図であり、(a)は実装前の状態を示し、(b)
は実装後の状態を側面図で表わしたものである。
なお図では被実装体がセラミック等からなる回路基板で
ある場合について説明する。
第2図(a)で、半導体素子1にはその片面の周囲に該
半導体素子1に対応する複数の入出力端子に接続された
バンプ1aが等間隔ピッチpで該面から僅かに突出して
形成されている。
一方被実装体としての回路基板2の表面所定位置には、
上記半導体素子1の各バンプ1aと対応する位置を該各
バンプIaに対する接続電極2aとした導体パターン2
bがパターン形成されている。
そこで、上記半導体素子1をそのバンプ形成面を該回路
基板2に対面させた上で、゛半導体素子lの各バンプ1
aと該基板2の接続電極2aとを対応させて該半導体素
子1を矢印aのように回路基板2に接近させて該基板2
に搭載し、加熱してバンプ1aを溶融することで、側面
図で示す(b)のように該半導体素子1と回路基板2を
バンプ1aと接続電極2aの部分で確実且つ容易に実装
することができる。
しかし最近の如く半導体素子1の集積度が上がってくる
につれて上記バンプ1aの数が多くなり、結果的に該バ
ンブ1a間のピッチpとそれぞれのバンプ1aの大きさ
が小さくなってきている。
従って、該回路基板2に上記半導体素子1をセットする
際の該半導体素子1の回路基板2に対する位置決め精度
を該半導体素子lの集積度の向上に伴って上げる必要が
あるが、該半導体素子1を該回路基板2にセットすると
該基板2の接続電極2aが該半導体素子1に隠されてし
まうため相互の位置ズレによって接続不良が発生し易く
なる欠点がある。
〔発明が解決しようとした課題〕
従来の半導体素子の実装方法では、実装時の相互間の位
置ズレによって接続不良が発生し昌くなると言う問題が
あった。
〔課題を解決するための手段〕
上記問題点は、電極に接続されたバンプを具えた半導体
素子の実装基板への実装方法であって、片面には半導体
素子の各バンプと対応する位置に該各バンブと接続する
接続電極が形成され、他面側の実装基板との接続領域に
は上記接続電極に繋がる電極端子が形成されている透明
な中継端子基板の上記接続電極に、半導体素子の各バン
プを位置決め対応させて接続した後、該中継端子基板の
上記電極端子を実装基板の各接続領域に対応させてフェ
ースダウン方式で実装する半導体素子の実装方法によっ
て解決される。
〔作 用〕
透明基板に形成された導電パターンは該基板の裏面から
目視・認識することができる。
そこで本発明では、片面で半導体素子の各バンプと対応
する位置に該各バンブと接続する接続電極を具えると共
に該接続電極とスルーホールで繋がる裏面側に被実装体
と接続するための電極を設けた上記半導体素子より大き
い透明な中継端子基板を介して、上記半導体素子と該被
実装体とを実装するようにしている。
この場合には、半導体素子と該透明な中継端子基板との
接続状況が該中継端子基板の裏面側から目視できるので
該半導体素子と中継端子基板との接続を確実に行なうこ
とができると共に、該半導体素子が接続された中継端子
基板の該被実装体に対する実装も該中継端子基板の裏面
側から該実装部分が目視できるため両者を確実に接続す
ることができる。
従って、バンプ間ピッチの小さい半導体素子でも被実装
体に容易且つ確実に実装できる実装方法を実現すること
ができる。
〔実施例〕
第1図は本発明になる半導体素子の実装方法の一例を説
明する工程図であり、第2図同様に被実装体が回路基板
なる場合を示している。
なお第2図と同じ対象物には同一番号を付して表わして
いる。
第1図(A)で、半導体素子1には第2図で説明したよ
うにその片面の周囲ムこバンプ1aが等間隔ピッチで僅
かに突出して形成されている。
一方、厚さが例えば0.5a+m程度で上記半導体素子
1より多少大きい大きさの中継端子基板5は、ガラス等
からなる透明基板60片面で上記半導体素子1の各バン
プ1aと対応する位置には該各バンプ1aに対する接続
電極7aが金蒸着等の手段でパターン形成されていると
同時に、該透明基板6の他面側で第2図で説明した回路
基板2の導体パターン2bと対応する位置には該接続電
極7aから僅かに外側に位置する箇所に設けたスルーホ
ール7bで該接続電極7aに繋がる電極端子7cが上記
同様手段でパターン形成されているものである。
そこで、上記半導体素子1をそのバンプ形成面を該中継
端子基板5の接続電極7a形成面に対面させた上で、半
導体素子1の各バンプIaと該基板5の各接続電極7a
とを対応させて矢印すのように接近させて第2図同様の
方法で該中継端子基板5上に接続することで、側面図で
示す(B)のように該半導体素子1の各バンプ1aと該
基板5の各接続電極7aひいては電極端子7cとを接続
させることができる。
特にこの場合には該中継端子基板5自体が透明である。
従って、上記装着時に該基板5の裏面(図では下面)側
から該基板5および上記半導体素子1を目視すると、上
記半導体素子1の各バンプ1aと該基板5の上記接続端
子7aとが共に認識できるので確実な位置合わせを実現
することができる。
なお半導体素子1の集積度がアップして各バンプ1a間
のピッチpが小さくなると、上記手段による位置合わせ
が困難になる。
