JPH0482866A - 新規エーテルジアミンおよびその製造方法 - Google Patents

新規エーテルジアミンおよびその製造方法

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JPH0482866A JP19390790A JP19390790A JPH0482866A JP H0482866 A JPH0482866 A JP H0482866A JP 19390790 A JP19390790 A JP 19390790A JP 19390790 A JP19390790 A JP 19390790A JP H0482866 A JPH0482866 A JP H0482866A
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桂三郎 山口
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、4.4“−ビス〔3−(または4−)(4−
アミノフェノキシ)フェノキシ]ベンゾフェノンおよび
その製造方法に関する。
この4.4”−ビス〔3−(または4−)(4−アミノ
フェノキシ)フェノキシフヘンシフエノン(以下、AP
PBと略記する)はポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、
ポリアミドマレイミド樹脂およびビスマレイミド樹脂等
の原料として有用である。
〔従来の技術〕
本発明のAPPBは、かって製造された例がなく、した
がって、その用途についても知られていない。
しかしながら、ポリイミド樹脂として利用した場合、繰
り返し構造単位は、ポリエーテルエーテルケトン樹脂(
商品名PEEK、IC1社製)と類似の構造を持つ各種
性能の優れた樹脂が期待できる。すなわち、本発明のA
PPBをポリイミド樹脂とした場合、構造単位中の連結
基は、エーテル−エーテル−ケトン−エーテル−エーテ
ル−イミドを有するものとなる。
このような樹脂を与える長鎖エーテル−ケトン連結基か
らなるジアミン化合物は知られていないが、類似の構造
として下記式(II) CI+3        0           C
tL+(TI) で表されるジアミン化合物が知られている(特開昭62
−10051)。
(発明が解決しようとする課題〕 式(II)で表されるジアミン化合物は、かって、本発
明者等によって見出されたものであるが、このジアミン
化合物をポリイミド°樹脂の原料として利用した場合、
その樹脂は、成型加工が可能であり、可撓性、機械的特
性等の優れた諸性能が得られる。
しかしながら、分子内の連結基に2ケのイソプロピリデ
ン基を有するためか、樹脂としての耐熱性に若干の問題
が認められている。
耐熱樹脂を先端複合材用のマトリックスレジンとして利
用する場合、機械的特性、加工性とともに耐熱性、特に
長期間の高温における安定性が重要である。このような
要求性能に対して前述の式(IT)で表されるジアミン
化合物を用いた樹脂では、未だ満足させることができな
いのが現状である。
本発明の課題は、機械的特性、加工性とともに耐熱性の
優れた樹脂を得るためのジアミン化合物と、その製造方
法を提供することである。
〔課題を解決だめの手段〕
本発明者らは、本発明の目的を達成すべく鋭意検討した
結果、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、前記一般式(1)で表される4、
4゛−ビス〔3−(または1−)(4−アミノフェノキ
シ)フェノキシ)ヘンシフエノンの提供と4,4“−ジ
ハロゲノヘンシフエノンと3−(または4−)ヒドロキ
シ−4゛−アミノジフェニルエーテルを非プロトン性極
性溶媒中、塩基の存在下に反応させることを特徴とする
4、4゛−ビス(3(または4−)(4−アミノフェノ
キシ)フェノキシ]ベンゾフェノンの製造方法である。
一般式(I)で表される本発明のAPPBは、前述した
ようにベンゼン環6ケを有し、連結基としてエーテルお
よびカルボニル基から成る2種の長鎖ジアミン化合物で
ある。このAPPBを繰り返し単位の一種として得られ
る樹脂においては、エーテル結合やカルボニル結合が熱
に対して比較的安定であることから、樹脂の耐熱性は良
好であるこ七が考えられる。また、これらの結合基を有
すること、およびモノマー分子鎖が長いこと等から、樹
脂の成型加工性や可撓性にも優れることが予想される。
このような有用な樹脂を与えるAPPBの製造法につい
て述べる。
本発明の方法で使用する原料は、4,4゛−ジハロゲノ
ヘンシフエノンと3−(または4−)ヒドロキシ−4°
−アミノジフェニルエーテルであり、3(または4−)
ヒドロキシ−4′−アミノジフェニルエーテルの使用量
は、4.4゛−ジハロゲノベンゾフェノンに対して2倍
モル以上あれば良く、好ましくは2〜3倍モル量である
