JPH0399765U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0399765U JPH0399765U JP839390U JP839390U JPH0399765U JP H0399765 U JPH0399765 U JP H0399765U JP 839390 U JP839390 U JP 839390U JP 839390 U JP839390 U JP 839390U JP H0399765 U JPH0399765 U JP H0399765U
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- JP
- Japan
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- film
- substrate
- metal material
- evaporation source
- metal
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- Pending
Links
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- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 6
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- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 4
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
第１図は、本考案による真空蒸着装置の要部で
ある蒸発源の一部展開斜視図、第２図ａとｂは前
記蒸発源を備えた真空蒸着装置の側面と上面図、
第３図は前記蒸発源の側面断面図、第４図ａとｂ
は従来技術による真空蒸着装置の概要を説明する
ための側面と上面図である。 １０……蒸発源、１１……フイラメント線、１
２……セラミツクパイプ、１３……開口部、１４
……金属材料、１５……凹部、２０……真空槽、
３０……基板。
ある蒸発源の一部展開斜視図、第２図ａとｂは前
記蒸発源を備えた真空蒸着装置の側面と上面図、
第３図は前記蒸発源の側面断面図、第４図ａとｂ
は従来技術による真空蒸着装置の概要を説明する
ための側面と上面図である。 １０……蒸発源、１１……フイラメント線、１
２……セラミツクパイプ、１３……開口部、１４
……金属材料、１５……凹部、２０……真空槽、
３０……基板。
Claims (1)
- 金属膜を形成する金属材料を加熱蒸発させる蒸
発源に成膜面を向けて基板を配置し、前記金属材
料を加熱、蒸発し、その蒸気を前記基板の成膜面
上に凝着させて金属膜を形成する真空蒸着装置に
おいて、前記蒸発源が、螺旋状に巻かれたフイラ
メント線の少なくともその外側が、金属材料が収
納される凹部が内周面中央部に形成された円筒形
状のセラミツクパイプで被われてなり、さらに、
前記セラミツクパイプの開口した端部が向いた方
向に基板を配置したことを特徴とする真空蒸着装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP839390U JPH0399765U (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP839390U JPH0399765U (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0399765U true JPH0399765U (ja) | 1991-10-18 |
Family
ID=31512024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP839390U Pending JPH0399765U (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0399765U (ja) |
-
1990
- 1990-01-31 JP JP839390U patent/JPH0399765U/ja active Pending