JPH0481960U - - Google Patents
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- JPH0481960U JPH0481960U JP12408790U JP12408790U JPH0481960U JP H0481960 U JPH0481960 U JP H0481960U JP 12408790 U JP12408790 U JP 12408790U JP 12408790 U JP12408790 U JP 12408790U JP H0481960 U JPH0481960 U JP H0481960U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporated
- electron beam
- electrons
- substance
- beam evaporation
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は、本考案に基づく電子ビーム蒸着装置
の一実施例を示す図、第２図は、その一部斜視図
、第３図は、従来の電子ビーム蒸着装置を示す図
である。 １……電子銃、２……ルツボ、３……被蒸発物
質、４……電磁石、５……ポールピース、６……
反射電子吸収板、７……フイルム、８……ロール
、９……絞り板、１０……開口、１１……遮蔽板
、１２……電磁石、１３……ポールピース。
の一実施例を示す図、第２図は、その一部斜視図
、第３図は、従来の電子ビーム蒸着装置を示す図
である。 １……電子銃、２……ルツボ、３……被蒸発物
質、４……電磁石、５……ポールピース、６……
反射電子吸収板、７……フイルム、８……ロール
、９……絞り板、１０……開口、１１……遮蔽板
、１２……電磁石、１３……ポールピース。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 電子ビームを被蒸発物質近傍に形成された
磁場によつて偏向し、該被蒸発物質に電子ビーム
を照射して該物質を加熱蒸発させ、蒸発した物質
を被蒸着材料に蒸着させるようにした電子ビーム
蒸着装置において、該被蒸着材料の前部に、被蒸
発物質への電子ビームの照射に基づいて発生し該
被蒸着材料に向かう反射電子や２次電子をトラツ
プする遮蔽板を設けたことを特徴とする電子ビー
ム蒸着装置。 (2) 前記被蒸着材料に接近した位置に反射電子
や２次電子を偏向する偏向手段を設け、前記被蒸
着材料に向かう反射電子や２次電子を偏向して遮
蔽板にトラツプするように構成した請求項１記載
の電子ビーム蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12408790U JPH0481960U (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12408790U JPH0481960U (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0481960U true JPH0481960U (ja) | 1992-07-16 |
Family
ID=31871757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12408790U Pending JPH0481960U (ja) | 1990-11-26 | 1990-11-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0481960U (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0867970A (ja) * | 1994-08-30 | 1996-03-12 | Nec Corp | 電子銃蒸着装置 |
| JP2011074442A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Mitsubishi Electric Corp | 真空蒸着装置 |
| JP2013170272A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Hitachi Zosen Corp | 電子ビーム蒸着装置 |
| WO2016052246A1 (ja) * | 2014-10-03 | 2016-04-07 | 株式会社村田製作所 | 電子ビーム蒸着装置および薄膜作製方法 |
-
1990
- 1990-11-26 JP JP12408790U patent/JPH0481960U/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0867970A (ja) * | 1994-08-30 | 1996-03-12 | Nec Corp | 電子銃蒸着装置 |
| JP2011074442A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Mitsubishi Electric Corp | 真空蒸着装置 |
| JP2013170272A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Hitachi Zosen Corp | 電子ビーム蒸着装置 |
| WO2016052246A1 (ja) * | 2014-10-03 | 2016-04-07 | 株式会社村田製作所 | 電子ビーム蒸着装置および薄膜作製方法 |
| JPWO2016052246A1 (ja) * | 2014-10-03 | 2017-04-27 | 株式会社村田製作所 | 電子ビーム蒸着装置および薄膜作製方法 |
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