本発明の方法で使用される4、4°−ジハロゲノヘンシ
フエノンとしては、4,4゛−ジクロロベンゾフェノン
、4.4’−ジフルオロペンヅフェノン、4,4゛ジブ
ロムベンゾフエノン等であり、工業的には4.4゛−ジ
クロロベンゾフェノンが用いられる。
また、3−(または4−)ヒドロキシ−4゛−アミノジ
フェニルエーテルは、従来、レゾルシンまたはハイドロ
キノンとp−クロロニトロヘンゼンを塩基の存在下、非
プロトン性極性溶媒中で縮合後、還元することにより製
造されている(例えば、ドイツ特許第21.57781
 、第2847662 、ヨーロッパ特許第3562号
)。レゾルシンを原料とした場合、3−ヒドロキシ−4
゛−アミノジフェニルエーテルであり、ハイドロキノン
を原料とした場合は、4ヒドロキシ−4゛−アミノジフ
ェニルエーテルである。
本発明の方法で使用する塩基性アルカリ金属化合物は、
アルカリ金属の水酸化物、炭酸水素塩およびアルコキシ
F類であり、具体的には水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム
、炭酸リチウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、カリウムエトキシド、カリ・ウムイソプロボキシド
、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよび
リチウムエトキシド等が挙げられる。これは単独は勿論
、2種類以上を併用しても特に差しつかえない。
これら塩基性アルカリ金属化合物は、原料の3(または
4−)ヒドロキシ−4゛−アミノジフェニルエーテルと
当量以上あれば良(、好ましくは1〜1.5倍量である
次に、この方法における反応溶媒としては、非プロトン
性極性溶媒を使用する。
この非プロトン性極性溶媒としては、N−メチルホルム
アミド、N、N−ジメチルホルムアミド、NN−ジメチ
ルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルスル
ホン、スルホラン、N−メチルピロリドン、1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリトンおよびリン酸ヘキサメチル
トリアミド等が挙げられる。これら溶剤の使用量は特に
限定されないが、通常、原料に対して1〜10重景倍重
量分である。
反応温度は、通常100〜200°Cの範囲であり、好
ましくは120〜200°Cの範囲である。
本発明の方法においては、4級アンモニア塩、4級ホス
ホニウム塩、クラウンエーテルのような大環状ポリエー
テル、クリプテートのような含窒素鎖状ポリエーテル、
ポリエチレングリコールおよびそのアルキルエーテルの
ような相間移動触媒および銅粉、銅塩などを反応促進剤
として加えてもよい。
本発明の方法における一般的な実施態様としては、所定
量の3−(または4−)ヒドロキシ−4゜アミノジフェ
ニルエーテル、アルカリ金属化合物および溶媒を装入し
、3−(または4−)ヒドロキシ−4゛−アミノジフェ
ニルエーテルを金属塩とした後、4,4°−ジハロゲノ
ベンゾフェノンを加え反応させるか、あるいは、4,4
゛−ジハロゲノベンゾフェノンを含む全原料を同時に加
え、そのまま昇温しで反応させるかのいずれであっても
良い。
勿論、これらに限定されるものでなく、その他の方法に
より実施することも出来る。
反応系内に水が生成する場合、それを除去する方法とし
ては、窒素ガス等を通気させることによって、徐々に系
外に除去する方法、あるいはベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロヘンゼン等を少量使用して共沸により糸外
へ取り除く方法でも良い。
この反応の終点は、薄層クロマトグラフィーまたは高速
液体クロマトグラフィーにより原料または未反応中間体
(モノ置換体)の減少を見ながら決定することができる
反応終了後、上記の方法により得られた反応液をそのま
ま水等に排出するか、また濾過によって無機塩を除去し
た後、溶媒を濃縮して粗製品を得る。得られた粗製品を
溶剤により再結晶を行なうか、あるいは塩酸など鉱酸の
添加によって鉱酸塩として析出させ、中和して目的物を
得る方法がある。
[作用および効果〕 本発明は、新規なエーテルジアミンおよびそれらの製造
方法を提供するものである。
本発明のジアミンを原料とした樹脂は、耐熱性、可撓性
、機械的特性等で優れた性質が期待できる。
また、本発明の製造方法は、原料の入手が容易で高純度
、高収率で製造できる方法である。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
実施例1 1!セパラブルフラスコに4,4”−ジクロロベンゾフ
ェノン55.7 g  (0,23モル)、3−ヒドロ
キシ4−アミノジフェニルエーテル96.5 g  (
