JPH01161260U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH01161260U JPH01161260U JP5659388U JP5659388U JPH01161260U JP H01161260 U JPH01161260 U JP H01161260U JP 5659388 U JP5659388 U JP 5659388U JP 5659388 U JP5659388 U JP 5659388U JP H01161260 U JPH01161260 U JP H01161260U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wall
- vacuum evaporation
- protrusion
- evaporation apparatus
- electron gun
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図は本考案装置の壁の一例を示す断面図で
、第2図のA部に相当する図、第2図は従来装置
を示す図、第3図は蒸着装置の反電子銃側の熱流
束分布の一試算例結果図、第4図は反射電子軌跡
の一試算例結果図である。 1……電子銃、2……電子ビーム、3……電磁
コイル、4……るつぼ、5……金属蒸気、6……
壁、7……蒸着板、9……加熱器、11……真空
チヤンバ、12……蒸着金属、13……反射電子
、15……内壁、16……孔又はスリツト、17
……外壁、18……電源、19……突起、20…
…反射電子(散乱熱流束)。
、第2図のA部に相当する図、第2図は従来装置
を示す図、第3図は蒸着装置の反電子銃側の熱流
束分布の一試算例結果図、第4図は反射電子軌跡
の一試算例結果図である。 1……電子銃、2……電子ビーム、3……電磁
コイル、4……るつぼ、5……金属蒸気、6……
壁、7……蒸着板、9……加熱器、11……真空
チヤンバ、12……蒸着金属、13……反射電子
、15……内壁、16……孔又はスリツト、17
……外壁、18……電源、19……突起、20…
…反射電子(散乱熱流束)。
Claims (1)
- 電子銃加熱による真空蒸着装置において、少な
くともるつぼ内蒸着金属表面から反射する電子が
到達する壁を内壁と外壁の二重構造とし、該内壁
に孔又はスリツトを設け、該外壁を導電性及び伝
熱性に優れた材質で構成すると共に、該外壁表面
に突起を該突起先端が前記内壁の孔又はスツリト
に対応して該内壁より内側に達するように設け、
かつ前記内壁の外壁との間に電位差をかけること
ができるようにしたことを特徴とする真空蒸着装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5659388U JPH01161260U (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5659388U JPH01161260U (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01161260U true JPH01161260U (ja) | 1989-11-09 |
Family
ID=31282464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5659388U Pending JPH01161260U (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01161260U (ja) |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP5659388U patent/JPH01161260U/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH01161260U (ja) | ||
JPH04228562A (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPS57155369A (en) | High vacuum ion plating method and apparatus | |
JPH051895Y2 (ja) | ||
JP3961158B2 (ja) | 電子ビーム蒸発装置 | |
JPS63106758U (ja) | ||
JPS5818211Y2 (ja) | 電子銃 | |
JP4515158B2 (ja) | 電子ビームガンおよびプラズマ装置 | |
JPH0719081Y2 (ja) | イオン源 | |
JPS6159661U (ja) | ||
JPS6328515Y2 (ja) | ||
JPH03158458A (ja) | クラスターイオンビーム装置 | |
JPS63110564U (ja) | ||
JPS6451662U (ja) | ||
JPH01161259U (ja) | ||
JPH02119344U (ja) | ||
JPH0399765U (ja) | ||
JPS63123667U (ja) | ||
JPS6394957U (ja) | ||
JPH03294474A (ja) | 膜形成装置 | |
JPS63110563U (ja) | ||
JPH0173749U (ja) | ||
JPH03177567A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS62182970U (ja) | ||
JPH0282865U (ja) |