そこでこのような場合には、該半導体素子1のバンブ1
a形成面の回路余白部の2箇所に例えば図のlb、 l
b” (図では隠された裏面側なるため破線で示してい
る)の如きアングル状のアライメントマークを表示し、
一方中継端子基板5の該アライメントマーク1b、1b
′と対応する位置に同様のアングル状のアライメントマ
ーク6a、6a”を表示することで、これらの各対応す
るアライメントマークlb、 lb”と5a、5a’と
を合致させて両者の位置決めを容易且つ確実に行うよう
にしている。
また(B)の2は第2図で説明した回路基板であり、そ
の表面所定位置には上記半導体素子1の各バンプ1aに
対応する導体パターン2bが第2図で説明したように形
成されている。
そこで、上記半導体素子1が装着された中継端子基板5
を電極端子7c形成面を該回路基板2に対面させた上で
、該電極端子7cと該基板2の導体パターン2bとを対
応させて矢印Cのように該回路基板2上に接続すること
で、側面図で示す(C)のように上記中継端子基板5を
介して該半導体素子1を回路基板2に実装することがで
きる。
なお上述したように中継端子基板5が透明であるため、
実装時に例えば矢印dの方向から目視すると上記中継端
子基板5のスルーホール7bと電極端子7cおよび回路
基板2の各導体パターン2bが共に認識できるので確実
な位置決めと接続が実現できることは上記半導体素子1
と中継端子基板5との場合と同様である。
なお半導体素子lを上述したセラミック等からなる回路
基Ifi2に実装する代わりにパッケージ基板に実装す
る場合でも全く同様の効果が得られることは明らかであ
る。
〔発明の効果〕
上述の如く本発明により、半導体素子と実装基板やパッ
ケージの如き被実装体との位置合わせ作業を容易化する
と共に接続信鯨性を上げて生産性の向上を図った半導体
素子の実装方法を提供することができる。
方法を説明する図、 である。図において、 1は半導体素子、  1aはバンブ、 1b+ lb ’ +6a+6a ’はアライメントマ
ーク、2は回路基板、   2bは導体パターン、5は
中継端子基板、 6は透明基板、 7aは接続電極、   7bはスルーホール、7cは電
極端子、 をそれぞれ表わす。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明になる半導体素子の実装方法の一例を説
明する工程図、 第2図は従来のフェイスダウン方式による実装(I2) (b) 第 1 凹 従来のフェイスダウン方式ノこよ:5尖装方威を晩期す
る図第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電極に接続されたバンプを具えた半導体素子の実
    装基板への実装方法であって、 片面には半導体素子(1)の各バンプ(1a)と対応す
    る位置に該各バンプ(1a)と接続する接続電極(7a
    )が形成され、他面側の実装基板との接続領域には上記
    接続電極(7a)に繋がる電極端子(7c)が形成され
    ている透明な中継端子基板(5)の上記接続電極(7a
    )に、半導体素子(1)の各バンプ(1a)を位置決め
    対応させて接続した後、 該中継端子基板(5)の上記電極端子(7c)を実装基
    板の各接続領域に対応させてフェースダウン方式で実装
    することを特徴とした半導体素子の実装方法。
  2. (2)前記半導体素子と中継端子基板の接続時の位置決
    めを、上記半導体素子(1)のバンプ形成面の余白部に
    設けた複数のアライメントマーク(1b、1b′)と該
    各アライメントマーク(1b、1b′)に対応して中継
    端子基板(5)に設けたアライメントマーク(6a、6
    a′)とを合致させて行うことを特徴とした請求項1記
    載の半導体素子の実装方法。
JP2198773A 1990-07-25 1990-07-25 半導体素子の実装方法 Pending JPH0483355A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7240432B2 (en) * 2000-03-22 2007-07-10 Fujitsu Limited Method of manufacturing a semiconductor device testing contactor having a circuit-side contact piece and test-board-side contact piece

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7240432B2 (en) * 2000-03-22 2007-07-10 Fujitsu Limited Method of manufacturing a semiconductor device testing contactor having a circuit-side contact piece and test-board-side contact piece

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