0,48モル)と96%水酸化カリウム29.2 g 
 (0,49モル)および1.3−ジメチル−2−イミ
ダブリトン750mRを装入し、160〜170°Cで
6時間反応する。反応終了後、冷却し、濾過して無機塩
を除去する。
次に、この濾液を減圧蒸留により溶剤を留去した後、冷
却して35%塩酸57g、90%イソプロピルアルコー
ル水溶液1Nを装入して、加熱溶解させる。次に、攪拌
しながら20°Cに冷却すると、塩酸塩結晶が析出する
。これを濾過し、この塩酸塩結晶をイソプロピルアルコ
ール1!中にてアンモニア水により中和し、濾過、水洗
、乾燥してトルエン溶媒により再結晶を行い、4,4゛
−ビス〔3(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕ベン
ゾフェノンの微褐色結晶を得た。
収量:  109.6g (収率82%)融点;132
〜134°C 高速液体クロマトグラフィーによる純度は、99.0%
であった。
また、元素分析値、マススペクトルおよびIRスペクト
ルの結果は、以下の通りである。
元素分析値 HN 計算値(%)   76.55  4.83  4.8
3分析値(%)76.82  4.95  4.72M
5  (FD):  580”” I R(KBr; cm−’)  : 3450 (ア
ミノ基)1640 (カルボニル基) 1220 (エーテル結合) 実施例2 1Pセパラブルフラスコに、4.4”−ジクロロベンゾ
フェノン57.7 g  (0,23モル)、4−ヒド
ロキシ−4゛−アミノジフェニルエーテル96.5 g
  (0,48モル)、炭酸カリウム47.6 g  
(0,35モル)および1.3−ジメチル−2−イミダ
ブリトン800mff1を装入し、180〜190°C
で12時間反応した。反応終了後、冷却し、濾過して無
機塩を除去する。次に、この濾液を減圧蒸留により溶削
を留去したのち、冷却して、35%塩酸57g、イソプ
ロピルアルコールIPを装入してを晶析させる。これを
濾過し、この塩酸塩結晶をイソプロピルアルコール1!
中でアンモニア水により中和し、濾過、水洗、乾燥後、
トルエン溶媒により再結晶を行い、4,4′−ビスC4
−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕ヘンシフエノ
ンの微褐色結晶105g(収率78.7%)を得た。
融点=189〜191°C 高速液体クロマトグラフィーによる純度は、99.2%
であった。
また、元素分析値、マススペクトルおよびIRスペクト
ルの結果は、以下の通りである。
元素分析値 HN 計算値(%)76.55  4.83  4.83分析
値(%)   76.92  4.66  4.80M
5  (FD)  :  580”!□)I R(KB
r; cm−’)  :34TO(アミノ基)1650
 (カルボニル基) 1220 (エーテル結合) 実施例3 1f!、セパラブルフラスコに4,4゛−ジフルオロヘ
ンシフエノン50.1 g  (0,23モル)、3−
ヒドロキシ−4“−アミノジフェニルエーテル96.5
 g  (0,48モル)と炭酸カリウム4L6 g 
 (0,35モル)およびN、N−ジメチルホルムアミ
ド800mRを装入し、145〜150“Cで14時間
反応する。反応終了後、実施例1と同様の方法で後処理
を行い、4,4゛−ビス〔3(4−アミノフェノキシ)
フェノキシ]ヘンシフエノン105g  (収率78.
7%)を得た。
高速液体シロマドグラフィーによる純度は、99.1%
であった。
実施例4 500mEセパラブルフラスコに4,4゛−ジフルオロ
ヘンシフエノン21.8g(0,1モル)、4−ヒドロ
キシ−4゛−アミノジフェニルエーテル42.2 g 
 (0,21モル)、炭酸カリウム20.7g  (0
,15モル)およびN、N−ジメチルホルムアミド40
0威を装入し、145〜150°Cで15時間反応する
。反応終了後、後処理を実施例2と同様な方法で行い、
4,4゛−ビス1:4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ノキシ]ヘンシフエノン46.4g  (収率80%)
を得た。
純度は、99.0%であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表される4,4’−ビス〔3−(または4−)(4−
    アミノフェノキシ)フェノキシ〕ベンゾフェノン。 2)4,4’−ジハロゲノベンゾフェノンと3−(また
    は4−)ヒドロキシ−4’−アミノジフェニルエーテル
    を非プロトン性極性溶媒中、塩基の存在下で反応させる
    ことを特徴とする4,4’−ビス〔3−(または4−)
    (4−アミノフェノキシ)フェノキシ〕ベンゾフェノン
    の製造方法。
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